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公开(公告)号：CN101755071A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200880025385.X
申请日：2008-05-29
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 玉垣浩
IPC: C23C14/35
CPC classification number: H01J37/3405 , C23C14/352 , H01J37/3455
Abstract: 本发明的目的在于提供一种溅射装置，通过抑制能够旋转的圆筒状标靶的轴向端部的局部消耗，使该圆筒状标靶的腐蚀区域均匀化，能够提高其使用寿命。该装置具备分别包括能够旋转的圆筒状标靶(13)和配置在其内侧的磁场发生部件(14)的一对溅射蒸发源(2)，以及将圆筒状标靶(13)作为阴极向其供给放电电力的溅射电源(3)。两圆筒状标靶(13)配置成其中心轴彼此相互平行，各磁场发生部件(14)产生具有穿过圆筒状标靶(13)的表面而相互吸引的磁力线的磁场。
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