Abstract:
A method for producing a ceramic conversion element comprising the following steps is provided: - providing a ceramic basic body in the green state, said ceramic basic body comprises a phosphor, which converts light of a first wavelength range into light of a second wavelength range, - structuring the ceramic basic body in the green state such that pixel regions are formed within the ceramic basic body, said pixel regions being separated from each other by grooves, while the ceramic basic body comprises a continuously connecting part, which connects the pixel regions along a main surface, wherein - the structuring is performed by one of the following methods: laser structuring, micro-embossing, sawing, grinding, etching in combination with a mask, sand blasting, jet cutting. Alternatively, a ceramic basic body in the sintered state is provided and structured accordingly. Further, a conversion element as well as a optoelectronic device is described.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement mit einem optoelektronischen Halbleiterchip (1) und einem optischen Element (2) angegeben, wobei zwischen dem Halbleiterchip (1) und dem optischen Element (2) eine Verbindungsschicht (3) mit einem transparenten Oxid angeordnet ist, die an den Halbleiterchip (1) und das optische Element (2) jeweils unmittelbar angrenzt und das optische Element (2) auf dem Halbleiterchip (1) befestigt. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (100) angegeben, der einen Halbleiterkörper (6) aus Halbleitermaterial, eine dem Halbleiterkörper in Abstrahlrichtung nachgeordnete Auskoppelfläche (9) und eine Spiegelschicht (1) aufweist. Der Abstand zwischen aktiver Schicht (2) und Spiegelschicht (1) ist derart eingestellt, dass eine von der aktiven Schicht (2) in Richtung der Auskoppelfläche (9) emittierte Strahlung mit einer an der Spiegelschicht (1) reflektierten Strahlung so interferiert, dass der Halbleiterchip (100) eine Abstrahlcharakteristik der emittierten Strahlung mit einer Vorzugsrichtung in Vorwärtsrichtung aufweist. Weiter wird ein Display (1000) mit einer Mehrzahl von derartigen Halbleiterchips (100) angegeben. Weiter werden Verfahren zu deren Herstellung angegeben.
Abstract:
Es ist ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, der einen Halbleiterschichtenstapel (2) und eine Konversionsschicht (3) umfasst. Der Halbleiterschichtenstapel (2) weist eine aktive Schicht (2a) zur Strahlungserzeugung auf. Die Konversionsschicht (3) ist auf einer Strahlungsaustrittsseite (21) des Halbleiterschichtenstapels (2) angeordnet, wobei die Konversionsschicht (3) geeignet ist, zumindest einen Teil der von der aktiven Schicht (2a) emittierten Strahlung in Strahlung einer anderen Wellenlänge umzuwandeln. Die Strahlungsaustrittsseite (21) des Halbleiterschichtenstapels (2) weist eine erste Nanostrukturierung auf, wobei die Konversionsschicht (3) in dieser ersten Nanostrukturierung (4) angeordnet ist. Weiter ist ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleiterchips (10) angegeben.
Abstract:
Es ist ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, der einen Halbleiterschichtenstapel (2) umfasst. Der Halbleiterschichtenstapel (2) weist eine zur Strahlungserzeugung vorgesehene aktive Schicht und eine Strahlungsaustrittsseite (21) auf. Der Halbleiterchip (10) weist weiter eine Konversionsschicht (3) auf, die mit einer Befestigungsseite (31) auf der Strahlungsaustrittsseite (21) des Halbleiterschichtenstapels (2) angeordnet ist. Die Konversionsschicht (3) ist geeignet, zumindest einen Teil der von der aktiven Schicht emittierten Strahlung in Strahlung einer anderen Wellenlänge umzuwandeln. Die Befestigungsseite (31) der Konversionsschicht (3) weist eine erste Nanostrukturierung (4) auf. Die Strahlungsaustrittsseite (21) des Halbleiterschichtenstapels (2) weist eine zweite Nanostrukturierung (5) auf. Weiter ist ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Halbleiterchips (10) angegeben.
Abstract:
Es handelt sich um ein optoelektronisches Bauelement (1) zur Mischung von elektromagnetischer Strahlung mit verschiedenen Wellenlängen, insbesondere im Fernfeld. Das optoelektronisches Bauelement (1) umfasst einen Träger (2). Auf dem Träger (2) ist mindestens ein erster Halbleiterchip (3) mit einer ersten Strahlungsaustrittsfläche (13) zur Emission von elektromagnetischer Strahlung in einem ersten Spektralbereich (14) vorgesehen. Auf dem Träger (2) ist mindestens ein zweiter Halbleiterchip (4) mit einer zweiten Strahlungsaustrittsfläche (17) zur Emission von elektromagnetischer Strahlung in einem zweiten Spektralbereich (15) vorgesehen. Auf den vom Träger (2) abgewandten Strahlungsaustrittsflächen (13, 17) der Halbleiterchips (3, 4) ist eine Streuschicht (8) vorgesehen.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement angegeben, mit - einem Anschlussträger (2), - einem optoelektronischen Halbleiterchip (1), der auf einer Montagefläche (22) des Anschlussträgers (2) angeordnet ist, und - einem strahlungsdurchlässigen Körper (3), der den Halbleiterchip (1) umgibt, wobei - der strahlungsdurchlässige Körper (3) ein Silikon enthält, - der strahlungsdurchlässige Körper (3) zumindest eine Seitenfläche (31) aufweist, die zumindest stellenweise in einem Winkel (β)
Abstract:
An optoelectronic component (1) comprises a carrier (2) and at least one semiconductor chip (3). The semiconductor chip (3) is arranged on the carrier (2) and equipped to emit a primary radiation (6). The semiconductor chip (3) is enclosed at least partially by an at least partially transparent medium (7) having a height (8) above the carrier (2) and a width (9) along the carrier (2). Particles (10, 11) that interact with the primary radiation (6) are introduced into the medium (7). The medium (7) has a ratio of height (8) to width (9) of more than 1.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic semiconductor component, having – a connection carrier (2), - an optoelectronic semiconductor chip (1) disposed on a mounting surface (22) of the connection carrier (2), and – a body transparent to radiation (3) enclosing the semiconductor chip (1), wherein – the body transparent to radiation (3) comprises a silicone, - the body transparent to radiation (3) comprises at least one side surface (31) running at least in places at an angle (β)