公开(公告)号：KR100958975B1

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：KR1020070135152

申请日：2007-12-21

Applicant: 주식회사 포스코 ,  재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 곽영진 ,  양지훈 ,  정재인

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/28 ,  C23C14/30

Abstract: 본 발명은 진공증착 장치의 세라믹도가니 및 접지선을 이용한 전자빔 증발에 의해 두께방향으로 분포가 고른 알루미늄-크롬 합금 피막을 형성하고자 하는 금속 소재에 알루미늄-크롬 합금 피막을 형성하는 방법에 관한 것으로, 그 구성은 통상의 진공증착 장치에 구비된 와이어 형태의 접지 선이 연결된 세라믹도가니에 1차로 알루미늄을 녹여 알루미늄 용융물을 형성하는 단계와, 세라믹도가니가 식으면 알루미늄 및 크롬이 서로 섞인 혼합물을 세라믹도가니에 2차로 장입하여 상기 알루미늄 용융물 위에 알루미늄-크롬 용융물을 형성하는 단계와, 상기 진공증착 장치의 전자빔 전력을 조절하여 기판에 일정량의 알루미늄-크롬 합금 피막을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 접지 선은 전도성 세라믹으로 이루어진다.
진공증착 장치, 세라믹도가니, 알루미늄-크롬 합금 피막

公开(公告)号：KR1020090110005A

公开(公告)日：2009-10-21

申请号：KR1020080035560

申请日：2008-04-17

Applicant: 주식회사 포스코 ,  재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 박영희 ,  곽영진 ,  정재인 ,  이경황

IPC: C23C2/02 ,  C23C2/00 ,  C23C16/00

Abstract: PURPOSE: A method and apparatus of atmospheric plasma pretreatment and surface roughness control for aluminum hot dipping of a stainless plate are provided to increase processing speed by consecutively pre-processing plasma while pressing. CONSTITUTION: The surface(5) of a stainless steel sheet is polished in the state where there is a native oxide(1) on the surface. A surface organic foreign material is removed through the hot dipping just before atmospheric pressure plasma process. The melting plate ability in the plating with molten aluminum is improved by increasing the surface free energy. The roughness controlled surface is formed by polishing the surface to have a fixed roughness in the state where there is the native oxide on the surface. A plasma processing surface(6) is formed by increasing the surface free energy by removing the surface organic foreign material through the hot dipping just before atmospheric pressure plasma process.

Abstract translation: 目的：提供大气等离子体预处理和不锈钢板铝浸渍表面粗糙度控制的方法和装置，通过在压制过程中连续预处理等离子体来提高处理速度。 构成：在表面上存在天然氧化物（1）的状态下，对不锈钢板的表面（5）进行抛光。 在大气压等离子体处理之前通过热浸除去表面有机异物。 通过增加表面自由能，提高了用熔融铝电镀的熔化板的能力。 粗糙度控制表面通过在表面上存在天然氧化物的状态下抛光表面而具有固定的粗糙度而形成。 通过在大气压等离子体处理之前通过热浸渍去除表面有机异物来增加表面自由能来形成等离子体处理表面（6）。

公开(公告)号：KR100550290B1

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：KR1020030094863

申请日：2003-12-22

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 정우철 ,  김영덕 ,  정재인

IPC: G01B11/28

Abstract: 라인빔 레이저를 이용한 DWTT 시험시편의 측정면적 검출방법 및 검출시스템에 관한 것으로서,
DWTT 시험시편을 측정하기 위한 면적을 검출하는 방법에 있어서,
시편홀더(4)상의 시편(1)을 검출하는 단계와; 측정개시 신호를 전송하는 단계와; 라인빔 레이저(3)를 시편(1)에 조사하여 시편(1)의 폭을 측정하는 단계와; 측정결과 데이터를 저장하는 단계와; 라인 CCD카메라(2)가 취부된 이송장치(11)를 상하로 이송하여 시편(1)의 높이를 측정하는 단계와; 측정결과 데이터를 저장하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하며,
파단발생 이후 변형된 시편의 폭을 측정하고 이를 시험장치에 입력하는 과정이 자동화되므로 결과적으로 시험과정이 매우 간략화 되고 자동화 될 수 있는 장점을 제공하며 충격 인가과정에서 변형되는 시편의 폭을 미리 측정해 두거나 시편을 정리하지 않고 무작위로 시험을 진행 할 수 있어 시험시편의 정리 및 관리가 쉬워지며 얻어지는 결과값 역시 보다 정확한 검출값을 지닐 수 있어 보다 양호한 결과를 얻을 수 있는 효과를 제공한다.
DWTT 시험, 라인빔 레이저, 라인 CCD 카메라, 시험면적

