公开(公告)号：CN103515220B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201310230866.7

申请日：2013-06-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河野央 ,  伊藤规宏 ,  八谷洋介 ,  野上淳 ,  大石幸太郎 ,  菅野至

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/02057 ,  G03F7/423 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在不对基板的基底层造成损伤的情况下良好地将去除对象层去除。在本发明中，基板处理装置（1）用于向在基底层的表面上形成有去除对象层的基板（3）供给硫酸与过氧化氢水的混合液而将去除对象层去除，包括：基板处理室（16），用于处理基板；基板保持部件（12），设于基板处理室内，用于保持基板；混合液供给部件（13），用于以不会对基底层造成损伤的温度和过氧化氢水的混合比向由基板保持部件保持着的基板供给硫酸与过氧化氢水的混合液；OH基供给部件（14），用于向基板供给含有OH基的流体，OH基供给部件供给含有在混合液与OH基在基板上混合时不会对基底层造成损伤的量的OH基的流体。

公开(公告)号：CN101989538B

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201010243590.2

申请日：2010-07-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 伊藤规宏

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67248 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供液体处理装置和液体处理方法。液体处理装置(10)包括：液体供给机构(15)；供给管线(30)，其与液体供给装置相连接、且具有用于喷出被调节了温度的液体的喷出开口(30a)；处理单元(50)，其用于支承供给管线的喷出开口；回流管线(35)，其使被供给到供给管线中的液体返回到液体供给机构中；液体供给切换阀(38a)，其切换下述动作，即、供给用于在处理单元中处理被处理体的液体的动作以及停止供给该液体的动作。液体供给切换阀(38a)设置在供给管线(30)上，且位于自供给管线(30)经由回流管线(35)返回到液体供给机构(15)中的液体的路径上。

公开(公告)号：CN100585799C

公开(公告)日：2010-01-27

申请号：CN200710110337.8

申请日：2007-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 伊藤规宏

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  B08B3/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

Abstract: 液体处理装置具备：基板保持部(2)，水平地保持基板(W)，能够与基板一起旋转；呈环状的旋转杯体(4)，围绕保持在基板保持部上的基板，能够与基板一起旋转，承接被从基板甩脱的处理液；旋转机构(3)，使旋转杯体及基板保持部一体地旋转；液体供给机构(5)，对基板供给处理液。液体处理装置还具备环状的排液杯体(51)和环状的排气杯体(52)，在排气杯体上连接有排气口(70)，以将被取入到排气杯体中的气体成分排出。在排气杯体与排气口之间夹设有调节气流的气流调节机构(78、97、99a)，以使气体成分的气流在排气杯体内实际上从整周朝向排气口流动。

公开(公告)号：CN101090064A

公开(公告)日：2007-12-19

申请号：CN200710110338.2

申请日：2007-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 难波宏光 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  B08B3/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68735

Abstract: 一种液体处理装置，具备：水平保持基板(W)并能够与基板一同旋转的基板保持部(2)；以围绕被基板保持部保持的基板的方式形成为环状，并能够与基板一同旋转的呈环状的旋转杯体(4)；使旋转杯体及基板保持部一体旋转的旋转机构(3)；向基板供给处理液的液体供给机构(5)。液体处理装置还具备：呈与旋转杯体对应的环状，承接从旋转杯体排出的处理液，并且具有将所承接的处理液排出的排液口(60)的排液杯体(51)；以及在使旋转杯体及基板保持部旋转时，在排液杯体内形成回旋流，伴随着该回旋流将排液杯体内的处理液导向排液口的回旋流形成部件(32a)。

公开(公告)号：CN108074839B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201711066321.1

申请日：2017-11-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 胁山辉史 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种能够防止在使基板和液体供给部上升时基板的背面被污染的基板处理装置。在升降销(22)和液体供给管(40)从与保持板(30)邻接的邻接位置向分离位置转移时，在第一上推构件(61)与升降销(22)连结的状态下第一上推构件(61)上升到预先设定的位置的期间，升降机构(60)只使升降销(22)上升。在第一上推构件(61)从预先设定的位置向分离位置上升的期间，升降机构(60)使升降销(22)和液体供给管(40)上升。

公开(公告)号：CN107527839B

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN201710471653.1

申请日：2017-06-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 绪方信博 ,  伊藤规宏 ,  东岛治郎 ,  桥本佑介 ,  相浦一博

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理装置的清洗方法和存储介质。其中，对液体承接杯的杯体的突出部均匀地进行清洗。使第1杯体(51)和第2杯体(52)中任一者升降而使两者设为接近的状态。此时，在第1突出部(5102)的下表面形成的间隙形成部(5106)与第2突出部(5202)的上表面之间的第1间隙(G1)比第1突出部的没有间隙形成部的部分与第2突出部的上表面之间的第2间隙(G2)小。在该状态下，向第2间隙供给清洗液。欲沿着半径方向朝外流动的清洗液的运动被较窄的第1间隙限制，因此，第1突出部与第2突出部之间的空间的整个区域能够由清洗液充满，能够对清洗对象面均匀地进行清洗。

公开(公告)号：CN107851572A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680044518.2

申请日：2016-07-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 伊藤规宏 ,  东岛治郎 ,  绪方信博 ,  大塚贵久 ,  道木裕一 ,  桥本佑介 ,  相浦一博 ,  后藤大辅

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: B08B17/025 ,  B08B3/02 ,  B08B3/022 ,  B08B3/08 ,  B08B2203/0264 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68764

Abstract: 基板处理装置具备：固定杯体(51)，其包围基板保持部(31)并接受被供给到基板的处理液或处理液的雾，且相对于处理容器相对地不动；雾防护件(80)；以及防护件升降机构(84)，其使雾防护件升降。雾防护件以包围固定杯体的方式设置于固定杯体的外侧，对越过固定杯体的上方而向外方飞散的液进行阻断。雾防护件具有：筒状的筒部(81)；以及伸出部(82)，其从筒部的上端朝且向固定杯体的侧伸出。

公开(公告)号：CN107833852A

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201711237047.X

申请日：2014-09-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 胁山辉史 ,  伊藤规宏 ,  东岛治郎

IPC: H01L21/67 ,  B08B17/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B17/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719

Abstract: 本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。

公开(公告)号：CN107658244A

公开(公告)日：2018-02-02

申请号：CN201710620301.8

申请日：2017-07-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福岛刚史 ,  相浦一博 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和喷嘴，能够在停止了处理液的喷出之后确认喷嘴内的液面位置。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和喷嘴。基板保持部保持基板。喷嘴向基板供给处理液。另外，喷嘴具备配管部和观察窗。配管部具有水平部分和从水平部分下垂的下垂部分，从下垂部分的顶端喷出处理液。观察窗设于配管部的水平部分。

公开(公告)号：CN101114579A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710138102.X

申请日：2007-07-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和久 ,  金子聪 ,  饱本正己 ,  户岛孝之 ,  伊藤规宏

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: 一种液体处理系统，包括：液体处理部(21b)，水平设置有向基板(W)供给处理液来进行液体处理的多个液体处理单元(22)；处理液存留部(21h)，对向液体处理部的多个液体处理单元供给的处理液进行存留；配管单元(21f)，具有从处理液存留部向多个液体处理单元引导处理液的供给配管；和容纳液体处理部、处理液存留部及配管单元的共用的框体(21)。处理液存留部、配管单元、及液体处理部从下方开始按该顺序被设置，配管单元的供给配管具有沿着多个液体处理单元的排列方向水平延伸的水平配管部(70a)，处理液从水平配管部分别被导入液体处理单元。