静电涂装用的喷涂装置
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104245148A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201280071231.0

    申请日:2012-10-03

    CPC classification number: B05B5/0533 B05B5/025 B05B5/053 B05B7/0815

    Abstract: 一种静电涂装用的喷涂装置,其具备:装置本体部,具有连接到涂料供给源的涂料供给路径;涂料喷嘴,设置在装置本体部的顶端部,具有连通到涂料供给路径的涂料流路以及形成在该涂料流路顶端部的涂料喷出孔;高电压发生部,产生高电压使从涂料喷出孔喷出的涂料带电;以及高电压电极,被施加高电压发生部所产生的高电压;其中,高电压电极以与涂料流路分离并被电绝缘的状态下,配置在装置本体部的外周部的自涂料喷出孔向后方离开规定距离的位置。

    静电粉末喷涂装置及其喷涂方法

    公开(公告)号:CN104162492A

    公开(公告)日:2014-11-26

    申请号:CN201410373703.9

    申请日:2014-07-31

    Inventor: 王冬洋 贺小明

    CPC classification number: B05B5/025 B05B5/053 B05B5/032 B05B5/0533 B05D1/06

    Abstract: 本发明提供了一种静电粉末喷涂装置及其喷涂方法。该静电粉末喷涂装置包括喷射气流生成元件、电场生成元件以及电场整形元件,其中喷射气流生成元件用于生成携带有带电粉末粒子的喷射气流,电场生成元件用于在电场生成元件与待喷涂元件之间生成用于导引带电粉末粒子的静电力场,电场整形元件用于对静电力场进行整形,以减小静电力在待喷涂元件的凹陷区域周围的法拉第笼静电屏蔽效应。通过上述方式,本发明能够解决待喷涂元件在凹陷区域因法拉第笼静电屏蔽效应产生的不上粉问题,提高在凹陷区域的上粉深度。

    一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的装置及方法

    公开(公告)号:CN109127180A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201811047970.1

    申请日:2018-09-10

    CPC classification number: B05B5/08 B05B5/025 B05B13/0431

    Abstract: 本发明公开了一种基于C切铌酸锂晶片实时可控溶胶喷射的装置及方法,该装置包括激光器1、快门2、CCD相机3、带阻滤光片4、半透半反镜5、物镜6、铌酸锂晶片7、石英晶片8、背景光源9。铌酸锂晶片7和石英晶片8组成的平行对称结构作为核心装置,此核心装置通过与激光器1、快门2协同配合实现待喷射溶胶喷射微量溶胶液滴到铌酸锂晶片7的任意位置。本发明利用铌酸锂晶片实现了溶胶凝胶法制备的溶胶的喷射,同时喷射的溶胶液滴大小及位置可控。该技术在生物医疗、化学检测、薄膜制备等领域的发展都具有非常重要的意义。

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