31.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:FR3035219A1

    公开(公告)日:2016-10-21

    申请号:FR1652024

    申请日:2016-03-10

    Abstract: L'invention concerne un outil d'analyse d'échantillon comprenant une chambre d'échantillon servant à maintenir un échantillon. L'outil comprend aussi un filtre à large bande sélectif selon l'angle disposé le long d'un chemin optique avec la chambre d'échantillon. L'outil comprend aussi un transducteur de rayonnement électromagnétique (ER) qui émet un signal en réponse au rayonnement électromagnétique qui traverse le filtre à large bande sélectif selon l'angle. L'outil comprend aussi un dispositif d'enregistrement qui enregistre des données correspondant à la sortie de signaux à partir du transducteur d'ER, les données indiquant une propriété de l'échantillon.

    SISTEMAS Y METODOS PARA REDUCIR LA DELAMINACION EN ELEMENTOS INFORMATICOS INTEGRADOS USADOS EN EL FONDO DEL POZO.

    公开(公告)号:MX2016004903A

    公开(公告)日:2016-07-11

    申请号:MX2016004903

    申请日:2013-12-18

    Abstract: Se describen sistemas y métodos para reducir la delaminación o craqueo en un apilamiento de películas con múltiples capas fabricado sobre un sustrato. El apilamiento de películas con múltiples capas se diseña para procesar ópticamente una radiación electromagnética puesta en contacto con el fluido de muestra para medir varias características químicas o físicas de un fluido de producción de un pozo. Los sistemas y métodos miden in situ una característica del apilamiento de películas con múltiples capas durante la fabricación y comparan las características medidas con un criterio de referencia. Se ha predeterminado el criterio de referencia para representar el inicio de la delaminación o craqueo. Si el criterio de referencia se cumple, el apilamiento de películas con múltiples capas se modifica para reducir la posibilidad de delaminación o craqueo. Se presentan otros sistemas y métodos.

    MANUFACTURING PROCESS FOR INTEGRATED COMPUTATIONAL ELEMENTS

    公开(公告)号:CA2935173A1

    公开(公告)日:2015-09-24

    申请号:CA2935173

    申请日:2014-03-21

    Abstract: Disclosed are methods of fabricating an integrated computational element for use in an optical computing device. One method includes providing a substrate that has a first surface and a second surface substantially opposite the first surface, depositing multiple optical thin films on the first and second surfaces of the substrate via a thin film deposition process, and thereby generating a multilayer film stack device, cleaving the substrate to produce at least two optical thin film stacks, and securing one or more of the at least two optical thin film stacks to a secondary optical element for use as an integrated computational element (ICE).

    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION
    34.
    发明公开
    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION 审中-公开
    IN-SITU-ABSCHEIDUNGSRATENSTEUERUNG IM OPTISCHEN SENDE- / REFLEXIONSMODUSFÜRDIE HERSTELLUNG VON EIS

    公开(公告)号:EP3102716A4

    公开(公告)日:2017-08-16

    申请号:EP14891164

    申请日:2014-05-08

    Abstract: Systems and methods of controlling a deposition rate during thin-film fabrication are provided. A system as provided may include a chamber, a material source contained within the chamber, an electrical component to activate the material source, a substrate holder to support the multilayer stack and at least one witness sample. The system may further include a measurement device and a computational unit. The material source provides a layer of material to the multilayer stack and to the witness sample at a deposition rate controlled at least partially by the electrical component and based on a correction value obtained in real-time by the computational unit. In some embodiments, the correction value is based on a measured value provided by the measurement device and a computed value provided by the computational unit according to a model.

    Abstract translation: 提供了在薄膜制造期间控制沉积速率的系统和方法。 所提供的系统可以包括腔室,容纳在腔室内的材料源,激活材料源的电子部件,支撑多层叠堆的基板保持器以及至少一个见证样品。 该系统可以进一步包括测量装置和计算单元。 材料源以至少部分地由电气部件控制的沉积速率并且基于由计算单元实时获得的校正值向多层叠堆和证据样品提供材料层。 在一些实施例中,校正值基于由测量装置提供的测量值和由计算单元根据模型提供的计算值。

    Paralleles optisches Messsystem mit winkelselektiven Breitbandfiltern

    公开(公告)号:DE112015006168T5

    公开(公告)日:2017-11-02

    申请号:DE112015006168

    申请日:2015-04-15

    Abstract: Eine optische Rechenvorrichtung beinhaltet eine Lichtquelle, die elektromagnetische Strahlung in einen Strahlengang emittiert, der sich von der Lichtquelle zu einem Detektor erstreckt. Eine Substanz interagiert optisch mit der elektromagnetischen Strahlung. Eine Prozessoranordnung ist in dem Strahlengang positioniert und beinhaltet eine Vielzahl von integrierten Rechenelement-(ICE)-Kernen, die mit der elektromagnetischen Strahlung optisch interagieren, wobei der Detektor modifizierte elektromagnetische Strahlung empfängt, die durch optische Interaktion der elektromagnetischen Strahlung mit der Substanz und dem Prozessor generiert wird. Eine Gewichtungsanordnung ist in dem Strahlengang positioniert und beinhaltet eine Vielzahl von Gewichtungsvorrichtungen, die entsprechende Gewichtungsfaktoren auf die modifizierte elektromagnetische Strahlung optisch anwenden. Eine Anordnung winkelselektiver Breitbandfilter (BASF) ist in dem Strahlengang positioniert, um elektromagnetische Strahlung mit einem vorbestimmten Einfallswinkel selektiv passieren zu lassen. Der Detektor generiert ein Ausgangssignal, das für eine Charakteristik der Substanz bezeichnend ist.

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