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公开(公告)号：CN117619592B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202311091614.0
申请日：2023-08-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及泵控制参数的调整方法、计算机程序、记录介质、喷出装置以及涂布装置，将用于从泵向喷嘴送出处理液的泵控制参数进行最优化，以使能够在实际的喷出动作中得到与目标一致的特性。本发明的泵控制参数的调整方法包括：调整工序，临时设定控制参数，从泵送出处理液，获取喷出压力曲线，调整控制参数，以使所获取的喷出压力曲线接近预先设定的目标曲线；基于所调整的控制参数，执行喷出动作，获取喷出压力曲线的工序；设定工序，设定与在调整工序中获取的喷出压力曲线与在喷出动作中获取的喷出压力曲线的差分对应的偏移量；以及再调整工序，再调整控制参数，以使在所获取的喷出压力曲线加上偏移量后的曲线接近目标曲线。
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公开(公告)号：CN116337316A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202211543974.5
申请日：2022-12-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种喷出压力评价方法，能够在与喷出压力的适当与否相对应的合理时间内，进行为了从喷嘴喷出处理液而对处理液施加的喷出压力的评价。设置有通过互不相同的评价项目分别评价喷出压力的从第1个到第N个的N个评价阶段。但是，在基于第I个评价阶段所涉及的评价项目的评价中判断为喷出压力适当的情况下，执行基于第(I+1)个评价阶段所涉及的评价项目的喷出压力的评价，另一方面，在基于第I个评价阶段所涉及的评价项目的评价中判断为喷出压力不适当的情况下，不执行在第I个评价阶段之后的顺序的评价阶段的喷出压力的评价(即，被省略)。
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公开(公告)号：CN116337315A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202211536782.1
申请日：2022-12-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种喷出压力评价方法，能够将从开始从喷嘴喷出处理液起到结束为止的整个期间中的喷出压力适当与否反映到喷出压力的评价中。在从开始从喷嘴(71)喷出涂敷液(处理液)起到结束从喷嘴(71)喷出涂敷液为止的喷出期间Tt(第一期间)中，测定喷出压力。然后，提取整个喷出期间Tt中的喷出压力的时间变化所具有的理想梯形绝对误差作为特征量Fv1(第一特征量)，基于该特征量Fv1来评价喷出压力的时间变化。
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公开(公告)号：CN114950809A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202111353549.5
申请日：2021-11-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 提供一种将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置，其包括：附着物去除部，由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由底部及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
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公开(公告)号：CN111715473B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202010131552.1
申请日：2020-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供一边在使浮起量呈阶段状地变化的状态下浮起搬运基板一边向该基板上表面供给处理液的基板处理技术，良好地向基板供给处理液。处理工作台具有：供给浮起区域，位于喷嘴的下方并使基板以适于供给处理液的供给用浮起量浮起；上游侧浮起区域，在搬运方向上的供给浮起区域的上游侧，使基板以比供给用浮起量大的上游侧浮起量浮起；下游侧浮起区域，在搬运方向上的供给浮起区域的下游侧，使基板以比供给用浮起量大的下游侧浮起量浮起；以及变动缓和部，在供给浮起区域与上游侧浮起区域之间以及供给浮起区域与下游侧浮起区域之间的至少一方，具有不设置喷出口及抽吸口的缓冲区域，缓和在缓冲区域与供给浮起区域的边界附近的基板的浮起量的变动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108855720B
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201810449439.0
申请日：2018-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明在喷嘴清扫技术和使用喷嘴清扫技术的涂敷装置中提供通用性优异的喷嘴清扫技术，喷嘴清扫技术在将喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下，使喷嘴抵接构件相对于顶端部在喷出口的延伸方向上相对地移动来清扫上述顶端部。喷嘴清扫装置具备：喷嘴抵接构件，具有能够与设置有喷出涂敷液的狭缝状的喷出口的喷嘴的顶端部抵接的凹部；开口调整部，从与喷出口的延伸方向交叉的方向对喷嘴抵接构件施加应力来调整凹部的开口形状；以及驱动部，使喷嘴抵接构件在延伸方向上相对地移动，在将由开口调整部调整了开口形状的凹部按压于顶端部的状态下，驱动部使喷嘴抵接构件相对于顶端部在延伸方向上移动来清扫顶端部。
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公开(公告)号：CN111822234A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010305007.X
申请日：2020-04-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 提供一种涂布装置及涂布方法，以优异的品质将涂布液涂布到基板上。本发明构成为，具有：处理台，使基板浮起，基板运送部，将在处理台上浮起的基板在运送方向上运送，以及喷嘴，向由基板运送部运送的基板的上表面供给处理液；处理台具有：供给浮起区域，位于喷嘴的下方，使所述基板浮起，上游侧浮起区域，在运送方向上，在供给浮起区域的上游侧使基板浮起，以及下游侧浮起区域，在运送方向上，在供给浮起区域的下游侧使基板浮起；运送方向上的上游侧浮起区域的长度比下游侧浮起区域的长度长。
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公开(公告)号：CN109482582A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201810631033.4
申请日：2018-06-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及一种清洗器具、清洗方法以及液体供给装置，利用清洗液更良好地且在短时间内清洗联接器，所述联接器具有能够装卸于液体贮存体上的盖部和贯通设置于所述盖部的配管，通过将所述配管插入所述液体贮存体的内部，能经由所述配管取出在所述内部贮存的液体，所述清洗器具具有：容器，具有能够插入配管的开口、能够经由所述开口容纳所述配管的内部空间，以及保持部，安装于所述容器的所述开口附近，保持从所述液体贮存体卸下的所述联接器；通过使所述清洗液在间隙空间与所述配管的内部之间流通，来清洗所述配管，所述间隙空间为，所述配管容纳于所述内部空间而在所述容器的内表面与所述配管的外表面之间形成的空间。
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公开(公告)号：CN107812628A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201710333637.6
申请日：2017-05-10
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明是一边使喷嘴相对于基板相对地移动，一边从填充有处理液的填充状态的泵将处理液输送至喷嘴，从而缩短从喷嘴使处理液喷出至基板的基板处理装置的节拍时间。本发明基板处理装置包括：补充部，将处理液补充至泵；移动部，使喷嘴相对地移动至维护部及喷出位置；及控制部，通过在利用移动部使喷嘴从喷出位置经由维护部移动至喷出位置期间从泵向喷嘴输送处理液，来进行用于将处理液喷出至下一个基板的准备动作。本发明可以缩短节拍时间。
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公开(公告)号：CN118218221B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202311768716.1
申请日：2023-12-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种既避免降低生产效率，又防止因在冷却部的冷却面过度蓄积液态溶剂而导致的不良影响的减压干燥装置。一种减压干燥装置(1)，使涂敷于基板(9)的上表面的涂敷膜干燥，其中，具有：腔室(10)，容纳基板；支撑部(20)，在腔室内支撑基板；减压机构(30)，从腔室吸引气体，使腔室内的压力降低；以及冷却部(40)，对与支撑部所支撑的基板的上表面相对并大于基板(9)的冷却面(40a)进行冷却。冷却部(40)的冷却面(40a)具有：相对区域(RC)，在基板的厚度方向上与基板的能够形成涂敷膜(90)的区域(AC)相对；以及外侧区域(RO)，位于相对区域(RC)的外侧。冷却部(40)构成为外侧区域(RC)的温度高于相对区域的温度。
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