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公开(公告)号:KR1020000059689A
公开(公告)日:2000-10-05
申请号:KR1019990007495
申请日:1999-03-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/136
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a thin film transistor substrate for a liquid crystal display device is provided to reduce the number of steps of manufacturing in order to reduce the cost. CONSTITUTION: A method for manufacturing a thin film transistor substrate for a liquid crystal display device includes following steps. At the first step, a gate interconnection(22,24,26) including gate line, gate electrode and gate pad is formed on an insulation substrate using a first mask. At the second step, a gate insulation layer(30), a semiconductor layer, a contact layer and a conductive layer(60) are vaporized on the gate interconnection sequentially. At the third step, a double photosensitive layer(200,100) including a high sensitivity photosensitive layer and a low sensitivity photosensitive layer is coated on the conductive layer. At the forth step, a first photosensitive pattern is formed by developing the double photosensitive layer. At the fifth step, the conductive layer, the contact layer and the semiconductor layer are etched by using the first photosensitive layer as a mask. At the sixth step, a passivation pattern covering the data interconnection is formed. At the seventh step, a transparent conductive layer is formed on the passivation layer. At the eighth step, a second auxiliary pad pattern is formed by etching the transparent conductive layer using a forth mask.
Abstract translation: 目的:提供一种制造用于液晶显示装置的薄膜晶体管基板的方法,以减少制造步骤以降低成本。 构成:制造液晶显示装置薄膜晶体管基板的方法包括以下步骤。 在第一步骤中,使用第一掩模在绝缘基板上形成包括栅极线,栅电极和栅极焊盘的栅极互连(22,24,26)。 在第二步骤中,门绝缘层(30),半导体层,接触层和导电层(60)依次在栅极互连上蒸发。 在第三步骤中,在导电层上涂覆包括高灵敏度感光层和低灵敏度感光层的双重感光层(200,100)。 在第四步骤中,通过使双光敏层显影来形成第一感光图案。 在第五步骤中,通过使用第一感光层作为掩模来蚀刻导电层,接触层和半导体层。 在第六步,形成覆盖数据互连的钝化图形。 在第七步骤中,在钝化层上形成透明导电层。 在第八步骤中,通过使用第四掩模蚀刻透明导电层来形成第二辅助焊盘图案。
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公开(公告)号:KR1020000021813A
公开(公告)日:2000-04-25
申请号:KR1019980041086
申请日:1998-09-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: A device is provided to reduce the glass substrate's thickness of an assembling substrate through a surface polishing and to reduce the whole thickness of an LCD module. CONSTITUTION: An apparatus for polishing an assembling substrate comprises a table(10) for fixing a plate shaped assembling substrate and a rolling plate(20) relatively moving to the table for fixing an assembling substrate. The table is fixed and the rolling plate is rotated by installing a driving device. Also, an inserting groove(4) forming a combining groove(4b) and a vacuum hole(4c) inserts an absorbing plate(3) and the absorbing plate is settled in a step sill(4a). Then, a combining projection(3a) is formed in the lower face of the absorbing plate which is confront with the combining groove so as to fix the absorbing plate inside the inserting groove.
Abstract translation: 目的:提供一种通过表面抛光来减少玻璃基板的组装基板的厚度并降低LCD模块的整体厚度的装置。 构成:用于抛光组装衬底的装置包括用于固定板状组装衬底的台子(10)和相对移动到桌子以固定组装衬底的滚动板(20)。 桌子是固定的,滚动板通过安装驱动装置而旋转。 此外,形成合成槽(4b)和真空孔(4c)的插入槽(4)插入吸收板(3),并且吸收板在台阶(4a)中沉降。 然后,在与组合槽相对的吸收板的下表面上形成组合凸起(3a),以将吸收板固定在插入槽内。
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公开(公告)号:KR100234374B1
公开(公告)日:1999-12-15
申请号:KR1019970010380
申请日:1997-03-25
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 남효락
IPC: G02F1/1343
Abstract: 다중복구가 가능한 데이터라인을 구비하는 인 플레인 스위칭 모드의 액정 표시장치에 대해 기재되어 있다. 이 액정 표시장치는 데이터라인, 상기 데이터라인과 평행하게 형성되며, 절연막에 의해 이격된 공통전극 및 대향전극을 구비하는 제1 기판과, 제1 기판과 소정거리 이격되어 대향하며 전극을 포함하지 않은 제2 기판과, 제1 기판의 이면에 배치된 편광자와, 제2 기판의 이면에 배치된 분광자, 및 제1 및 제2 기판 사이의 공간에 봉입된 액정층을 구비한다.
