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公开(公告)号:CN101952205A
公开(公告)日:2011-01-19
申请号:CN200980105463.1
申请日:2009-01-14
Applicant: 艾尼股份公司
CPC classification number: C02F1/469 , B01D3/143 , B01D61/44 , B01D61/445 , B01D2311/04 , B01D2311/06 , C02F1/4693 , C02F2101/34 , C02F2103/365 , C02F2201/46115 , C02F2201/46125 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/4618 , C10G2300/1022 , B01D2311/2669
Abstract: 本发明涉及一种用于处理来自费-托反应的水流的方法,包括:将包含反应有机副产物的水流送入蒸馏塔或汽提塔;从塔中收集富含具有1-8个碳原子的醇和其它可能的挥发性化合物的馏出物;将离开蒸馏塔底部的含酸的水流送入电渗析槽并且制得两个流出流:富含具有1-8个碳原子的有机酸的水流(i);具有低酸含量的纯化的水流(ii)。
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公开(公告)号:CN100455519C
公开(公告)日:2009-01-28
申请号:CN200480021275.8
申请日:2004-05-21
Applicant: 水技术控股有限公司
CPC classification number: C02F1/36 , C02F1/4606 , C02F1/4672 , C02F2001/46142 , C02F2103/42 , C02F2201/4613 , C02F2201/4615 , C02F2201/4617 , C02F2209/04
Abstract: 本申请公开了一种清洁液体的清洁和消毒设备,所述设备包括在所述液体内产生具有杀藻或杀菌效果的离子的电离装置、在所述液体内引入超声波的超声清洁装置以及增加所述液体的氧化还原电位的电子氧化装置,其中同时操作所述电离装置、超声清洁装置和电子氧化装置一段时间,从而在不用添加盐、氯或其它化学物质的情况下清洁并消毒所述液体。
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公开(公告)号:CN1826293A
公开(公告)日:2006-08-30
申请号:CN200480021275.8
申请日:2004-05-21
Applicant: 水技术控股有限公司
CPC classification number: C02F1/36 , C02F1/4606 , C02F1/4672 , C02F2001/46142 , C02F2103/42 , C02F2201/4613 , C02F2201/4615 , C02F2201/4617 , C02F2209/04
Abstract: 本申请公开了一种清洁液体的清洁和消毒设备,所述设备包括在所述液体内产生具有杀藻或杀菌效果的离子的电离装置、在所述液体内引入超声波的超声清洁装置以及增加所述液体的氧化还原电位的电子氧化装置,其中同时操作所述电离装置、超声清洁装置和电子氧化装置一段时间,从而在不用添加盐、氯或其它化学物质的情况下清洁并消毒所述液体。
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公开(公告)号:CN1692081A
公开(公告)日:2005-11-02
申请号:CN200380100637.8
申请日:2003-11-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: D06F35/006 , C02F1/4606 , C02F2201/46125 , C02F2201/4613 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2303/24 , D06F33/02 , D06F35/003 , D06F39/02 , D06F39/088
Abstract: 本发明的离子溶出单元,由驱动电路向电极之间施加电压而生成金属离子。向电极之间施加的电压的极性,是中间隔着电压施加休止时间周期性翻转的。对于在电极之间流动的电流,由电流检测电路进行检测。对该电流检测电路的动作进行的确认,在向电极开始施加电压之前进行。电流检测电路,在从对电极开始施加电压起经过既定时间之后开始进行检测动作。
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公开(公告)号:CN1180988C
公开(公告)日:2004-12-22
申请号:CN02120430.6
申请日:2002-05-27
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/467
CPC classification number: C02F1/4674 , C02F1/001 , C02F2103/42 , C02F2201/46125 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/4618 , C02F2209/05 , C02F2209/42 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 本发明涉及一种水处理装置,具有:向控制并驱动泵和调整阀的驱动器提供控制信号的控制部分;测定流过电极间的电流值的装置;循环处理路径,把水槽内蓄留的被处理水汲出,电解被处理水进行灭菌后返回水槽内,该循环处理路径中具有测定被处理水的残留氯浓度的残留氯浓度传感器;间歇处理装置,具有:第一电解槽,通过给具有至少两个电极板的电极组通电,电解所蓄留的液体以制造具有灭菌作用的灭菌液;把含有氯离子而且具有促进电化学反应作用的电解质溶液供给第一电解槽的装置;调整第一电解槽中制造的灭菌液浓度的装置;以及贮存有在第一电解槽制造的灭菌液的蓄留箱;把间歇处理装置制造的灭菌液随时供给循环处理路径的装置。
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公开(公告)号:CN1119290C
公开(公告)日:2003-08-27
申请号:CN95191143.0
申请日:1995-01-11
Applicant: 科学应用公司
CPC classification number: B01J19/088 , C02F1/32 , C02F1/34 , C02F1/4608 , C02F11/00 , C02F11/12 , C02F2201/4615 , C02F2201/46175 , C02F2303/04 , C02F2305/023
