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公开(公告)号:DE102012104224A1
公开(公告)日:2013-11-21
申请号:DE102012104224
申请日:2012-05-15
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: BUSKE CHRISTIAN , SCHMIDT MARTIN
Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2, 62) zur Behandlung eines Drahts (22) aus leitfähigem Material, mit einer Plasmadüse (4) zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (6), wobei innerhalb der Plasmadüse (4) ein Entladungsraum (10) mit einer Düsenöffnung (12) zum Auslass des Plasmastrahls (6) ausgebildet ist, wobei zwischen einer Einlassöffnung (16) der Plasmadüse (4) und der Düsenöffnung (12) ein Kanal (20) ausgebildet ist, durch den der zu behandelnde Draht (22) hindurchführbar ist und wobei in der Plasmadüse (4) ein den Kanal (20) umgebender Röhrchenabschnitt (30) aus einem Dielektrikum so angeordnet ist, dass der Kanal (20) gegenüber dem Entladungsraum (10) zumindest abschnittsweise elektrisch isoliert ist sowie ein entsprechendes Verfahren. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Behandlung eines Drahts aus leitfähigem Material, bei dem der zu behandelnde Draht (106, 204) durch einen Rohrabschnitt (104, 206) aus einem Dielektrikum geführt wird, bei dem eine an der Außenseite des Rohrabschnitts (104, 206) angeordnete erste Elektrode (108, 208) mit einer ersten hochfrequenten Hochspannung (HV, HV1) beaufschlagt wird und bei dem der Draht (106, 204) so beschaltet wird, dass zwischen der ersten Elektrode (108, 208) und dem Draht (106, 204) eine dielektrisch behinderte Entladung erfolgt sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
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公开(公告)号:DE102009025065A1
公开(公告)日:2010-09-30
申请号:DE102009025065
申请日:2009-06-10
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: BUSKE CHRISTIAN , KRUEGER GEORG , ENNEKING LEONHARD
Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum temporären Konservieren einer vorbehandelten Oberfläche, bei dem mindestens ein Bereich (4) einer Werkstückoberfläche (2) für einen geplanten Arbeitsschritt vorbehandelt wird und bei dem der vorbehandelte Bereich (4) der Werkstückoberfläche (2) zumindest teilweise dem geplanten Arbeitsschritt unterzogen wird, wobei der mindestens eine Bereich (4) nach der Vorbehandlung mit einer Folie (46, 64, 84, 100) abgedeckt und geschützt wird und wobei die Folie (46, 64, 84, 100) vor der Durchführung des geplanten Arbeitsschrittes wieder entfernt wird. Die Erfindung betrifft auch eine Folie zum temporären Konservieren einer vorbehandelten Oberfläche mit einer Trägerschicht (88) und mit einer zweiten Schicht, wobei die zweite Schicht als Releaseschicht (92), funktionalisierte Schicht (86) oder Barriereschicht (90) ausgebildet ist. Die Erfindung betrifft auch die Verwendung einer Folie (46, 64, 84, 100) zum temporären Abdecken und Schützen eines vorbehandelten Bereiches (4) einer Werkstückoberfläche (2).
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公开(公告)号:DE102009013196A1
公开(公告)日:2010-09-30
申请号:DE102009013196
申请日:2009-03-17
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: BUSKE CHRISTIAN
IPC: F28F13/16
Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beaufschlagung einer Komponente mit thermischer Energie, bei dem ein Gas (20, 86) erwärmt wird und bei dem die Komponente (4, 84) mit dem Gas (20, 86) in thermischen Kontakt gebracht wird, wobei das Gas (20, 86) zusätzlich durch eine elektrische Entladung (12, 74) oder durch ein Plasma, insbesondere durch einen Plasmastrahl (58, 108) mindestens teilweise ionisiert wird. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Beaufschlagung einer Komponente mit thermischer Energie, mit der zu beaufschlagenden Komponente (4, 84), mit einem ein Gas beinhaltenden Raumbereich (8, 82) und mit Mitteln (6) zum Erwärmen des Gases, wobei das Gas (20, 86) mit der Komponente (4, 84) in thermischen Kontakt steht und wobei zusätzlich Mittel (10, 42, 72, 92) zur Erzeugung einer elektrischen Entladung (12, 74) oder eines Plasmas, insbesondere eines Plasmastrahls (58, 108), zur zumindest teilweisen Ionisation des Gases (20, 86) vorgesehen sind.
