-
公开(公告)号：CN106575533A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580041982.1
申请日：2015-07-20
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: A61B6/4291 , A61B6/032 , A61B6/06 , A61B6/484 , A61B6/502 , G01N23/20075 , G21K1/025 , G21K1/06 , G21K1/10 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及用于X射线成像设备的光栅设备(1)、干涉仪单元(2)、X射线成像系统、X射线成像方法以及用于控制这样的设备的计算机程序单元和存储有这样的计算机程序单元的计算机可读介质。用于X射线成像设备的光栅设备(1)包括光栅布置(10)和致动布置。光栅布置(10)包括多个光栅分段(11)。所述致动布置被配置为在第一位置与第二位置之间利用至少旋转部件来移动所述多个光栅分段(11)。在所述第一位置中，所述光栅分段(11)被布置在X射线射束(30)的路径中，使得所述光栅分段(11)影响所述X射线射束(30)的部分。在所述第二位置中，所述光栅分段(11)被布置在X射线射束(30)的所述路径的所述部分外部，使得所述X射线射束(30)的所述部分不受所述光栅分段(11)影响。
-
公开(公告)号：CN106030345A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201580008130.2
申请日：2015-12-09
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及一种X射线探测器，所述X射线探测器包括直接转换半导体层(60)，所述直接转换半导体层具有多个像素，所述多个像素用于将入射辐射转换成具有所述半导体层的带隙能量特性的电测量信号，其中，所述入射辐射为由X射线源(2)发射的X射线辐射或者由至少一个光源(30、33)发射的光。另外，评估单元(67)被提供用于根据当来自所述至少一个光源的具有第一强度的光被耦合到所述半导体层中时每像素或每像素组所生成的第一电测量信号以及当来自所述至少一个光源的具有第二强度的光被耦合到所述半导体层中时每像素或每像素组所生成的第二电测量信号来计算每像素或每像素组的评估信号，其中，所述评估单元被配置为检测所述第一电测量信号和所述第二电测量信号中每像素或每像素组的噪声峰值，并且被配置为根据检测到的噪声峰值来确定每像素或每像素组的偏置和增益。探测单元(69)被提供用于根据当X射线辐射入射到所述半导体层上时所生成的电测量信号来确定探测信号，并且校准单元(68)被提供用于基于所述评估信号来校准所述探测单元。
-
公开(公告)号：CN103620393B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280030185.X
申请日：2012-06-07
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: G06T11/005 , A61B6/032 , A61B6/482 , A61B6/583 , G01N23/046 , G01N2223/401 , G01N2223/419 , G06T2211/408
Abstract: 本发明涉及一种用于对对象成像的成像装置（31）。重建单元（12）确定对应例如对象的基础材料的成分投影数据值，并且基于确定的成分投影数据值来重建对象的图像。对应射线的成分投影数据值被确定为加权基函数的组合，所述加权基函数取决于相同射线的能量投影数据值和相同射线的取向。这允许认为相应的分解可能取决于射线的取向，从而允许所述成像装置改善将提供的能量投影数据值分解为成分投影数据值的质量以及由此改善基于成分投影数据值而重建的对象的最终重建图像的质量。
-
公开(公告)号：CN105103238A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480019691.8
申请日：2014-11-12
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/065 , G21K1/06 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及一种用于对X射线射束(B)进行谱滤波的光栅布置和方法，所述光栅布置包括：色散元件(10)，其包括棱镜，所述棱镜被配置为使X射线射束(B)衍射成包括第一方向(D1)的第一射束分量(BC1)和包括第二方向(D2)的第二射束分量(BC2)，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜；第一光栅(20)，其被配置为生成第一射束分量(BC1)的第一衍射图样(DP1)和第二射束分量(BC2)的第二衍射图样(DP2)，所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位；以及第二光栅(30)，其包括至少一个开口(31)，所述至少一个开口沿从第一衍射图样(DP1)或第二衍射图样(DP2)的强度的最大值(MA)到最小值(MI)的线(d)对准。
-
公开(公告)号：CN104271044A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380023032.7
申请日：2013-04-22
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: A61B6/481 , A61B5/4839 , A61B6/032 , A61B6/4241 , A61B6/463 , A61B6/482 , A61B6/487 , A61B6/5205 , A61B6/5217 , G06T7/0012 , G06T11/005 , G06T2207/10081
Abstract: 一种成像系统(100)，包括：辐射源(108)，其发射穿过检查区域和定位于所述检查区域中的感兴趣组织中的可成像药物洗脱珠的辐射；光谱探测器阵列(110)，其探测穿过检查区域的辐射并且生成指示所述辐射的信号；光谱处理电路(117)，其基于多个阈值(122)来光谱地解析信号；以及重建器(128)，其基于光谱地解析的所述信号来生成符合可成像药物洗脱珠的光谱体积图像数据。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104024886A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280063624.7
