公开(公告)号：KR1020010003400A

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR1019990023693

申请日：1999-06-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김진수 ,  김진수 ,  유정식

IPC: H01L29/786

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method is to improve an etching efficiency for a bottom metallic layer in a process for etching a double layer structured gate or source/drain electrodes, thus to simplify the manufacturing process of the electrode pattern. CONSTITUTION: A manufacturing method comprises the steps of: depositing a double structured metallic layer consisting of the first upper metallic layer(212) and the second bottom metallic layer(211) on an insulation substrate(10); applying a photoresist layer to an upper portion of the double structured metallic layer; exposing the photoresist layer through a mask; developing the photoresist layer; etching the first metallic layer using the first etchant; stripping the photoresist layer; and etching the second metallic layer using the first metallic layer as a mask, the second etchant for second metallic layer containing Ce(NH4)x(NO3)y, HClO4, and CH3COOH.

Abstract translation: 目的：制造方法是在蚀刻双层结构化栅极或源极/漏极的工艺中提高底部金属层的蚀刻效率，从而简化电极图案的制造工艺。 构成：制造方法包括以下步骤：在绝缘基板（10）上沉积由第一上金属层（212）和第二底金属层（211）组成的双结构金属层; 将光致抗蚀剂层施加到双结构金属层的上部; 通过掩模曝光光致抗蚀剂层; 显影光致抗蚀剂层; 使用第一蚀刻剂蚀刻第一金属层; 剥离光致抗蚀剂层; 并且使用第一金属层作为掩模蚀刻第二金属层，第二蚀刻剂包含Ce（NH 4）x（NO 3）y，HClO 4和CH 3 COOH。

公开(公告)号：KR1019970030410A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950039209

申请日：1995-11-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 유정식 ,  김창욱 ,  우용진 ,  조영민

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 장치의 제조 공정중 포토리소그라피 공정에서 웨이퍼의 표면에 폴리머의 형태로 잔류하게 되는 현상액의 잔류물을 제거하는 방법 및 그 세정장치에 관한 것으로, 웨이퍼의 표면에 잔류하는 폴리머 형태의 현상액을 제거하기 위한 혼합용액을 약품조에 담고, 상기 웨이퍼를 혼합용액 내에 넣는 공정과; 상기 약품조 내로 고주파를 전달시켜 상기 약품조를 진동시키는 공정과; 상기 약품조에 물을 공급하여 현상액이 제거된 상기 웨이퍼의 표면의 혼합용액 잔류물을 씻어내는 공정과; 혼합용액의 잔류물을 씻어낸 상기 웨이퍼를 건조기에 넣고 고속회전시켜 건조시키는 공정을 포함한다. 또한 본 발명은 웨이퍼 표면의 현상액의 잔류물을 제거하기 의한 혼합용액을 담고 있는 약품조와; 상기 약품조의 하부에 설치되어 고주파에 의한 진동을 약품조 내로 전달시키는 역할을 맡는 진동판과; 고수파를 발생시켜 상기 진동판을 진동시키는 발진기를 포함하고 있다. 이와 같은 방법과 구조에 의하면, 종래 공정에 있어서, 약품조에서 제거되지 않고 표면에 잔존하는 폴리머 형태의 경화된 현상액 잔류물은 고주파를 발생시키는 발진기와 상기 발진기에서 발생한 고주파에 의해 진동을 일으켜 상기 약품조에 물리적인 힘을 전달시켜 주는 진동판이 부착된 약품조를 사용함으로써 쉽게 제거할 수 있다.

公开(公告)号：KR2019920004168Y1

公开(公告)日：1992-06-22

申请号：KR2019900001341

申请日：1990-02-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤석봉 ,  유정식

IPC: H01L21/67

Abstract: 내용 없음.