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公开(公告)号：JP2016177203A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2015058722
申请日：2015-03-20
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】現像液の種類に関わらず、高感度で高解像度かつ適度な厚膜化が可能なパターンを形成することができ、組成物の保存安定性も良好であるパターン形成方法を提供すること。 【解決手段】膜を形成する膜形成工程、前記膜を露光する露光工程、及び該露光工程において露光された膜を現像する現像工程、を備え、前記膜が、金属化合物と、下記化学式(1)で表される化合物と、を有機溶媒[I]中で混合することにより得られる生成物と、有機溶媒[II]と、を含有する感放射線性組成物を用いて形成されるパターン形成方法を提供する。 【化1】 (式(1)中、R、R’は、各々独立に、水素原子、炭素数2〜20の鎖状または環状のアルキル基、炭素数2〜20の鎖状または環状のアルキルカルボニル基、炭素数6〜20のアリール基、または炭素数6〜20のアリーロキシ基を表し、上記環状のアルキル基、環状のアルキルカルボニル基、アリール基、またはアリーロキシ基における水素原子の一部は置換基で置換されていても良い。) 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，其可以形成能够实现高灵敏度，高分辨率和合适的膜厚度的图案，而不管种类的显影剂如何，并且可以实现令人满意的组合物的储存稳定性。 提供了一种图案形成方法，其包括用于形成膜的成膜工艺，用于曝光该膜的曝光工艺和用于显影在曝光过程中曝光的膜的显影过程。 通过使用含有通过在有机溶剂[I]和有机溶剂[II]中混合金属化合物和由以下化学式（1）表示的化合物获得的产物材料的辐射敏感性组合物来形成膜。 R-O-O-R'...（1）。 在式（1）中，R和R'各自独立地表示氢原子，碳原子数2〜20的直链或环状烷基，碳原子数2〜20的直链状或环状烷基羰基，芳基6 20个碳原子或碳原子数为6〜20的芳氧基和环状烷基中的一部分氢原子，环状烷基羰基，芳基或芳氧基可以被取代基取代。选择图示： 没有
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公开(公告)号：JP2016161886A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2015043019
申请日：2015-03-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , C08F32/08 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 【課題】自己組織化による相分離構造の明確性及びパターンの矩形性を高めつつ、耐熱性を向上させる下層膜形成用組成物、下層膜の形成方法及び自己組織化リソグラフィープロセスの提供。 【解決手段】自己組織化リソグラフィープロセスにおける自己組織化膜105の下層膜102の形成に用いられる下層膜形成用組成物であって、ナフタレン環を含むエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位を有する重合体及び溶媒を含有する下層膜形成用組成物。上記重合体としてはアセナフチレン系重合体が好ましい。上記下層膜の吸光係数としては0.15以上0.40以下が好ましい。上記下層膜の熱質量測定における5%減量温度としては270℃以上が好ましい。上記重合体の重量平均分子量としては1,000以上20,000以下が好ましい。架橋剤をさらに含有し、上記重合体が架橋性基を有するとよい。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过自组装和图案的矩形特性提高相位分离结构的透明度的增强耐热性的底片的组合物，形成底膜的方法和自组装光刻工艺。 解决方案：提供一种用于形成底膜的组合物，用于在自组装光刻工艺中形成自组装膜105的底膜102，并且含有具有衍生自含有萘环的烯属不饱和化合物的结构单元的聚合物和 溶剂。 聚合物优选为苊烯聚合物。 衬底膜的吸光度指数优选为0.15以上且0.40％以下。 底层膜的热质量测定中的5％还原温度优选为270℃以上。 聚合物的重均分子量优选为1,000以上且20,000以下。 优选还含有交联剂，并且聚合物具有可交联基团。选择图：图4
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公开(公告)号：JP2015216368A
公开(公告)日：2015-12-03
申请号：JP2015087150
申请日：2015-04-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B05D3/064 , C09D125/14 , H01L21/027 , H01L21/0332 , H01L21/3065 , C08L2201/56