申请日：2012-12-13
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G01T1/17
CPC classification number: A61B6/585 , A61B6/4241 , A61B6/5205 , A61B6/5258 , A61B6/582 , A61B2560/0223 , A61B2560/0238 , G01R29/0273 , G01R29/033 , G01R29/0878 , G01R29/24 , G01T1/171 , G01T1/18 , G06F7/64 , H01L27/14856 , H03K5/1252 , H03K5/2463 , H03K21/40
Abstract: 本发明涉及一种用于探测光子的探测装置(12)。所述探测装置包括堆积确定单元(15)，其用于确定指示探测到的光子的探测信号脉冲是由堆积事件还是由非堆积事件引起的，其中，探测值生成单元(16)根据所述探测信号脉冲并且根据对相应探测信号脉冲是由堆积事件还是由非堆积事件引起的确定结果来生成探测值。具体地，所述探测值生成单元能够适于在生成所述探测值时排除由堆积事件引起的所述探测信号脉冲。这允许所生成的探测值的改善的质量。
-
公开(公告)号：CN103348415A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201280007951.0
申请日：2012-02-02
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/067 , A61B6/0407 , A61B6/4035 , A61B6/4078 , A61B6/4291 , A61B6/4441 , A61B6/484 , A61B6/508 , G21K1/06 , G21K2201/067 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及X射线差分相衬成像。为了增强通过相衬成像采集的信息，用于X射线差分相衬成像的分析光栅（34）被提供有吸收结构（48）。后者包括第一多个（50）第一区域（52）和第二多个（54）第二区域（56），所述第一区域（52）具有第一X射线衰减，所述第二区域（56）具有第二X射线衰减。所述第二X射线衰减小于所述第一X射线衰减，并且以交替的方式周期性地布置所述第一区域和第二区域。第三多个（58）第三区域（60）被提供有第三X射线衰减，其在从所述第二X射线衰减到所述第一X射线衰减的范围之内，其中，每第二个所述第一区域或每第二个所述第二区域被一个所述第三区域取代。
-
公开(公告)号：CN107072620B
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN201580062900.1
申请日：2015-11-11
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 一种成像系统包括辐射源(108)，所述辐射源被配置为关于检查区域(106)旋转并且发射穿过所述检查区域的辐射。所述成像系统还包括辐射敏感像素(112)的阵列，其被配置为探测穿过所述检查区域的辐射并输出指示探测到的辐射的信号。辐射敏感像素的阵列被设置为跨检查区域与辐射源相对。所述成像系统还包括刚性通量滤波器设备(130)，所述刚性通量滤波器设备被设置在所述辐射源与光子计数像素的辐射敏感探测器阵列之间的检查区域中。所述刚性通量滤波器设备被配置为对穿过所述检查区域并且入射在所述刚性通量滤波器设备上的辐射进行滤波。离开所述刚性通量滤波器设备的辐射具有预定通量。
-
公开(公告)号：CN108291976B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN201680067555.5
申请日：2016-11-20
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G01T1/29
Abstract: 本发明涉及一种探测值确定系统，特别是用于光子计数CT扫描仪的探测值确定系统，其包括探测脉冲提供单元，所述探测脉冲提供单元用于提供针对探测像素17的阵列的探测脉冲，所述探测像素的阵列被提供有抗电荷共享网格15，所述抗电荷共享网格用于抑制所述探测像素的不同团簇14之间的电荷共享，其中，所述探测脉冲指示入射在所述探测像素上的光子的能量。基于所提供的探测脉冲来确定经电荷共享校正的探测值，其中，为了确定针对团簇的探测像素的经电荷共享校正的探测值，仅考虑同一团簇的探测像素。这允许相对高的探测量子效率，其中，用于提供电荷共享校正的技术努力可以相对较低。
-
公开(公告)号：CN112543878A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201980051358.8
申请日：2019-08-01
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G01T1/24
Abstract: 本发明涉及一种光子计数探测器，所述光子计数探测器包括：第一直接转换层(10)，其包括低吸收性直接转换材料(11)和第一电触点(12)，所述低吸收性直接转换材料用于将撞击的高能电磁辐射(100)转换成第一计数信号；第二直接转换层(20)，其包括高吸收性直接转换材料(21)和第二电触点(22)，所述高吸收性直接转换材料用于将撞击的高能电磁辐射(100)转换成第二计数信号，所述高吸收性直接转换材料的吸收性比所述低吸收性直接转换材料的吸收性更高；以及载体层(30、30a、30b)，其包括与所述第一电触点和所述第二电触点接触的第一端子(31)和第二端子(32)以及被配置为基于所述第一计数信号对所述第二计数信号校正误差的处理电路(35)，其中，所述第一直接转换层和所述第二直接转换层被布置为使得所述高能电磁辐射在击中所述第二直接转换层之前透射所述第一直接转换层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
127
records
(took 0.038 seconds)