公开(公告)号：KR100507747B1

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：KR1020000049309

申请日：2000-08-24

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원 ,  주식회사 포스코

Inventor： 정우철 ,  정재인

IPC: G01N21/55

Abstract: 본 발명은 다이아몬드 팁을 이용한 스크래치 방식의 도금강판의 밀착성/파우더링성 측정장치 및 측정방법에 관한 것으로서, 측정될 도금강판의 표면 반사율을 미리 검출하는 광검출처리부(1); 및 상기 검출된 표면 반사율을 미리 저장된 도금 종류에 따른 최적 조건의 표면 반사율과 비교하고, 비교 결과에 따라 상기 광검출처리부의 광원을 최적으로 설정하는 제어부(2)를 구비하는 것을 특징으로 하고 있으며, 도금층 표면 상태에 다른 광량조절기능을 지니고 있어서 다양한 반사율을 가지는 도금강판의 시편에 따른 밀착성/파우더링성 평가에서 보다 안정적이고 정확한 측정결과를 제시할 수 있고, 측정시 문제가 되는 작업자의 경험적인 광량조절을 표준화하여 작업자 및 시편에 따른 광량조절 문제를 자동화할 수 있는 장점을 가지고 있다. 이러한 장점으로 완전히 자동화된 측정장치 구성시 스크래치 전후의 데이터를 비교하는 과정에서 차이 데이터 에러 등의 프로그램 오동작을 효율적으로 방지할 수 있어 연속적인 동작이 가능한 시스템을 구현할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050063458A

公开(公告)日：2005-06-28

申请号：KR1020030094865

申请日：2003-12-22

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 정우철 ,  정재인

IPC: G01B11/30

Abstract: 본 발명은 DWTT 연성 및 취성 파단면 검출용 조명장치에 관한 것으로서,
시편홀더(6)에 고정된 DWTT 시편(1)의 연성 및 취성 파단면 검출용 조명장치에 있어서, 상기 시편홀더(6)의 양 끝단부에 수직으로 설치된 지지대 상부에 설치된 A 채널 조명(2) 및 B 채널 조명(3)과; 상기 시편(1)의 상부에 설치되어 시편(1)의 파단면을 촬영하는 CCD카메라(4)와; 상기 지지대에 설치되어 상기 각 조명(2, 3)을 회전시키는 회전구동부(16)와; 상기 지지대에 설치되어 상기 각 조명(2, 3)을 상하로 직선 이동시키는 직선구동부(17)와; 상기 시편(1)과 지지대 사이에 설치된 안내면을 따라서 상하로 이동 가능하게 설치된 레이저센서(5)와; 상기 안내면에 설치되어 상기 레이저(5)를 상하로 직선 이동시키는 직선구동부(18)와; 상기 A, B 채널 조명(2, 3)의 조사각도와 상하위치 및 레이저센서(5)의 상하위치의 조정을 제어하는 제어부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하며,
영상처리 방식의 자동화된 DWTT 시험평가 장치에서 보다 양호한 영상결과를 얻을 수 있도록 하는 조명장치를 제공하며 조명의 각도 및 조도의 설정과정의 오차에서 발생하는 문제점을 해결하여 보다 신뢰성이 높은 시험방법이 되게 하며 특히, 다양한 각종의 시험과정에서 유발되는 시험오차를 최소화하는 장점을 지니므로 개발된 장치의 범용화가 가능한 효과를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020050063456A

公开(公告)日：2005-06-28

申请号：KR1020030094863

申请日：2003-12-22

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 정우철 ,  김영덕 ,  정재인

IPC: G01B11/28

Abstract: 라인빔 레이저를 이용한 DWTT 시험시편의 측정면적 검출방법 및 검출시스템에 관한 것으로서,
DWTT 시험시편을 측정하기 위한 면적을 검출하는 방법에 있어서,
시편홀더(4)상의 시편(1)을 검출하는 단계와; 측정개시 신호를 전송하는 단계와; 라인빔 레이저(3)를 시편(1)에 조사하여 시편(1)의 폭을 측정하는 단계와; 측정결과 데이터를 저장하는 단계와; 라인 CCD카메라(2)가 취부된 이송장치(11)를 상하로 이송하여 시편(1)의 높이를 측정하는 단계와; 측정결과 데이터를 저장하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하며,
파단발생 이후 변형된 시편의 폭을 측정하고 이를 시험장치에 입력하는 과정이 자동화되므로 결과적으로 시험과정이 매우 간략화 되고 자동화 될 수 있는 장점을 제공하며 충격 인가과정에서 변형되는 시편의 폭을 미리 측정해 두거나 시편을 정리하지 않고 무작위로 시험을 진행 할 수 있어 시험시편의 정리 및 관리가 쉬워지며 얻어지는 결과값 역시 보다 정확한 검출값을 지닐 수 있어 보다 양호한 결과를 얻을 수 있는 효과를 제공한다.

