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公开(公告)号：KR101777215B1
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：KR1020160014351
申请日：2016-02-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04L27/26
Abstract: 송신장치가개시된다. 송신장치는복수의 OFDM 심볼로구성된프레임을생성하는프레임생성부및 생성된프레임에 GI를삽입하는 GI 삽입부를포함하며, 복수의 OFDM 심볼은부트스트랩, 프리앰블및 페이로드로구분되며, GI 삽입부는, 페이로드를구성하는 OFDM 심볼각각의전단에각 OFDM 심볼의 FFT 사이즈에대응되는크기의제1 GI를삽입하고, 페이로드를구성하는 OFDM 심볼의 FFT 사이즈, OFDM 심볼의개수및 제1 GI의크기에기초하여산출된페이로드의잉여(extra) 영역을 OFDM 심볼의개수로나눈몫에해당하는크기의제2 GI를제1 GI 각각의전단에삽입하고, 페이로드의잉여영역을 OFDM 심볼의개수로나누고남은나머지에해당하는크기의 CP(Cyclic postfix)를페이로드를구성하는마지막 OFDM 심볼의후단에삽입한다.
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公开(公告)号：KR1020170043396A
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：KR1020150143109
申请日：2015-10-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N21/236 , H04N21/434 , H04N13/04 , H04N7/015
CPC classification number: H04N7/015 , H04N13/30 , H04N21/236 , H04N21/434
Abstract: 본개시의실시예에의한미디어데이터를송신하는방법은, 메타데이터를수신하는과정과, 상기메타데이터를미디어데이터를위한비트스트림에대응하는소정의형식으로변환하는과정과, 상기변환된메타데이터를상기비트스트림에포함시키는과정과, 상기메타데이터가포함된비트스트림을송신하는과정을포함한다.
Abstract translation: 根据本公开的实施例的传输媒体数据的方法包括以下步骤：接收元数据，将元数据转换为与用于媒体数据的比特流对应的预定格式， 对比特流，并传输包括元数据的比特流。
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34.发明公开전자장치, 전자장치의 구동방법, 음성인식장치, 음성인식장치의 구동 방법 및 컴퓨터 판독가능 기록매체 审中-实审一种电子设备，电子设备的驱动方法中，一个语音识别装置，驱动方法，和语音识别装置的提供介质
公开(公告)号：KR1020170032096A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：KR1020150129901
申请日：2015-09-14
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 배재현
Abstract: 본발명은전자장치, 전자장치의구동방법, 음성인식장치, 음성인식장치의구동방법및 컴퓨터판독가능기록매체에관한것으로서, 본발명의실시예에따른음성인식시스템은사용자가발화한음성발성에대한음성신호를외부로전송하는전자장치, 및전송한음성신호를복수의음성인식기로병렬처리하여얻은인식결과중에서기설정된조건을만족하는인식결과를, 전송한음성신호의인식결과로결정하여전자장치에제공하는음성인식장치를포함할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种驱动方法和电子设备，电子设备，语音识别装置，语音识别装置的驱动方法中，语音识别的计算机可读介质，根据本发明系统对由用户话语发出的语音的实施例 和一个用于电子设备，以及发送语音信号到音频信号发送到外部确定从由多个语音识别，发送语音信号e的识别结果的的并行处理中获得的识别结果中满足预定条件的识别结果 并且可以包括用于向设备提供的语音识别设备。
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公开(公告)号：KR1020160100241A
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：KR1020160014351
申请日：2016-02-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04L27/26
