電池用セパレータ
    42.
    发明专利
    電池用セパレータ 有权
    细胞分离器

    公开(公告)号:JP2016186942A

    公开(公告)日:2016-10-27

    申请号:JP2016126177

    申请日:2016-06-27

    Abstract: 【課題】本発明は、シャットダウン機能と耐熱形状保持機能を併せ持つ電池用セパレータであって、膜厚や通気性において均一性が高い電池用セパレータを提供することを目的とする。 【解決手段】AFMで測定した表面粗さが50nm以下であり、かつ、その標準偏差が5nm以下である面を有する多孔質フィルムと、前記多孔質フィルムの少なくとも片面上に形成された、耐熱性微粒子を主成分として含む耐熱層とを含む電池用セパレータを提供する。 【選択図】 なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供具有关闭功能和耐热形状保持功能的电池隔板,并且具有高的膜厚度和透气性均匀性。解决方案:一种电池隔板包括:多孔膜,其表面的表面 通过AFM测量的粗糙度为50nm以下,标准偏差为5nm以下; 以及形成在多孔膜的至少一个表面上的耐热层,并且含有耐热细粒作为主要成分。选择图:无

    積層多孔質フィルム、蓄電デバイス用セパレータおよび蓄電デバイス
    43.
    发明专利
    積層多孔質フィルム、蓄電デバイス用セパレータおよび蓄電デバイス 有权
    层叠多孔膜,对于蓄电装置的隔板和蓄电装置

    公开(公告)号:JP5979299B1

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:JP2015222459

    申请日:2015-11-12

    Abstract: 【課題】反りの発生を抑制することができ、良好な電池特性を示す積層多孔質フィルムを提供する。 【解決手段】ポリオレフィン微多孔フィルム上に無機物を含む多孔層を層設した積層多孔質フィルムにおいて、前記多孔層に、一方の側端から他方の側端に向かって連続的に入り組みながら伸びた一条の溝を機械方向に複数形成されている。機械方向における隣り合った溝10、12、14の間隔は、セパレータの反り(カール)の解消と電池性能の両立を鑑みて適宜設定可能あるが、10〜40μmであることが好ましい。無機物を含む多孔層の溝の幅は0.5〜6μm以下であることが好ましい。例えば、溝10、12、14の溝幅が0.5μm以下の場合では、非水電解液の粘度にもよるが、非水電解液の粘度に対して溝幅が小さすぎる。 【選択図】図2

    Abstract translation: 甲它能够抑制翘曲的发生,以提供具有良好电池特性的叠层多孔膜。 解决方案:在层叠多孔膜是如此设包含在聚烯烃微多孔膜,所述多孔质层,在连续Irikumi从一侧边缘向另一侧边缘延伸的无机材料的多孔层 有多个在机器方向的槽条形成。 槽间距10,12,14在机器方向上相邻,但也可设置在图消除分离器(卷曲)的翘曲的电池性能的相容性的适当优选为10〜40微米。 优选的是,包括无机材料的多孔层的槽的宽度小于0.5〜6Myuemu。 例如,在槽10,12的情况下槽宽度,14为0.5μm或更小,这取决于非水电解质的粘度,槽宽是在非水电解质溶液的粘度过小。 .The

    ポリイミド多孔質膜及び多孔質膜製造用のポリイミド前駆体反応生成物溶液
    44.
    发明专利
    ポリイミド多孔質膜及び多孔質膜製造用のポリイミド前駆体反応生成物溶液 有权
    聚酰亚胺多孔膜和聚酰亚胺前体反应生产溶液用于生产多孔膜

    公开(公告)号:JP2015071755A

    公开(公告)日:2015-04-16

    申请号:JP2014182659

    申请日:2014-09-08

    Abstract: 【課題】 多孔質膜の両表面が実質的に開口していて、ガーレー値が低いポリイミド多孔質膜を提供する。 【解決手段】 ポリイミド多孔質フィルムを、カルボキシル基を有するポリイミド前駆体と該ポリイミド前駆体のカルボキシル基と塩を形成する塩基性化合物との反応生成物、該反応生成物の良溶媒、そして該良溶媒より20℃以上高い沸点を有する該反応生成物の非溶媒を含む多孔質膜製造用ポリイミド前駆体反応生成物溶液を用いて製造する。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种聚酰亚胺多孔膜,其中多孔膜的两个表面基本上被打开并且具有低的古利值。解决方案:通过使用聚酰亚胺前体反应生产溶液来生产聚酰亚胺多孔膜, 包括由具有羧基的聚酰亚胺前体和形成羧基的碱性化合物和聚酰亚胺前体的盐形成的反应产物的多孔膜,反应产物的良溶剂,以及比沸点高的反应产物的非溶剂 良溶剂20℃以上。

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