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    METODO PARA PRETRATAR SUSTRATOS PARA METODOS PVD.
    31.
    发明专利
    METODO PARA PRETRATAR SUSTRATOS PARA METODOS PVD. 未知

    公开(公告)号：ES2374864T3

    公开(公告)日：2012-02-22

    申请号：ES09004581

    申请日：2009-03-30

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： RUDIGIER HELMUT ,  RAMM JUERGEN ,  WIDRIG BENO ,  VOM BRAUCKE TROY

    IPC: C23C14/02 ,  C23C14/32

    Abstract: Método para el tratamiento superficial de piezas de trabajo en un sistema de tratamiento a vacío que tiene un primer electrodo configurado como diana, que es parte de una fuente de vaporización de arco, en el que, por encima del primer electrodo, es operado un arco con una corriente de arco, por medio de la cual es vaporizado material desde la diana que es depositado al menos parcial e intermitentemente sobre las piezas de trabajo, y que tiene un segundo electrodo que está configurado como un sostenedor de la pieza de trabajo y, junto con las piezas de trabajo, constituye un electrodo de polarización, en el que, por medio de un suministro de voltaje, se aplica un voltaje de polarización al electrodo de polarización, siendo aplicado el voltaje de polarización de tal modo que es equiparado a la corriente de arco de tal modo que sustancialmente no se produce acumulación neta de material sobre la superficie, caracterizado porque el primer electrodo es operado con una corriente pulsada, es generada por la pulsación una corriente de sustrato a través de la superficie de la pieza de trabajo que es aumentada en comparación con una operación no pulsada, y por tanto, no se produce acumulación neta de material sobre la superficie a un voltaje de polarización que es más bajo comparado con una operación no pulsada del primer electrodo.

    METODO PARA DEPOSITAR CAPAS ELECTRICAMENTE AISLANTES.
    34.
    发明专利
    METODO PARA DEPOSITAR CAPAS ELECTRICAMENTE AISLANTES. 未知

    公开(公告)号：MX2010004851A

    公开(公告)日：2010-06-11

    申请号：MX2010004851

    申请日：2008-02-29

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： WOHLRAB CHRISTIAN ,  RAMM JUERGEN

    IPC: H01J37/32 ,  C23C14/32

    Abstract: La invención se refiere a un pprocedimiento para activar una fuente de arco, en la cual se produce o aplica una descarga de chispas en una superficie de un objetivo (5), y la descarga de chispas simultáneamente se alimenta con una corriente directa, a la cual está asignada una tención a CD, como también una corriente de pulsos producida mediante una señal de tensión aplicada periódicamente. La tensión en la fuente de arco se eleva durante varios microsegundos o la forma de la señal de la señal de tensión esencialmente se selecciona libremente.

    HARD MATERIAL LAYER
    35.
    发明专利
    HARD MATERIAL LAYER 未知

    公开(公告)号：SG160397A1

    公开(公告)日：2010-04-29

    申请号：SG2010017747

    申请日：2006-01-19

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： RAMM JUERGEN ,  WIDRIG BENO ,  KALSS WOLFGANG

    Abstract: The invention relates to a hard material layer, deposited on a workplace (30) as a functional layer (32) by means of an arc-PVD method. Said layer is essentially embodied by an electrically insulating oxide of at least one of the metals (Me) of the transition metals of the sub-groups IV, V, VI of the periodic table and Al, Si, Fe, Co, Ni, Co, or Y and the functional layer (32) contains no noble gas or halogen.

    36.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：BRPI0609127A2

    公开(公告)日：2010-02-23

    申请号：BRPI0609127

    申请日：2006-03-01

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： RAMM JUERGEN ,  GSTOEHL OLIVER ,  WIDRIG BENO ,  LENDI DANIEL

    IPC: H01J37/32 ,  C23C14/32

    Abstract: Operating an arc source by generating an electric spark discharge on the surface of a target, where the spark discharge is supplied simultaneously with direct current and pulsed or alternating current, comprises covering the surface of the target with an insulating layer. Independent claims are also included for: (1) operating an arc source by generating an electric spark discharge on the surface of a target, where the spark discharge is supplied simultaneously with direct current and pulsed or alternating current and the direct current component is 100-300% of the holding current; (2) operating an arc source by generating an electric spark discharge on the surface of a target, where the spark discharge is supplied simultaneously with direct current and pulsed or alternating current and the direct current component is 30-90 A; (3) coating process in which an arc source as above is driven to deposit one or more layers on a workpiece; (4) etching process in which an arc source as above is driven to etch a workpiece with metal ions while applying a direct, pulsed or alternating current bias; (5) arc source with a target and at least one counterelectrode and a current supply unit connected to the target, where the current supply unit comprises a pulsed high-amperage current supply and another current supply; (6) arc source with a target and at least one counterelectrode and a current supply unit connected to the target, where the current supply unit comprises a secondary current supply whose signal is modulated so as to apply a DC holding current on which is superimposed a pulsed or AC signal; (7) arc source with a target and at least one counterelectrode and a current supply unit connected to the target, where the current supply unit comprises a primary current supply whose signal is modulated so as to apply a DC holding current on which is superimposed a pulsed or AC signal.

    PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR CAPAS AISLANTES ELECTRICAS.
    37.
    发明专利
    PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR CAPAS AISLANTES ELECTRICAS. 未知

    公开(公告)号：MX2009000593A

    公开(公告)日：2009-04-07

    申请号：MX2009000593

    申请日：2007-07-12

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： WOHLRAB CHRISTIAN ,  RAMM JUERGEN ,  WIDRIG BENO

    IPC: C23C14/32 ,  C23C14/08

    Abstract: Procedimiento para la producción de capas malas conductoras, en especial aislantes sobre cuando menos una pieza de trabajo por medio de recubrimiento al vacío, en donde se realiza una descarga de arcos eléctricos entre cuando menos un ánodo y un cátodo de una fuente de arco en una atmosfera que contenga gas reactivo, y en la superficie de un objetivo conectado eléctricamente con el cátodo solo se produce un campo magnético externo pequeño esencialmente perpendicular a la superficie objetivo para apoyar el proceso de evaporación, de tal forma que el grado de re-recubrimiento de la superficie objetivo por medio de otras fuentes de recubrimiento pueden seleccionarse menores al 10%, o se produce un campo magnético con un sistema magnético, que cuando menos incluye una bobina polar axial con una geometría similar a la periferia del objetivo.

    38.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE59813873D1

    公开(公告)日：2007-02-15

    申请号：DE59813873

    申请日：1998-05-27

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： RAMM JUERGEN ,  VON KAENEL HANS ,  ROSENBLAD CARSTEN

    IPC: C23C16/50 ,  C23C16/503 ,  C23C16/505 ,  C23C16/511 ,  C30B25/02 ,  C30B25/10 ,  C30B29/52 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205

    Abstract: The method concerns production of workpieces with coatings of a sufficient epitaxy quality, and is characterised by the fact that coating takes place by PECVD (plasma enhanced chemical vapour deposition) process with use of DC discharge. The claimed installation for implementation of the method includes a vacuum chamber (1), a cathode chamber (5) with at least one hot anode (7), a workpiece carrier (13) in the vacuum chamber, and an anode . The workpiece carrier is electrically insulated from the vacuum chamber.

    METHOD FOR PRODUCING CUBIC ZIRCONIA LAYERS
    39.
    发明专利
    METHOD FOR PRODUCING CUBIC ZIRCONIA LAYERS 未知

    公开(公告)号：CA2775044C

    公开(公告)日：2018-04-24

    申请号：CA2775044

    申请日：2010-09-24

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： RAMM JUERGEN ,  WIDRIG BENO

    IPC: C23C14/00 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/32

    Abstract: In order to produce zirconia-based layers on a deposition substrate, wherein reactive spark deposition using pulsed spark current and/or the application of a magnetic field that is perpendicular to the spark target are employed, a mixed target comprising elemental zircon and at least one stabilizer is used, or a zirconium target comprising elemental zirconium is used, wherein in addition to oxygen, nitrogen is used as the reactive gas. As an alternative, combined with the use of the mixed target, nitrogen can also be used as the reactive gas in addition to oxygen.

    40.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：BRPI0811241A2

    公开(公告)日：2014-11-04

    申请号：BRPI0811241

    申请日：2008-04-22

    Applicant: OERLIKON TRADING AG

    Inventor： RAMM JUERGEN ,  WIDRIG BENO ,  KASEMANN STEPHAN ,  PIMENTA MARCELO DORNELLES ,  MASSLER ORLAW ,  HANSELMANN BARBARA

    IPC: C23C14/06 ,  C23C14/02 ,  C23C14/22 ,  C23C16/26 ,  C23C28/00 ,  C23C30/00

    Abstract: Vacuum treatment installation or vacuum treatment method for carrying out a plasma method, wherein the treatment is carried out in a vacuum chamber, in which are disposed a device for generating an electric low voltage arc discharge (NVBE) comprised of a cathode and an anode electrically interconnectable with the cathode via an arc generator, and a workpiece carrier electrically interconnectable with a bias generator for receiving and moving workpieces, as well as at least one feed for inert and/or reactive gas. At least a portion of the surface of the anode is therein fabricated of graphite and is operated at high temperature.

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