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公开(公告)号：WO2008096656A1
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：PCT/JP2008/051492
申请日：2008-01-31
IPC: C08G77/50 , C01B33/12 , C09D183/04 , C09D183/08 , C09D183/14 , C09D185/00 , H01L21/312 , H01L21/316
CPC classification number: C09D183/08 , C08G77/50 , C09D183/04 , C09D183/14 , H01L21/3121 , H01L21/316
Abstract: ケイ素含有ポリマーの合成方法は、（Ａ）加水分解性シランモノマーおよび（Ｂ）加水分解性ポリカルボシランから選ばれた少なくとも１種の加水分解性シラン化合物を含む第１の液を、水および触媒を含む第２の液に添加し、該加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させる工程を含む。
Abstract translation: 公开了一种合成含硅聚合物的方法，其包括将含有至少一种可水解硅烷单体（A）和可水解聚碳硅烷（B）的可水解硅烷化合物的第一液体添加到含水的第二液体的步骤， 催化剂，从而引起可水解硅烷化合物的水解缩合。
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公开(公告)号：WO2007139004A1
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：PCT/JP2007/060681
申请日：2007-05-25
IPC: C09D183/14 , C08G77/50 , H01B3/46 , H01L21/312 , H01L21/316
CPC classification number: H01B3/46 , C08G77/50 , C09D183/14 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/3122 , H01L21/316
Abstract: A composition for forming insulating films, which comprises both a condensate prepared by the condensation through hydrolysis of (A) at least one silane selected from the group consisting of compounds represented by the general formula (1) and compounds represented by the general formula (2) with (B) a carbosilane having a structure represented by the general formula (3) and an organic solvent: R 1
Abstract translation: 一种用于形成绝缘膜的组合物，其包含通过水解（A）至少一种选自由通式（1）表示的化合物和由通式（2）表示的化合物的硅烷 ）与（B）具有由通式（3）表示的结构的碳硅烷和有机溶剂：R 1
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公开(公告)号：WO2005068540A1
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/JP2005/000374
申请日：2005-01-14
IPC: C08G77/48
CPC classification number: C08G77/48 , C08G77/08 , C08G77/50 , C09D183/14 , H01B3/30 , H01L21/02126 , H01L21/0234 , H01L21/02348 , H01L21/02351 , H01L21/3121 , Y10T428/31663
Abstract: 本発明の絶縁膜形成用組成物は、（Ｂ）ポリカルボシランおよび（Ｃ）塩基性触媒の存在下、（Ａ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。
Abstract translation: 公开了一种用于形成绝缘膜的组合物，其含有在聚碳硅烷（B）和碱性催化剂（C）的存在下含有可水解基团的硅烷单体（A）通过水解缩合获得的水解缩合产物，以及 有机溶剂。
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公开(公告)号：WO2008066060A1
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/JP2007/072902
申请日：2007-11-28
IPC: C08G77/50 , C09D183/14 , H01B3/46 , H01L21/316 , H01L21/768 , H01L23/522
CPC classification number: H01L21/3122 , C08G77/50 , C08G77/58 , C09D183/16 , H01B3/46 , H01L21/02126 , H01L21/02211 , H01L21/31612 , H01L23/5329 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: ポリマーの製造方法は、（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のポリカルボシラン化合物と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される加水分解性シラン化合物で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物とを、（Ｃ）金属キレート化合物および酸性触媒もしくはいずれか一方の存在下で反応させて中間体を得た後、該中間体を（Ｄ）塩基性触媒の存在下で処理する工程を含む。
Abstract translation: 公开了一种聚合物的制造方法，其包括使（A）至少一种下述通式（1）表示的聚碳硅烷化合物与（B）至少一种选自水解性硅烷的硅烷化合物 在（C）金属螯合物和酸性催化剂中的一种或两种的存在下，由下述通式（2）表示的化合物，然后在（D）碱性催化剂的存在下处理如此得到的中间体。
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5.发明申请
公开(公告)号：WO2007119554A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/056597
申请日：2007-03-28
IPC: C08G77/48 , B05D7/24 , C09D5/25 , C09D183/04 , C09D183/14 , C09D183/16 , H01L21/312 , C08K5/00 , C08L83/14
CPC classification number: C09D183/14 , C08G77/50 , C08L83/14 , H01L21/3121
Abstract: Disclosed is a composition for forming a polymer film, which contains a polymer obtained by co-condensing (A) at least one hydrolyzable group-containing silane compound selected from the group consisting of compounds represented by the general formulae (1) and (2) below, and (B) at least one cyclic silane monomer selected from the group consisting of compounds represented by the general formula (3) below, and an organic solvent. [Chemical formula 1] (3) (In the formula, R 4 -R 7 may be the same as or different from one another and respectively represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyloxy group, a sulfone group, a methanesulfone group, a trifluoromethanesulfone group or a monovalent hydrocarbon group; m represents an integer of 1-6; and n represents an integer of 1-10.)
