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公开(公告)号：KR100906460B1
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：KR1020070081083
申请日：2007-08-13
Applicant: 주식회사 브이엠티 , 포항공과대학교 산학협력단
IPC: H01S3/10
Abstract: 본 발명은, 레이져 발생수단; 상기 레이져 발생수단에서 조사된 레이져광의 광로상에 설치되고, 상기 레이져광의 편광상태를 변화시키는 위상지연판; 상기 위상지연판을 통과한 레이져광을 지정된 수직수평성분비로 반사 및 투과시키는 제 1 광분할수단; 상기 제 1 광분할수단에서 반사된 일부 레이져광을 지연시키는 제 1 지연시간 부가수단; 상기 제 1 지연시간 부가수단을 경유한 일부 레이져광 및 상기 제 1 광분할수단을 투과한 일부 레이져광을 지정된 수직수평성분비로 반사 및 투과시키는 제 2 광분할수단; 상기 제 1 광분할수단과 제 2 광분할수단 사이에 위치하여 상기 제 1 광분할수단을 투과한 일부 레이져광의 에너지를 조절할 수 있도록 2개의 위상지연판 및 상기 2개의 위상지연판 사이에 설치된 편광기를 포함하는 제 2 펄스에너지 조절수단; 및 상기 제 1 지연시간 부가수단에 장착되어 상기 제 1 광분할수단에서 반사된 일부 레이져광의 에너지를 조절할 수 있도록 2개의 위상지연판 및 상기 2개의 위상지연판 사이에 설치된 편광기를 포함하는 제 3 펄스에너지 조절수단; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스에너지 조절이 가능한 다중 펄스 광학장치를 제공한다.
다중펄스 광학계, 레이져, X선-
公开(公告)号：KR100834729B1
公开(公告)日：2008-06-09
申请号：KR1020060119605
申请日：2006-11-30
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
IPC: C08J5/22 , C08J9/22 , C08F212/08 , B82B3/00
CPC classification number: G02B1/04 , B05D3/0453 , B05D5/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/32 , C03C2218/328 , C08J7/04 , C08J7/12 , C08J7/123 , C08J2429/04 , C08J2433/12 , C09D5/006 , G02B1/111 , G03F7/0002 , C08L39/08 , C08L33/10 , C08L53/02 , C08L53/00 , C08L25/14 , C08L25/08
Abstract: Disclosed herein is a method of producing an antireflection thin film using a block copolymer and an antireflection thin film prepared by the method. Specifically, the present invention relates to a method of producing a nanoporous antireflection film by spin-coating using a block copolymer solution and subsequent processing and a preparation by the method. The antireflection film of the present invention is prepared by coating a substrate with a block copolymer and selectively removing at least one block in the coated block copolymer to produce a nanoporous thin film with a pore size of 5 to 100 nm. When the thin film is applied to a substrate, an antireflection substrate which has a very low reflectance within a broad range of wavelength can be prepared.
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公开(公告)号：KR100674204B1
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：KR1020050021750
申请日：2005-03-16
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 주식회사 브이엠티 , 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 스퍼터 이온펌프에서 두 개의 티타늄 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간에 PIC 시뮬레이션을 이용하여 간격을 도출하여 배기 성능을 극대화하기 위한 것으로, 이를 위한 구조는 고전압에 의해 생성된 양이온이 두 개의 음극판에 충돌하여 티타늄 원자들이 스퍼터링되어 원통형 양극 셀 튜브들 내부 표면에 티타늄 층으로 형성되는 스퍼터 이온 펌프의 구조에 있어서, 두 개의 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간의 갭을 PIC 시뮬레이션을 통해 7㎜의 간격으로 도출하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 따라서, 기체의 이온화 확률 및 음극판에서 스퍼터링된 티타늄 원자가 양극으로 증착되는 양을 최적화하여 배기 성능을 극대화 할 수 있는 효과가 있다.
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公开(公告)号：KR1020060100095A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：KR1020050021750
申请日：2005-03-16
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 주식회사 브이엠티 , 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 스퍼터 이온펌프에서 두 개의 티타늄 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간에 PIC 시뮬레이션을 이용하여 최적화된 간격을 도출하여 배기 성능을 극대화하기 위한 것으로, 이를 위한 구조는 고전압에 의해 생성된 양이온이 두 개의 음극판에 충돌하여 티타늄 원자들이 스퍼터링되어 원통형 양극 셀 튜브들 내부 표면에 티타늄 층으로 형성되는 스퍼터 이온 펌프의 구조에 있어서, 두 개의 음극판과 그 사이에 위치하는 원통형 양극 셀 튜브들간의 갭을 PIC 시뮬레이션을 통해 7㎜의 간격으로 도출하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 따라서, 기체의 이온화 확률 및 음극판에서 스퍼터링된 티타늄 원자가 양극으로 증착되는 양을 최적화하여 배기 성능을 극대화 할 수 있는 효과가 있다.
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