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公开(公告)号:DE112005000740A5
公开(公告)日:2007-07-05
申请号:DE112005000740
申请日:2005-04-01
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: FOERNSEL PETER , BUSKE CHRISTIAN , HARTMANN UWE
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公开(公告)号:DK1236380T3
公开(公告)日:2005-05-30
申请号:DK00990703
申请日:2000-12-11
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: FOERNSEL PETER , BUSKE CHRISTIAN
Abstract: A plasma nozzle for treating surfaces, especially for the pre-treatment of plastic surfaces, with a tubular, electrically conductive housing (10), which forms a nozzle channel (12), through which the working gas is flowing, an electrode (18), disposed coaxially in the nozzle channel, and a high-frequency generator (20) for applying a voltage between the electrode (18) and the housing, the outlet of the nozzle channel (12) is constructed as a narrow slot (32), which extends transversely to the longitudinal axis of the nozzle channel.
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公开(公告)号:DE50009671D1
公开(公告)日:2005-04-07
申请号:DE50009671
申请日:2000-12-11
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: FOERNSEL PETER , BUSKE CHRISTIAN
Abstract: A plasma nozzle for treating surfaces, especially for the pre-treatment of plastic surfaces, with a tubular, electrically conductive housing (10), which forms a nozzle channel (12), through which the working gas is flowing, an electrode (18), disposed coaxially in the nozzle channel, and a high-frequency generator (20) for applying a voltage between the electrode (18) and the housing, the outlet of the nozzle channel (12) is constructed as a narrow slot (32), which extends transversely to the longitudinal axis of the nozzle channel.
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公开(公告)号:DK1230414T3
公开(公告)日:2005-02-28
申请号:DK00926739
申请日:2000-03-17
Applicant: PLASMATREAT GMBH , FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
Inventor: FOERNSEL PETER , BUSKE CHRISTIAN , HARTMANN UWE , BAALMANN ALFRED , ELLINGHORST GUIDO , VISSING KLAUS-D
IPC: B05D1/08 , C23C4/12 , C23C16/513
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公开(公告)号:AT270028T
公开(公告)日:2004-07-15
申请号:AT99919177
申请日:1999-04-01
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: FOERNSEL PETER , BUSKE CHRISTIAN
Abstract: A mechanism for plasma surface treatment includes a rotating head having at least one eccentrically disposed plasma nozzle for generating a plasma jet directed in parallel with the axis of rotation. The nozzle includes a swirl system for swirling the plasma jet.
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公开(公告)号:DE19927557C2
公开(公告)日:2003-08-21
申请号:DE19927557
申请日:1999-06-16
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: FOERNSEL PETER , BUSKE CHRISTIAN , HARTMANN UWE
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公开(公告)号:DE102019102831B4
公开(公告)日:2025-05-08
申请号:DE102019102831
申请日:2019-02-05
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: BUSKE CHRISTIAN
Abstract: Verfahren zur Plasmabehandlung einer Materialbahn (12, 210), insbesondere unter Verwendung einer Vorrichtung (10, 10', 10'', 10''', 50) nach einem der Ansprüche 7 bis 14,- bei dem die zu behandelnde Materialbahn (12, 210) bereitgestellt wird,- bei dem der Querschnitt der Materialbahn (12, 210) zumindest in einem Bereich der Materialbahn (12, 210) derart verändert wird, dass die Materialbahn (12, 210) einen im Querschnitt zumindest teilweise geschlossenen Behandlungsraum (28) bildet,- bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (36, 128) erzeugt und im Behandlungsraum (28) auf die Materialbahn (12, 210) gerichtet wird, so dass die Materialbahn (12, 210) mit dem atmosphärischen Plasmastrahl (36, 128) beaufschlagt wird, und- bei dem der Querschnitt der Materialbahn (12, 210) nach der Beaufschlagung der Materialbahn (12, 210) mit dem atmosphärischen Plasmastrahl (36, 128) in die ursprüngliche Ausgangsform geändert wird.
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