Abstract: 송신장치가개시된다. 송신장치는복수의 OFDM 심볼로구성된프레임을생성하는프레임생성부및 생성된프레임에 GI를삽입하는 GI 삽입부를포함하며, 복수의 OFDM 심볼은부트스트랩, 프리앰블및 페이로드로구분되며, GI 삽입부는, 페이로드를구성하는 OFDM 심볼각각의전단에각 OFDM 심볼의 FFT 사이즈에대응되는크기의제1 GI를삽입하고, 페이로드를구성하는 OFDM 심볼의 FFT 사이즈, OFDM 심볼의개수및 제1 GI의크기에기초하여산출된페이로드의잉여(extra) 영역을 OFDM 심볼의개수로나눈몫에해당하는크기의제2 GI를제1 GI 각각의전단에삽입하고, 페이로드의잉여영역을 OFDM 심볼의개수로나누고남은나머지에해당하는크기의 CP(Cyclic postfix)를페이로드를구성하는마지막 OFDM 심볼의후단에삽입한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于分配和布置有效载荷的额外区域的发送装置，接收装置及其控制方法。 发送装置包括：帧生成单元，生成由多个正交频分复用（OFDM）符号构成的帧; 以及将保护间隔（GI）插入到所生成的帧中的保护间隔（GI）插入单元。 OFDM符号被分成自举，前同步码和有效载荷。 GI插入单元将具有对应于构成有效载荷的各个OFDM符号的快速傅里叶变换（FFT）大小的大小的第一GI插入各个OFDM符号的前端，插入第二GI，其具有与通过划分获得的商相对应的大小 通过OFDM符号的数量将有效载荷的额外区域分配到相应的第一GI的前端，其中基于构成有效载荷的OFDM符号的FFT大小，OFDM符号的数量，计算有效载荷的额外区域， 和第一GI的大小，并且将具有与剩余的剩余余量相对应的大小的循环后缀（CP）插入到构成的最终OFDM符号的后端中的OFDM符号的数量的OFDM符号的数量的后端 有效载荷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101641091B1
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：KR1020130112831
申请日：2013-09-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N21/4227 , H04N21/45
CPC classification number: G06F3/005 , G06F3/017 , G06F3/0487 , G06K9/00355 , H04N5/4403 , H04N21/4223 , H04N21/44008 , H04N21/485
Abstract: 디스플레이장치및 디스플레이장치의모션인식방법이제공된다. 보다상세하게는액티브영역에서만부분영역모션인식모드의해제에대응되는해제모션의인식이가능한디스플레이장치및 디스플레이장치의모션인식방법이개시된다. 개시된실시예중 일부는부분영역모션인식모드인액티브영역에서인식된모션과부분영역모션인식모드의해제에대응되는해제모션이동일한경우, 부분영역모션인식모드를전 영역모션인식모드로변경하는디스플레이장치및 디스플레이장치의모션인식방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR1020150081135A
公开(公告)日：2015-07-13
申请号：KR1020140000808
申请日：2014-01-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04J11/00
CPC classification number: H04L27/2627 , H04L27/2634 , H04L27/2649 , H04J11/0023
Abstract: 송신장치가개시된다. 송신장치는복수의서브캐리어를복수의그룹으로그룹핑하고, 복수의서브캐리어의위상및 크기를그룹별로랜덤하게변경하는서브캐리어그룹핑부및 그룹별로위상및 크기가랜덤하게변경된복수의서브캐리어로부터 OFDM 심볼을생성하고, 생성된 OFDM 심볼및 그룹핑정보를전송하는송신부를포함한다. 이에따라, 채널환경이열악한경우에도수신된신호에기초하여복원할수 있고, 이에따라채널추정을수행할수 있다.
Abstract translation: 公开了一种发射机。 发射机包括：子载波分组单元，用于将多个子载波分组为多个组，并用于随机修改每个组的多个子载波的相位和大小; 以及发送单元，用于从对于每个组随机修改其相位和大小的多个子载波生成OFDM符号，并且用于发送所生成的OFDM符号和分组信息。 因此，即使在信道环境较差的情况下，也可以基于接收信号进行恢复，因此能够进行信道估计。
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公开(公告)号：KR1020150033182A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：KR1020130112831
申请日：2013-09-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N21/4227 , H04N21/45
CPC classification number: G06F3/005 , G06F3/017 , G06F3/0487 , G06K9/00355 , H04N5/4403 , H04N21/4223 , H04N21/44008 , H04N21/485 , H04N21/4227 , H04N21/45
Abstract: 디스플레이장치및 디스플레이장치의모션인식방법이제공된다. 보다상세하게는액티브영역에서만부분영역모션인식모드의해제에대응되는해제모션의인식이가능한디스플레이장치및 디스플레이장치의모션인식방법이개시된다. 개시된실시예중 일부는부분영역모션인식모드인액티브영역에서인식된모션과부분영역모션인식모드의해제에대응되는해제모션이동일한경우, 부분영역모션인식모드를전 영역모션인식모드로변경하는디스플레이장치및 디스플레이장치의모션인식방법을제공한다.