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公开(公告)号:KR1019990079887A
公开(公告)日:1999-11-05
申请号:KR1019980012774
申请日:1998-04-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/136
Abstract: 액정 표시 장치의 기판 위에 박막 트랜지스터를 형성하고, 그 위에 유동성 유기 절연 재료를 코팅하여 평탄화된 보호막을 형성한다. 유기 절연막 위에 포토 레지스트를 한 층 도포한 다음, 드레인 전극을 드러내는 접촉구를 형성하기 위한 마스크를 사용하여 1차 노광하고, 유기 절연막 돌기를 형성하기 위한 마스크를 사용하여 2차 노광한 후 현상하여 유기 절연막 돌기를 형성한다. 유기 절연막을 사진 공정이 가능한 재료로 형성하였다면, 포토레지스트를 도포할 필요 없이 바로 노광, 현상할 수 있다. 이 때 사용된 포토레지스트가 양성(positive) 포토레지스트인 경우는 접촉구를 형성하기 위한 1차 노광에서의 노광 에너지가 돌기를 형성하기 위한 2차 노광에서의 노광 에너지보다 커야 한다. 반대로 음성(negative) 포토레지스트를 사용한 경우라면 1차 노광 에너지가 2차 노광 에너지보다 작아야 한다. 돌기가 형성된 유기 절연막 위에 ITO 화소 전극을 형성한다.
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公开(公告)号:KR1019990034037A
公开(公告)日:1999-05-15
申请号:KR1019970055514
申请日:1997-10-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/136
Abstract: 한 기판 내에 박막 트랜지스터, 컬러 필터 및 차광막을 모두 형성한다. 화소 전극은 유동성이 있는 ITO를 컬러 필터 상부에 도포하고, 컬러 필터 자체를 비저항이 낮은 물질로 형성함으로써 화소 전극을 따로 형성하지 않고 컬러 필터가 화소 전극의 역할을 겸하게 할 수도 있다. 이 기판과 대응되는 또 다른 기판에는 투명 전극만 전면적으로 형성한 후 조립함으로써 액정 표시 장치를 완성할 수 있다. 이와 같이, 박막 트랜지스터, 컬러 필터 및 차광막 공정을 비롯한 그 외의 성막 공정이 한 기판에 집중되어 있어서 또 다른 한 기판 공정을 단순화 할 수 있다. 따라서, 하나의 기판에 대해서는 얇은 두께의 기판을 사용하는 것이 가능해 진다.
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公开(公告)号:KR1019990031315A
公开(公告)日:1999-05-06
申请号:KR1019970051971
申请日:1997-10-10
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 남효락
IPC: G02F1/136
Abstract: 다수의 화소로 이루어진 액티브 영역내에 정렬 키를 삽입한 LCD 패널을 형성한다. 이 때, LCD 패널은 게이트 패턴, 게이트 절연막, 비정질 실리콘층, 도핑된 비정질 실리콘층, 데이터 패턴, 보호막, 투명 도전막을 각각 형성하는 공정과, 연속적인 패턴을 정렬하기 위한 정렬 키를 액티브 영역내에 형성하는 공정을 수행함으로써 제조한다.