公开(公告)号：KR100489304B1

公开(公告)日：2005-05-17

申请号：KR1020020082792

申请日：2002-12-23

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 정재인 ,  임태균

IPC: C23C14/26

CPC classification number: C23C14/26 ,  C23C14/243

Abstract: 본 발명에 따른 저항가열 보트는, 저항가열 방식으로 금속증발물을 기판에 진공증착시키는 저항가열 보트에 있어서, 보트 형상으로 가공되는 흑연층(31)과; 상기 흑연층(31) 표면에 형성되어, 상기 흑연층(31)이 상기 금속증발물과 반응하지 않도록 하는 보호층(30)을 포함하고, 상기 보호층(30)은 알루미늄 리치층(32)과 질소화합물층(33)을 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기와 같은 구조의 저항가열 보트에 대한 제조방법은, 저항가열 방식으로 금속증발물을 기판에 진공증착시키는 저항가열 보트의 제조방법에 있어서, 흑연층(31)을 증발시키고자 하는 물질을 위치시킬 수 있도록 표면에 증발부위 홀(2)을 갖는 보트 형태로 가공하는 단계와; 상기 흑연층(31) 표면에 질소화합물을 코팅시키는 단계와; 상기 흑연층(31)의 증발부위 홀(2)에 알루미늄을 위치시킨 후, 열처리를 통해 상기 질소화합물과 알루미늄을 반응시켜서, 흑연층(31)의 표면에 상기 흑연층(31)이 상기 금속증발물과 반응하지 않도록 하는 보호층(30)을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 의하면, 알루미늄을 포함하는 금속을 안정적이면서도 연속적으로 증발시킬 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR100489300B1

公开(公告)日：2005-05-17

申请号：KR1020020082781

申请日：2002-12-23

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 정재인

IPC: C23C14/24

Abstract: 본 발명은 중성자 검출을 위한 후막 및 알루미늄 기판을 포함하는 중성자 검출용 금속판에 있어서, 상기 알루미늄 기판의 상부면에 부착되고 보호막의 하부면에 부착되며, 두께 10∼50㎛인 희토류금속막;및 상기 희토류금속막의 상부면에 부착되고, 두께 200∼1000Å이며, 상기 희토류금속막의 산화를 방지하기 위해, 금속산화물을 소스로 하여 증착한 보호막을 포함하는 것을 특징으로 하는 중성자 검출용 금속판을 제공한다. 또한, 상기 알루미늄 기판 상부면에 부착되고, 상기 희토류금속막 하부면에 부착되며, 산화알루미늄을 소스로 하여 증착된 계면막을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 중성자 검출용 금속판을 제공한다.
본 발명의 방법에 따라 제조된 후막을 포함하는 금속판을 중성자 검출에 사용할 경우, 제조원가가 낮고 두께 조절이 용이하며, 또한 다양한 형태의 기판에 적용이 가능하여, 중성자 검출기는 물론 중성자를 이용하는 다양한 실험에 경제적이며 효과적으로 이용이 가능하다.

公开(公告)号：KR1020040056211A

公开(公告)日：2004-06-30

申请号：KR1020020082782

申请日：2002-12-23

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 정재인

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/024 ,  C23C14/30 ,  C23C14/5886

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing metal film by vacuum evaporation is provided to manufacture a metal film having thickness of tens of μm by coating a proper buffer layer for delamination using vacuum evaporation, thereby easily separating metal film layer from substrate. CONSTITUTION: The method comprises a step of vacuum evaporating a buffer layer(22) having thickness of 500 to 1,500 Å on the substrate as continuously maintaining a substrate(21) to an ordinary temperature; a step of evaporating a metal film layer(23) on an upper surface of the buffer layer to a metal evaporation ratio of 0.3 to 0.5 μm/min; a step of maintaining the substrate to a lower temperature after exposing the buffer layer and metal film layer formed substrate to the atmosphere; and a step of separating the buffer layer and the metal film layer from the substrate or separating the metal film layer from the buffer layer and the substrate, wherein the substrate is an aluminum plate on the surface of which an aluminum oxide film is formed, the metal film layer is evaporated by using gadolinium (Gd) or dysprosium (Dy) as a source, and the buffer layer is evaporated by using aluminum as a source, and wherein the substrate is a steel plate, the metal film layer is evaporated by using gadolinium (Gd) or dysprosium (Dy) as a source, and the buffer layer is evaporated by using chromium (Cr) as a source.