Abstract translation: 提供了一种用于识别其运动的显示装置和方法，其能够仅在有效区域中识别与部分区域运动识别模式的释放相对应的释放动作。 如果在部分区域运动识别模式的有效区域中识别的运动与对应于部分区域的释放的释放动作相同，则该方法包括将部分区域运动识别模式改变为全区域运动识别模式的步骤 运动识别模式。
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公开(公告)号：KR1020140077606A
公开(公告)日：2014-06-24
申请号：KR1020120146598
申请日：2012-12-14
Applicant: 삼성전자주식회사 , 연세대학교 산학협력단
IPC: H04L1/18
CPC classification number: H04L5/0055 , H04L1/1614 , H04L1/1664 , H04L1/1671 , H04L1/1858 , H04L1/1861 , H04L5/0007 , H04L5/0094 , H04L27/2602
Abstract: The present invention relates to a method and an apparatus of transmitting and receiving a response signal in a wireless communications system. The method for transmitting the response signal in a broadcasting system comprises the steps of: generating acknowledgement (ACK) information for uplink packet data for each user; determining a symbol and a subcarrier which will transmit the ACK information for each user inside a transmission frame; transmitting ACK transmission related information via a control channel inside the transmission frame; and transmitting the ACK information for each user via the determined symbol and subcarrier inside the transmission frame. In addition, the present invention has an advantage of providing feedback information for an uplink by utilizing an existing broadcasting frame structure without utilizing a separate channel.
Abstract translation: 本发明涉及在无线通信系统中发送和接收响应信号的方法和装置。 用于在广播系统中发送响应信号的方法包括以下步骤：为每个用户生成用于上行链路分组数据的确认（ACK）信息; 确定将在传输帧内传送每个用户的ACK信息的符号和子载波; 经由传输帧内部的控制信道发送ACK传输相关信息; 并通过传输帧内的确定的符号和子载波来发送每个用户的ACK信息。 此外，本发明具有通过利用现有广播帧结构而不利用单独信道来为上行链路提供反馈信息的优点。
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公开(公告)号：KR1020030005496A
公开(公告)日：2003-01-23
申请号：KR1020010040810
申请日：2001-07-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: An exposure method for a wafer edge in a semiconductor fabrication process is provided to increase exposure efficiency at the edge of a wafer and eliminate the remnants at the wafer edge or flat zone by performing a heat treatment process like a post exposure bake(PEB) process before the exposure process is performed on the wafer edge. CONSTITUTION: Photoresist liquid is applied by using a wafer coater. A pattern is exposed by using an exposure apparatus. A heat treatment process is performed to eliminate a standing wave occurring in an interface between an exposure portion and a non-exposure portion of the photoresist liquid. The temperature of the wafer is decreased. An exposure process is performed to eliminate the applied photoresist liquid remaining on the wafer edge or flat zone by using the exposure apparatus regarding the wafer edge. A development process is performed after the exposure process.
Abstract translation: 目的：提供半导体制造工艺中的晶片边缘的曝光方法，以提高晶片边缘的曝光效率，并通过执行曝光后烘烤（PEB）等热处理工艺消除晶片边缘或平坦区域的残留 ）处理，在晶片边缘进行曝光处理之前。 构成：使用晶片涂布机涂布光致抗蚀剂液体。 通过使用曝光装置曝光图案。 进行热处理处理以消除在光致抗蚀剂液体的曝光部分和非曝光部分之间的界面中发生的驻波。 晶片的温度降低。 执行曝光处理以通过使用关于晶片边缘的曝光装置来消除残留在晶片边缘或平坦区域上的所施加的光致抗蚀剂液体。 在曝光处理之后进行显影处理。
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