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公开(公告)号:KR100601193B1
公开(公告)日:2006-07-13
申请号:KR1019990013666
申请日:1999-04-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/136 , G02F1/1335
Abstract: 본 발명은 컬러패턴 온 어레이형 액티브 메트릭스 기판의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 먼저, 베이스판상에 게이트 전극층, 게이트 절연층 및 액티브 패턴을 형성시킨 후, 예컨대, 스퍼터링 등의 증착공정을 이용하여, 게이트 절연층상에 전착판을 형성하고, 예컨대, 스퍼터링 등의 증착공정을 이용하여 상술한 전착판과 전기적으로 접촉되도록 소오스·드레인 전극층을 형성한다. 이어서, 소오스·드레인 전극층이 커버되도록 전착판상에 유기막을 형성한다. 이 유기막은 박막트랜지스터의 패시베이션막으로 작용한다. 계속해서, 일련의 전착공정을 진행하여, 상술한 전착판의 일정 영역에, 원하는 색조의 컬러패턴을 형성한다.
이후, 드레인 전극층의 일부가 콘택홀을 통해 노출되도록 상술한 유기막을 이차 패터닝한 후, 드레인 전극과 전기적으로 접촉되도록 유기막의 상부에 화소전극층, 예컨대, ITO 전극층을 형성시킴으로써, 본 발명에 따른 컬러패턴 온 어레이형 액티브 메트릭스 기판을 제조 완료한다.
이러한 본 발명이 달성되는 경우, 생산라인에서는 종래의 여러 가지 문제점, 예컨대, "최종 출력되는 화상의 불균일", "화소전극층의 콘택불량", "불필요한 컬러필터 원료의 낭비" 등을 미리 차단시킬 수 있다.-
公开(公告)号:KR100508021B1
公开(公告)日:2005-11-08
申请号:KR1019970080240
申请日:1997-12-31
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 남효락
IPC: G02F1/133
Abstract: 본 발명은 액티브 영역이 제1 및 제2 숏을 포함하는 다수의 숏으로 분할 노광되어 형성되는 액정 표시 장치 패널로서, 제1 숏의 모퉁이 부분에는 인접하는 숏간의 정렬을 위해 사용되는 제1 정렬키가 형성되며, 제2 숏의 모퉁이 부분에는 제2 정렬키가 형성된다. 여기서, 제1 숏과 제2 숏은 동일한 마스크로 형성할 수 있으며, 이 경우 제1 숏과 제2 숏은 각각 직사각형 모양으로 형성하고, 제1 정렬키와 제2 정렬키를 각각 제1 숏과 제2 숏의 네 개의 모퉁이 부분에 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 제1 숏과 제2 숏은 다른 마스크로 형성할 수도 있다. 이들 제1 정렬키와 제2 정렬키는 'ㄱ'자 모양으로 형성하는 것이 바람직하다.
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公开(公告)号:KR100502157B1
公开(公告)日:2005-10-19
申请号:KR1019980010858
申请日:1998-03-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/1335
Abstract: 본 발명은 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크에 관한 것으로, 본 발명에서는 스웰링 현상을 고려하여 디자인된 마스킹 패턴층을 통해, 유기 블랙 매트릭스의 패턴을 형성하기 위한 노광공정이 진행될 때, 스웰링 현상에 의한 자연스런 평탄화가 달성될 수 있도록 함으로써, 유기 블랙 매트릭스의 평탄화를 복잡한 디포커싱 작업 없이도 간편하게 달성시킬 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020050019502A
公开(公告)日:2005-03-03
申请号:KR1020030057313
申请日:2003-08-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for an exposure are provided to simplify an exposure process and to prevent the distortion of a pattern image by using a unit mask in the fabrication of a large scale mask assembly. CONSTITUTION: An apparatus for an exposure includes a unit mask and a support frame. A plurality of masks(20) is formed with interlocking each other in a plane state. A plurality of unit masks is connected and supported each other by a support frame(40). The support frame is provided with a connecting frame, the connecting frame connects a unit mask with a plurality of unit masks interlocking each other.
Abstract translation: 目的:提供一种用于曝光的方法和装置,以简化曝光处理,并且通过在制造大规模掩模组件时使用单位掩模来防止图案图像的失真。 构成:用于曝光的装置包括单元掩模和支撑框架。 多个掩模(20)以平面状态彼此互锁地形成。 多个单元掩模通过支撑框架(40)彼此连接和支撑。 支撑框架设置有连接框架,连接框架将单元掩模与彼此互锁的多个单元掩模连接。
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