Abstract translation: 目的：提供通过真空蒸镀制造金属膜的方法，通过使用真空蒸镀涂布适当的分层缓冲层来制造厚度为几十μm的金属膜，从而容易地将金属膜层与基板分离。 构成：该方法包括在将基板（21）连续地维持在常温下的情况下，在基板上真空蒸发厚度为500〜1500的缓冲层（22）的步骤; 在缓冲层的上表面上蒸发金属膜层（23）至0.3〜0.5μm/分钟的金属蒸发比的工序; 在将缓冲层和金属膜层形成的衬底暴露于大气之后将衬底维持在较低温度的步骤; 以及从衬底分离缓冲层和金属膜层或从缓冲层和衬底分离金属膜层的步骤，其中衬底是其表面上形成氧化铝膜的铝板， 通过使用钆（Gd）或镝（Dy）作为源来蒸发金属膜层，并且通过使用铝作为源将缓冲层蒸发，并且其中基板是钢板，通过使用金属膜层蒸发金属膜层 钆（Gd）或镝（Dy）作为源，通过使用铬（Cr）作为源蒸发缓冲层。

公开(公告)号：KR100407803B1

公开(公告)日：2003-12-01

申请号：KR1020010031520

申请日：2001-06-05

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원

Inventor： 정재인 ,  정우철 ,  정창영

IPC: C23C14/22

Abstract: PURPOSE: A resistance heating evaporation source comprising amorphous carbon or graphite is provided which enables continuous evaporation of aluminum by preventing reaction of aluminum with the holder surface after aluminum is flown out to the outside of the evaporation surface. CONSTITUTION: In a resistance heating evaporation source consisted of amorphous carbon or graphite having a density of 1.4 g/cm¬3 or more, the resistance heating evaporation source for aluminum evaporation is characterized in that a buffer is formed inside the holder surface in an ordinary boat shape for evaporation to block molten aluminum flown in from the evaporation region, and boron nitride is covered on an evaporation region of the boat for evaporation and a holder surface from the evaporation region to the buffer. In a method for manufacturing a resistance heating evaporation source consisted of amorphous carbon or graphite having a density of 1.4 g/cm¬3 or more, the manufacturing method of the resistance heating evaporation source for aluminum evaporation comprises the steps of processing amorphous carbon or graphite in a boat shape for evaporation so that a buffer for blocking molten metal flown in from the evaporation region is formed within the holder surface in an ordinary boat shape for evaporation; forming scratches on the holder surface by rubbing a sandpaper on the evaporation region of the boat for evaporation and the holder surface from the evaporation region to the buffer; and covering boron nitride on the scratch formed part.

Abstract translation: 目的：提供一种包含无定形碳或石墨的电阻加热蒸发源，其能够通过在铝流出到蒸发表面之外之后防止铝与保持器表面反应而使铝连续蒸发。 构成：在由密度为1.4g / cm 3或更大的无定形碳或石墨组成的电阻加热蒸发源中，用于铝蒸发的电阻加热蒸发源的特征在于在保持器表面内形成缓冲区， 通过蒸发使得从蒸发区域流入的熔融铝阻塞的氮化硼被覆盖在蒸发用舟皿的蒸发区域和从蒸发区域到缓冲器的保持器表面上。 在用于制造密度为1.4g / cm 3或更高的无定形碳或石墨的电阻加热蒸发源的方法中，用于铝蒸发的电阻加热蒸发源的制造方法包括以下步骤：加工无定形碳或石墨 以船形蒸发，从而用于阻挡从蒸发区域流入的熔融金属的缓冲器以通常的船形形成在保持器表面内用于蒸发; 通过在用于蒸发的舟的蒸发区域上摩擦砂纸并将保持器表面从蒸发区域摩擦到缓冲器而在保持器表面上形成划痕; 并在刮伤形成部分上覆盖氮化硼。