Abstract: 【課題】自己組織化リソグラフィープロセスにおいて、自己組織化による相分離構造を良好に形成させ、かつ矩形のパターンを形成させることができる下地用組成物を提供する。 【解決手段】下地102として、オキソ酸基を有する化合物、及び溶媒を含有することを特徴とする。上記化合物は、下記式(1)で表されることが好ましい。式(1)中、Aは、炭素数10以上のn価の有機基である。Bは、オキソ酸基である。nは、1〜200の整数である。上記オキソ酸基としては、リン酸基、ホスホノ基、スルホ基、硫酸基及びカルボキシ基からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。酸発生剤をさらに含有することが好ましい。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于碱的组合物，其能够在自结构光刻工艺中根据自组织和形成矩形图案令人满意地形成相分离结构。解决方案：用于碱的组合物包括 具有含氧酸基的化合物和碱102的溶剂。该化合物优选由下式（1）表示。 式（1）中，A表示碳原子数为10以上的n价有机基团， B代表含氧酸基团; n为1-200的整数。 氧代酸基优选为选自磷酸基，膦酰基，磺基，硫酸基和羧基中的至少一种基团。 优选组合物还包含氧发生剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2015216180A
公开(公告)日：2015-12-03
申请号：JP2014097238
申请日：2014-05-08
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L53/00 , C08K5/00 , C08F297/02 , H01L21/3065
CPC classification number: C08F297/026 , C08F293/00 , C08L53/00 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/20
Abstract: 【課題】相分離能及びパターンの断面矩形性に優れる自己組織化膜を得られるパターン形成用組成物、及びこのパターン形成方法の提供をする。 【解決手段】酸又は熱により解離し得る第1解離性基を主鎖末端に有するブロック共重合体を含有するパターン形成用組成物である。このパターン形成用組成物が、エネルギー付与により酸を発生する酸発生体をさらに含有するとよい。上記ブロック共重合体が、自己組織化により相分離構造を形成し得る重合体であるとよい。上記第1解離性基が式(a)で表される基であるとよい。 (Rは、炭素数1〜20の1価の有機基である。R’は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。*は、上記ブロック共重合体の主鎖末端の原子と結合する部位である) 【選択図】図5
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于图案形成的组合物，通过该组合物可以获得相位分离性优异的自组织膜和形成矩形形状的图案横截面的能力; 以及形成图案的方法。解决方案：用于图案形成的组合物包括：具有第一解离基团的嵌段共聚物，其可以在其主链的末端被酸或热解离。 用于图案形成的组合物还可以包括在接受能量施加时产生酸的酸产生体。 嵌段共聚物可以是能够根据自组织形成相分离结构的聚合物。 第一解离基团可以是由式（a）表示的基团。 （式中，R表示碳原子数为1〜20的1价有机基团，R'表示氢原子或碳原子数为1〜20的1价有机基团，符号“*”表示与末端键合的部分 嵌段共聚物的主链原子。）
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公开(公告)号：JP5729079B2
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：JP2011071242
申请日：2011-03-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , C08F232/08 , G03F7/039
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公开(公告)号：JPWO2019167704A1
公开(公告)日：2021-03-04
申请号：JP2019005936
申请日：2019-02-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: B05D7/00 , B05D7/24 , C23C28/00 , C09D201/02 , C09D125/04 , C09D7/63 , B05D3/02
Abstract: 金属原子を含む表面領域を簡便に、高選択的かつ高密度に修飾することができる基材表面の修飾方法、組成物及び重合体の提供を目的とする。本発明は、表層に金属原子を有する基材の表面に第1組成物を塗工する工程と、上記塗工工程により形成された塗膜を加熱する工程とを備え、上記第1組成物が、第1重合体と溶媒とを含有し、上記第1重合体が、主鎖の末端又は側鎖の末端に、下記式(1)で表される基、炭素−炭素三重結合を含む基及び芳香族性ヒドロキシ基を含む基からなる群より選ばれる少なくとも1種の第1官能基を有する基材表面の修飾方法である。下記式(1)中、R 1 は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。nは、1〜10の整数である。
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