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公开(公告)号：CN203085197U
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201220535314.8
申请日：2012-10-18
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G06F3/044 , B32B3/00 , B32B7/12 , G02B5/30 , H01B5/14 , Y10T428/24802 , Y10T428/24851
Abstract: 本实用新型提供一种透明导电性薄膜。透明导电性薄膜(10)具有透明粘接层(11)、层叠于透明粘接层(11)的一个面的第一聚环烯烃薄膜(12)、层叠于透明粘接层(11)的另一个面的第二聚环烯烃薄膜(13)、形成于第一聚环烯烃薄膜(12)上的第一透明电极图案(14)、和形成于第二聚环烯烃薄膜(13)上的第二透明电极图案(15)。无论从哪个方向观察本实用新型的透明导电性薄膜(10)都几乎不产生颜色不均匀。
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公开(公告)号：CN202940007U
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201220556937.3
申请日：2012-10-26
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G06F3/044 , G06F2203/04103
Abstract: 本实用新型提供透明导电性薄膜（10），其具有透明的第一薄膜（11）、透明电极图案（12）、透明粘接剂层（13）和透明的第二薄膜（14），第一薄膜（11）与第二薄膜（14）隔着透明粘接剂层（13）层叠，第一薄膜（11）的厚度为15μm~55μm。第二薄膜（14）的厚度为第一薄膜（11）的厚度的1.5倍~6倍。透明粘接剂层（13）是厚度为0.01μm以上且小于10μm的固化粘接剂层。
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公开(公告)号：CN204706006U
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201520382370.6
申请日：2015-06-04
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本实用新型提供透明导电性薄膜，其透明性和处理性良好、且电阻率更小。透明导电性薄膜(1)至少依次具有聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(2)、固化层(3)、无机硅氧化物层(4)及铟-锡氧化物层(5)。聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(2)的厚度为40μm～130μm。并且固化层(3)在该固化层内具备多个无机颗粒(3b)。固化层(3)的厚度(dA)与无机硅氧化物层(4)的厚度(dB)的总和为300nm以上并且不足3000nm。无机硅氧化物层(4)的厚度超过15nm，铟-锡氧化物层(5)的厚度为15nm以上并且50nm以下，且其表面的中心线平均粗糙度Ra为0.1nm以上并且不足2nm。
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公开(公告)号：CN202995688U
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201220539000.5
申请日：2012-10-19
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G06F3/044
CPC classification number: G06F3/044
Abstract: 本实用新型提供一种能够减小形成有透明电极图案的薄膜中产生的波纹的电容型触摸面板传感器。本实用新型的触摸面板传感器具备第一薄膜、形成于该第一薄膜上的第一透明电极图案、以覆盖该第一透明电极图案的方式层叠于第一薄膜上的第一粘接层、层叠于该第一粘接层上的第二薄膜、层叠于该第二薄膜上的第二粘接层、层叠于前述第二粘接层上的第三薄膜、和形成于该第三薄膜上的第二透明电极图案；由第二薄膜与第二粘接层的总厚度Da和第一透明电极图案与第二透明电极图案的距离Db规定的Da/Db为0.5~0.9。
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公开(公告)号：CN115835957B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202180049236.2
申请日：2021-07-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B7/022 , G02B1/18 , G02B1/14 , G02B1/115 , G02B1/113 , C23C14/34 , C23C14/08 , C23C14/06 , B32B27/00 , B32B9/00 , B32B7/023
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)是配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的通过纳米压痕法而测得的25℃下的硬度为1.05GPa以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112299090B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202010742469.8
申请日：2020-07-29
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B65H20/02 , B65H27/00 , B65H23/00 , B65H37/04 , C03C17/245 , B32B37/10 , B32B37/06 , B32B37/08 , B32B38/10 , B32B38/00
Abstract: 本发明提供玻璃基材的输送装置、层叠玻璃的制造装置以及制造方法。玻璃基材(1)的输送装置(11)具有：送出辊(21)，该送出辊构成为，送出具有挠性的玻璃基材(1)；卷取辊(41)，该卷取辊构成为，卷取玻璃基材(1)；以及第1驱动辊(22)，该第1驱动辊配置于玻璃基材的输送方向上的送出辊(21)与卷取辊(41)之间，构成为被赋予用于输送玻璃基材的动力。第1驱动辊(22)构成为，在玻璃基材(1)与第1驱动辊(22)相接触的状态下，在玻璃基材中相对于与第1驱动辊(22)的表面相接触的接触面(51)而言相反的一侧的非接触面(52)不与其他输送构件(夹压辊(44))相接触。第1驱动辊(22)的表面具有0.8μm以下的最大高度粗糙度Rz。
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公开(公告)号：CN115812033B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202180049524.8
申请日：2021-07-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B7/022 , G02B1/18 , G02B1/14 , G02B1/115 , G02B1/113 , C23C14/34 , C23C14/08 , C23C14/06 , B32B27/00 , B32B9/00
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)为配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的、在温度为25℃且最大压痕深度为200nm的条件下利用纳米压痕法而测得的弹性恢复率为76％以上。
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公开(公告)号：CN117295611A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202280034167.2
申请日：2022-12-06
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B37/14
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)的制造方法包括如下工序：边利用辊对辊方式搬运透明基材薄膜(10)边在该透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的一面侧形成防污层(23)。透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的另一面的表面自由能为45mN/m以下。本发明的带防污层的光学薄膜(F)具备透明基材薄膜(10)和防污层(23)，所述防污层(23)配置在透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的一面侧。透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的另一面的表面自由能为45mN/m以下。
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