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公开(公告)号：CN108855719B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201810448191.6
申请日：2018-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及喷嘴清扫技术，在将喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下清扫上述顶端部，防止喷嘴抵接构件的局部性摩耗来延长喷嘴抵接构件的寿命并且减少摩擦粉的产生。喷嘴清扫装置具备：喷嘴抵接构件，设置有凹部，凹部具有能够与顶端部抵接的内侧面；以及驱动部，在喷嘴抵接构件按压于顶端部的状态下，使喷嘴抵接构件相对于顶端部在喷出口的延伸方向上移动。在喷嘴抵接构件未对顶端部施加按压的状态下，喷嘴抵接构件利用内侧面中的凹部的开口侧的端部卡止顶端部，另一方面，在喷嘴抵接构件对顶端部施加按压的状态下，顶端部与凹部彼此接近，由此使凹部弹性变形，扩展内侧面对顶端部的按压范围。
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公开(公告)号：CN111992437A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010856746.8
申请日：2018-01-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供涂敷装置以及涂敷方法。在一边以使基板浮起的状态进行搬运，并且使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于基板的涂敷技术中，使涂敷于基板的涂敷液的厚度稳定化。在由基板搬运机构搬运的上述基板的前端到达上述多个孔列中的上述搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从上述喷嘴向由上述涂敷浮起部浮起的上述基板排出上述涂敷液，并且，开始使上述喷嘴向上述相逆方向移动。
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公开(公告)号：CN111715473A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN202010131552.1
申请日：2020-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供一边在使浮起量呈阶段状地变化的状态下浮起搬运基板一边向该基板上表面供给处理液的基板处理技术，良好地向基板供给处理液。处理工作台具有：供给浮起区域，位于喷嘴的下方并使基板以适于供给处理液的供给用浮起量浮起；上游侧浮起区域，在搬运方向上的供给浮起区域的上游侧，使基板以比供给用浮起量大的上游侧浮起量浮起；下游侧浮起区域，在搬运方向上的供给浮起区域的下游侧，使基板以比供给用浮起量大的下游侧浮起量浮起；以及变动缓和部，在供给浮起区域与上游侧浮起区域之间以及供给浮起区域与下游侧浮起区域之间的至少一方，具有不设置喷出口及抽吸口的缓冲区域，缓和在缓冲区域与供给浮起区域的边界附近的基板的浮起量的变动。
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公开(公告)号：CN108325788B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201810055183.5
申请日：2018-01-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供涂敷装置以及涂敷方法。在一边以使基板浮起的状态进行搬运，并且使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于基板的涂敷技术中，使涂敷于基板的涂敷液的厚度稳定化。在由基板搬运机构搬运的上述基板的前端到达上述多个孔列中的上述搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从上述喷嘴向由上述涂敷浮起部浮起的上述基板排出上述涂敷液，并且，开始使上述喷嘴向上述相逆方向移动。
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公开(公告)号：CN108855778A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810449468.7
申请日：2018-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 一种涂敷技术和喷嘴，能够抑制喷嘴清扫处理中的喷嘴和喷嘴抵接构件的摩耗和破损且利用喷嘴在适当范围内涂敷涂敷液。涂敷装置具备：喷嘴，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液；喷嘴抵接构件，具有能够与顶端部抵接的凹部；驱动部，使喷嘴抵接构件相对于喷嘴从喷出口的延伸方向的一侧向另一侧相对地移动。顶端部具有：喷出口形成部，形成有喷出口；以及倾斜部，从喷出口形成部的一侧端部向延伸方向的一侧且向与喷出涂敷液的方向相反的一侧延伸。驱动部在使喷嘴抵接构件的凹部与倾斜部抵接且使喷嘴抵接构件沿着倾斜部相对地移动到喷出口形成部后，一边使凹部与喷出口形成部抵接一边使喷嘴抵接构件相对于喷出口形成部移动。
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公开(公告)号：CN220111470U
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202320369551.X
申请日：2023-02-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05C5/02
Abstract: 本实用新型提供一种具有狭缝状的喷出口的狭缝喷嘴及具有该狭缝喷嘴的基板处理装置，能够在喷出口的整体上高效地进行用于使喷出量均匀化的作业。本实用新型具有：第一主体部和第二主体部，分别具有隔着间隙彼此对置的平坦面，在间隙中形成流路和喷出口；以及多个螺钉构件，将第一主体部和第二主体部结合。多个螺钉构件配置为，由沿喷出口的长度方向呈列状配置的多个螺钉构件构成的螺钉列在与长度方向正交的方向上形成多个。在多个螺钉列中的每一个中设置有：窄间距部，从螺钉列的两端部分别以较小的配置间距配置有规定数量的螺钉构件；以及宽间距部，在螺钉列中与窄间距部相比更靠内侧，以比窄间距部中的配置间距大的配置间距配置螺钉构件。
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公开(公告)号：CN210449710U
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201921053610.2
申请日：2019-07-08
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本实用新型提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，能够在狭缝喷嘴的吐出口的两端部扩大开口尺寸的可调整范围而提高膜厚的均匀性。狭缝喷嘴包括：第一本体部，沿吐出口的长度方向延伸设置；第二本体部，以与第一本体部相向的方式配置而形成吐出口；中央调整机构，在长度方向上的第二本体部的中央区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的中央区域的开口尺寸；以及两端调整机构，在长度方向上的第二本体部的两端区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的两端区域的开口尺寸；并且通过两端调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过中央调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力。
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公开(公告)号：CN214917627U
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202120361262.6
申请日：2021-02-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02
Abstract: 本实用新型的课题在于在狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中，确实地固定经调整的螺丝而抑制吐出口的开口宽度的变动，从而稳定地吐出涂布液。本实用新型的狭缝喷嘴包括：喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙地相向而形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整吐出口的开口宽度。在至少一个唇部，在与另一个唇部为相反侧的面设有与吐出口的长边方向平行的槽，调整机构包括：调整螺丝，沿着长边方向排列多个，分别在与槽的深度方向相交的方向上跨越槽而螺合；以及施力构件，由弹性体形成，相对于喷嘴本体能够装卸地设置，对多个调整螺丝向喷嘴本体侧施力。
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公开(公告)号：CN215390401U
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202023053851.2
申请日：2020-12-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05C5/02
Abstract: 本实用新型的课题在于在狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中，能够在吐出口的中央部与端部之间有效率地进行用于使吐出量均匀化的作业。本实用新型的狭缝喷嘴包括：喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙地相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整吐出口的开口宽度，在一对唇部中的至少一个中，在与和另一个唇部相向的相向面为相反侧的面上与吐出口的长边方向平行地设置有槽，调整机构通过以增减喷嘴本体中的隔着槽而相向的部位的间隔的方式使喷嘴本体变形来调整开口宽度。槽在与吐出口在长边方向上的端部对应的位置处，比在与吐出口在长边方向上的中央部对应的位置处深。
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公开(公告)号：CN210411380U
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201921100847.1
申请日：2019-07-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置，能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间，并且能够一边抑制被去除的处理液的飞散一边回收处理液。回收从喷嘴去除的剩余的处理液的处理液回收部具有：容器，呈上方开放且具有比喷出口的长度方向的尺寸大的宽度的箱形，在第一喷嘴待机位置设置在喷出口及处理液去除部的下方；膜，呈在长度方向上具有比喷出口大的尺寸的带状，在与长度方向正交的宽度方向上，中央部与容器的内底面抵接并且两端部立起，从下方包围处理液去除部。
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