Abstract: 本发明公开一种液体净化方法和装置:至少一个净化单元;容纳待处理水的净化腔装置,该净化腔装置整合到所述净化单元;至少一个阳极组件,该阳极组件包括一个阳极部件,至少一个阴极组件,该阴极组件包括一个阴极部件,所述阳极部件和阴极部件位于所述净化腔装置中相对的两侧,并在它们之间限定了一个电弧放电区域;引导水流通过接近电弧放电区域的所述净化腔装置的水流装置;向电弧放电区域的水注入气体的气体注射器装置,所述气体注射器装置含有一个整合到所述阳极组件上的气体喷嘴,气体通过阳极进行注射;和在所述阳极部件和阴极部件之间产生一系列电弧的脉冲发生器装置。
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公开(公告)号:CN1346916A
公开(公告)日:2002-05-01
申请号:CN01126004.1
申请日:1995-08-21
Applicant: 东陶机器株式会社
IPC: E03D9/02
CPC classification number: C11D3/3953 , A61L2/035 , C02F1/32 , C02F1/46104 , C02F1/4672 , C02F1/4674 , C02F1/50 , C02F1/78 , C02F2001/46185 , C02F2201/46115 , C02F2201/4612 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2209/42 , C02F2303/04 , C11D3/48 , C11D11/0023 , E03D9/00 , E03D9/005 , E03D9/02 , E03D13/00 , Y02W10/37
Abstract: 本发明提供便器的洗净方法和便器洗净装置,它是与以前的添加酸性物质的方法相比、很少需要维修、而且对使用者来说是安全的,是能有效地防止便器发生污垢,而且能充分抑制氨的生成和异臭的。它是在便器(A1)里设置具有至少一对电极、在电极间形成的流路、连通流路的液体流入口和流出口的连续式电解槽(1)。连续式电解槽(1)将自来水电解、生成游离氯。当将包含所生成的游离氯的水流入便器(A1)内时,含有游离氯的水对便器内进行杀菌,把细菌所有的脲酶引起的尿素分解作用抑制住。由此抑制便器表面和便器防臭阀的尿石附着,着色污垢和异臭的发生。
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公开(公告)号:CN1324769A
公开(公告)日:2001-12-05
申请号:CN01118168.0
申请日:2001-05-18
Applicant: 应用氧化技术(2000)公司
CPC classification number: C02F1/46114 , C02F1/463 , C02F1/4672 , C02F1/72 , C02F1/78 , C02F2201/4613 , C02F2201/4615 , C02F2301/066
Abstract: 用于从含有污染物的水源中分离污染物的方法和装置。该方法包括使用溶于水系统中的高能氧化剂。气体在贮水器内溶于水溶液中,并且贮水器内的压力是可控制的。这使得溶解的氧化气体与污染物最大接触。一旦被氧化,贮水器的出口就被调节以形成液压空化,诱导形成泡沫,而泡沫把絮凝物从水溶液转移到分离相中。也可在该操作中加上电凝法。这包括使用置于含有氧化剂的贮水器内的电絮凝池。通过提供电极并使电极暴露于水流,水溶液中的污染物既可以被氧化,也可以被降解,并通过溶解的气态氧化剂补充了氧化作用。
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公开(公告)号:CN1299782A
公开(公告)日:2001-06-20
申请号:CN00128264.6
申请日:2000-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F1/46104 , C02F1/001 , C02F1/42 , C02F1/4674 , C02F1/66 , C02F1/76 , C02F9/00 , C02F2001/46119 , C02F2001/46128 , C02F2001/46152 , C02F2103/42 , C02F2201/4612 , C02F2201/46125 , C02F2201/4613 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/46155 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/05 , C02F2209/06 , C02F2209/29 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 一种新的水处理装置,其包括具有注入水的电解槽和用于电解设在电解槽内的电极和将池内的水注入到电解槽中,且将电解槽内的水返回到池中的水处理通路和测定水的残留氯浓度的残留氯传感器和根据残留氯传感器的测定值控制向电极通电的控制机构。可以对储存的水简单且有效地进行消毒处理。
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公开(公告)号:CN1275538A
公开(公告)日:2000-12-06
申请号:CN00107920.4
申请日:2000-05-22
Applicant: 应用氧化技术(2000)公司
CPC classification number: C02F1/46114 , C02F1/008 , C02F1/24 , C02F1/46 , C02F1/4608 , C02F1/463 , C02F1/4672 , C02F1/52 , C02F1/72 , C02F1/722 , C02F1/76 , C02F1/766 , C02F1/78 , C02F2001/46123 , C02F2001/46152 , C02F2103/22 , C02F2201/003 , C02F2201/4612 , C02F2201/4613 , C02F2201/4615 , C02F2201/4617 , C02F2201/46175 , C02F2201/4619 , C02F2209/005 , C02F2209/05 , C02F2301/024 , C02F2301/066
Abstract: 用于从含有污染物的水源中分离污染物的方法和装置。该方法包括使用溶于水系统中的高能氧化剂。气体在贮水器内溶于水溶液中,并且贮水器内的压力是可控制的。这使得溶解的氧化气体与污染物最大接触。一旦被氧化,贮水器的出口就被调节以形成液压空化,诱导形成泡沫,而泡沫把絮凝物从水溶液转移到分离相中。也可在该操作中加上电凝法。这包括使用置于含有氧化剂的贮水器内的电絮凝池。通过提供电极并使电极暴露于水流,水溶液中的污染物既可以被氧化,也可以被降解,并通过溶解的气态氧化剂补充了氧化作用。
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