Abstract translation: 公开了一种用于形成聚合物膜的组合物，其包含通过使（A）至少一种选自由通式（1）和（2）表示的化合物组成的组中的至少一种可水解基团的硅烷化合物共缩合而获得的聚合物， 和（B）至少一种选自下述通式（3）表示的化合物和有机溶剂的环状硅烷单体。 [化学式1]（3）（式中，R 4〜R 7可以相同或不同，分别表示氢原子， 卤素原子，羟基，烷氧基，酰氧基，砜基，甲烷基，三氟甲烷基或一价烃基; m表示1〜6的整数，n表示1〜10的整数 。）
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2019031250A1
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：JP2018027972
申请日：2018-07-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 感度及び解像性に優れる感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される構造単位を有するポリメタロキサンと、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)中、Mは、ゲルマニウム原子、スズ原子又は鉛原子である。Ar 1 は、置換若しくは非置換の環員数6〜20のアリール基又は置換若しくは非置換の環員数5〜20のヘテロアリール基である。R 1 は、炭素数1〜20の1価の有機基、水素原子、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。nは、2又は3である。
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公开(公告)号：JPWO2018139109A1
公开(公告)日：2019-11-14
申请号：JP2017045386
申请日：2017-12-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本発明は、下記式(1)、下記式(2)又はこれらの組み合わせで表される第1構造単位、及び下記式(3)で表される第2構造単位を有する金属酸化物と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)〜(3)中、Mは、それぞれ独立して、ゲルマニウム、スズ又は鉛である。R 1 、R 2 及びR 3 は、それぞれ独立して、Mに炭素原子で結合する炭素数1〜40の1価の有機基である。上記金属酸化物を構成する全構造単位に対する上記第1構造単位の含有割合としては50モル%以上が好ましい。
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公开(公告)号：JP6323456B2
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：JP2015536505
申请日：2014-08-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/11 , C09D1/00 , G03F7/091 , H01L21/0276 , H01L21/0332 , H01L21/3065 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31116 , H01L21/31144
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公开(公告)号：JP2015219246A
公开(公告)日：2015-12-07
申请号：JP2014100016
申请日：2014-05-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 【課題】ナノエッジラフネスを改善すると共に放射線感度及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成でき、ひいては、多層レジストプロセスにおける加工性能に優れるパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、基板の上面側に無機膜形成用組成物により無機膜を形成する工程、上記無機膜の上面側に感放射線性樹脂組成物によりレジストパターンを形成する工程、及び上記レジストパターンをマスクとしたドライエッチングにより上記基板にパターンを形成する工程を備え、上記感放射線性樹脂組成物が、環炭素数6〜20の芳香環を有する構造単位を含む重合体及び感放射線性酸発生体を含有することを特徴とするパターン形成方法である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以获得具有改善的纳米边缘粗糙度并且具有优异的辐射敏感性和图案抗倒塌性的抗蚀剂图案，并且可以实现在多层抗蚀剂工艺中优异的加工性能。解决方案： 形成方法包括以下步骤：从在基板的上表面侧形成无机膜的组合物形成无机膜; 在无机膜的上表面侧由辐射敏感性树脂组合物形成抗蚀剂图案; 以及通过使用抗蚀剂图案作为掩模通过干法蚀刻在衬底上形成图案。 辐射敏感性树脂组合物包含含有在环上具有6〜20个碳原子的芳香环的结构单元和辐射敏感性酸发生剂的聚合物。
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