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公开(公告)号：TW201344164A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102112855
申请日：2013-04-11
Applicant: 希瑪股份有限公司 , CYMER, INC.
Inventor： 洛基司基 洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 程 那恭 , SEONG, NAKGEUON , 歐布萊恩 凱文M , O'BRIEN, KEVIN M.
CPC classification number: G01J3/28 , G01J3/027 , G01J3/1809 , G01J11/00 , G01J2001/4238 , G01J2009/006 , G03F7/70091 , G03F7/70575 , G03F7/7085
Abstract: 由一光源所產生的一脈衝光束之一頻譜特徵係藉下述步驟估計，根據具有包含複數個階的一圖樣週期的一預先界定的重複圖樣，修正該脈衝光束的波長，該修正係包括針對在該圖樣週期內的各階，偏移該脈衝光束的波長達距一基準線波長的一波長偏位；當橫跨該圖樣修正該波長時，針對在該圖樣週期內的各階量測該光束之波長；及至少部分根據針對在該圖樣週期內的各階量測得的該光束之波長，透過包括圖樣週期內的全部各階之一評估窗，估計該脈衝光束之一頻譜特徵。
Abstract in simplified Chinese: 由一光源所产生的一脉冲光束之一频谱特征系藉下述步骤估计，根据具有包含复数个阶的一图样周期的一预先界定的重复图样，修正该脉冲光束的波长，该修正系包括针对在该图样周期内的各阶，偏移该脉冲光束的波长达距一基准线波长的一波长偏位；当横跨该图样修正该波长时，针对在该图样周期内的各阶量测该光束之波长；及至少部分根据针对在该图样周期内的各阶量测得的该光束之波长，透过包括图样周期内的全部各阶之一评估窗，估计该脉冲光束之一频谱特征。
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公开(公告)号：TW201812367A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106126314
申请日：2017-08-04
Applicant: 美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
Inventor： 畢比 湯瑪士 費德列克 艾倫 二世 , BIBBY, THOMAS FREDERICK ALLEN JR , 索恩斯 約書亞 瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 洛基司基 洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 杜菲 湯瑪斯 派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
CPC classification number: G01J9/00 , G01J1/4257 , G01J2009/006 , G02B5/005 , G02B26/0825 , G02B27/0988 , G03F7/70058 , G03F7/70583
Abstract: 用於控制一光學系統之技術包括：存取自該光學系統發射之一脈衝式光束之一特定脈衝之一性質的一量測值，該性質與該光束之同調性之一數量有關；比較該光束之該性質的該量測值與該性質的一目標值；基於該比較而判定是否產生一控制信號；以及若基於該比較而產生一控制信號，則藉由基於該控制信號修改該光學系統之一態樣來調整該光束中之同調性之該數量，以減小在該特定脈衝之後的一脈衝之同調性之一數量。
Abstract in simplified Chinese: 用于控制一光学系统之技术包括：存取自该光学系统发射之一脉冲式光束之一特定脉冲之一性质的一量测值，该性质与该光束之同调性之一数量有关；比较该光束之该性质的该量测值与该性质的一目标值；基于该比较而判定是否产生一控制信号；以及若基于该比较而产生一控制信号，则借由基于该控制信号修改该光学系统之一态样来调整该光束中之同调性之该数量，以减小在该特定脉冲之后的一脉冲之同调性之一数量。
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公开(公告)号：TWI591320B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW102112855
申请日：2013-04-11
Applicant: 希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
Inventor： 洛基司基 洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 程 那恭 , SEONG, NAKGEUON , 歐布萊恩 凱文M , O'BRIEN, KEVIN M.
CPC classification number: G01J3/28 , G01J3/027 , G01J3/1809 , G01J11/00 , G01J2001/4238 , G01J2009/006 , G03F7/70091 , G03F7/70575 , G03F7/7085
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