公开(公告)号：CN101441991B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200810179579.7

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN101060070B

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：CN200710096191.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子聪 ,  松本和久 ,  伊藤规宏 ,  饱本正巳 ,  户岛孝之 ,  难波宏光

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种液体处理装置，包括：基板保持部，水平地保持基板，并能够与基板一同旋转；旋转杯，围绕被基板保持部保持的基板，能够与基板一同旋转；旋转机构，使旋转杯以及基板保持部一体旋转；液体供给机构，至少对基板的表面供给处理液；排气/排液部，从旋转杯向外部进行排气以及排液；和导向部件，按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧，与基板保持部以及旋转杯一同旋转，使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。

公开(公告)号：CN100550291C

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN200710110338.2

申请日：2007-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 难波宏光 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  B08B3/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68735

Abstract: 一种液体处理装置，具备：水平保持基板(W)并能够与基板一同旋转的基板保持部(2)；以围绕被基板保持部保持的基板的方式形成为环状，并能够与基板一同旋转的呈环状的旋转杯体(4)；使旋转杯体及基板保持部一体旋转的旋转机构(3)；向基板供给处理液的液体供给机构(5)。液体处理装置还具备：呈与旋转杯体对应的环状，承接从旋转杯体排出的处理液，并且具有将所承接的处理液排出的排液口(60)的排液杯体(51)；以及在使旋转杯体及基板保持部旋转时，在排液杯体内形成回旋流，伴随着该回旋流将排液杯体内的处理液导向排液口的回旋流形成部件(32a)。

公开(公告)号：CN1316572C

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN03152692.6

申请日：2003-06-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 长野泰博 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/306 ,  B08B5/00 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67253 ,  G03F7/423 ,  H01L21/67017

Abstract: 一种衬底处理系统，配置有通过对含氧气体放电而产生含臭氧气体的臭氧发生器，以及多个都能够在其中容纳衬底以通过供应的含臭氧气体处理衬底的处理容器。流量调节器控制供给臭氧发生器的含氧气体。控制器控制流量调节器，从而通过控制供给臭氧发生器的含氧气体的流速来控制来自臭氧发生器并供给一个或多个处理容器的含臭氧气体的流速。

公开(公告)号：CN1448799A

公开(公告)日：2003-10-15

申请号：CN03122663.9

申请日：2003-03-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 长野泰博 ,  伊藤规宏 ,  佐竹圭吾 ,  饭野正

IPC: G03F7/36 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/67017 ,  Y10S134/902 ,  Y10S438/935 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/87917

Abstract: 从共用的溶剂蒸汽(水蒸汽)供应源41和处理气体(臭氧气体)供应源42中向多个处理容器30A、30B供应臭氧气体和水蒸汽。通过调节分别设置在与各处理容器连接的排出管路80A、80B中的可调节流阀50A、50B的开启度，控制处理容器内的压力。

公开(公告)号：CN207097787U

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：CN201720915109.7

申请日：2017-07-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福岛刚史 ,  相浦一博 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置和喷嘴，能够在停止了处理液的喷出之后确认喷嘴内的液面位置。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和喷嘴。基板保持部保持基板。喷嘴向基板供给处理液。另外，喷嘴具备配管部和观察窗。配管部具有水平部分和从水平部分下垂的下垂部分，从下垂部分的顶端喷出处理液。观察窗设于配管部的水平部分。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利