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公开(公告)号：CN1143828C
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN00128207.7
申请日：2000-12-15
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/467
CPC classification number: C02F1/46104 , C02F1/001 , C02F1/42 , C02F1/4674 , C02F2001/46152 , C02F2103/42 , C02F2201/4612 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/05 , C02F2209/29 , C02F2209/42 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 本发明的水处理装置，包括：装入水的电解容器；置于该电解容器内的电极；把保存水的水池内的水注入电解容器内，并且把电解容器内的水返回到水池中的水处理通路；用于测定水的残留氯浓度的残留氯传感器；用于循环水并设置在水处理通路的电解容器的下游侧的循环泵；为了把电解所产生的气体与水分离而设置在水处理通路上的气体分离过滤器。该水处理装置对从游泳池到一般家庭用的浴缸的各种大型水池中保存的水，都能简单且有效地进行杀菌处理。
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公开(公告)号：CN1282611C
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200410088497.3
申请日：2004-11-03
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F1/4618 , C02F1/001 , C02F1/46109 , C02F1/4674 , C02F2201/46125 , C02F2201/4617 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/30 , C02F2209/42
Abstract: 本发明提供一种电解水的生成能力稳定的电解水生成装置。在电解槽(10)中接纳被处理水，在电解槽(10)中，从电解促进剂槽(50)中添加作为电解促进剂的饱和氯化钠水溶液，对被处理水进行电解处理。在进行电解处理时，将被处理水从送入口(10A)送入电解槽(10)中。在电解槽(10)内进行了电解处理的被处理水通过溢流口(10D)排向贮藏槽(12)。在电解槽(10)的内部，设置作为电极对(11)的多个电极对。在进行电解处理时，检测流过设置于从电解槽(10)的送入口(10A)朝向溢流口(10D)的水路的最上游侧的电极对的电极之间的电流值，调整电解槽(10)内的促进剂浓度，由此，按照使该电流值在规定的范围内的方式进行控制。
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公开(公告)号：CN1254438C
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200310103093.2
申请日：2003-10-30
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/467
Abstract: 本发明提供一种水处理装置，该装置用于在保持供水箱的密封性，并且防止气体的贮存的问题的同时，通过电解处理，有效地对大厦等的供水设备中的，从供水口供给的水进行杀菌，保持水的质量。该水处理装置，其带有下述功能，即，在与供水箱(2)连接的处理水路(100)中的，电解处理机构(11)的下游侧，连接有自动排气阀(13)，该自动排气阀(13)用于将通过电解处理产生的气体排到处理水路(100)之外，并且在运转过程中将其暂时地停止，由此，促进气体流向自动排气阀(13)。由于可在装置暂时停止时，通过本身的浮力，将通过电解处理产生的气体收集于自动排气阀(13)中，将其排到处理水路(100)之外，故可在保持供水箱(2)的密封性的同时，确实防止气体贮存于该供水箱(2)内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1229283C
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN03156174.8
申请日：2003-09-02
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种水处理装置，该水处理装置可使脱氮处理的效率高于目前的水平，可更有效地进行脱氮处理，还可抑制氯气的发生。在用于对水(w1)进行脱氮处理的电解槽(11)或用于向电解槽(11)供水并从电解槽(11)排出处理后的水的处理水路(10)中，设有pH传感器(S2)，该pH传感器用于测定流过处理水路(10)的水(w1)的pH，并设置用于将酸性剂(11)供到水中的酸性剂供给机构(12)，为了在电解槽(11)中的电化学反应时，将pH传感器(S2)的测定值保持在8以下，从酸性剂供给机构(12)供给酸性剂(L1)。通过将电化学反应时的水的pH抑制在8以下，使脱氮处理的效率高于目前水平，可抑制氯气的发生。
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公开(公告)号：CN1613787A
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN200410088497.3
申请日：2004-11-03
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F1/4618 , C02F1/001 , C02F1/46109 , C02F1/4674 , C02F2201/46125 , C02F2201/4617 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/30 , C02F2209/42
Abstract: 本发明提供一种电解水的生成能力稳定的电解水生成装置。在电解槽(10)中接纳被处理水，在电解槽(10)中，从电解促进剂槽(50)中添加作为电解促进剂的饱和氯化钠水溶液，对被处理水进行电解处理。在进行电解处理时，将被处理水从送入口(10A)送入电解槽(10)中。在电解槽(10)内进行了电解处理的被处理水通过溢流口(10D)排向贮藏槽(12)。在电解槽(10)的内部，设置作为电极对(11)的多个电极对。在进行电解处理时，检测流过设置于从电解槽(10)的送入口(10A)朝向溢流口(10D)的水路的最上游侧的电极对的电极之间的电流值，调整电解槽(10)内的促进剂浓度，由此，按照使该电流值在规定的范围内的方式进行控制。
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公开(公告)号：CN1180988C
公开(公告)日：2004-12-22
申请号：CN02120430.6
申请日：2002-05-27
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/467
CPC classification number: C02F1/4674 , C02F1/001 , C02F2103/42 , C02F2201/46125 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/4618 , C02F2209/05 , C02F2209/42 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 本发明涉及一种水处理装置，具有：向控制并驱动泵和调整阀的驱动器提供控制信号的控制部分；测定流过电极间的电流值的装置；循环处理路径，把水槽内蓄留的被处理水汲出，电解被处理水进行灭菌后返回水槽内，该循环处理路径中具有测定被处理水的残留氯浓度的残留氯浓度传感器；间歇处理装置，具有：第一电解槽，通过给具有至少两个电极板的电极组通电，电解所蓄留的液体以制造具有灭菌作用的灭菌液；把含有氯离子而且具有促进电化学反应作用的电解质溶液供给第一电解槽的装置；调整第一电解槽中制造的灭菌液浓度的装置；以及贮存有在第一电解槽制造的灭菌液的蓄留箱；把间歇处理装置制造的灭菌液随时供给循环处理路径的装置。
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公开(公告)号：CN1299782A
公开(公告)日：2001-06-20
申请号：CN00128264.6
申请日：2000-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F1/46104 , C02F1/001 , C02F1/42 , C02F1/4674 , C02F1/66 , C02F1/76 , C02F9/00 , C02F2001/46119 , C02F2001/46128 , C02F2001/46152 , C02F2103/42 , C02F2201/4612 , C02F2201/46125 , C02F2201/4613 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/46155 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/05 , C02F2209/06 , C02F2209/29 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 一种新的水处理装置,其包括具有注入水的电解槽和用于电解设在电解槽内的电极和将池内的水注入到电解槽中,且将电解槽内的水返回到池中的水处理通路和测定水的残留氯浓度的残留氯传感器和根据残留氯传感器的测定值控制向电极通电的控制机构。可以对储存的水简单且有效地进行消毒处理。
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公开(公告)号：CN1151980C
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN00128264.6
申请日：2000-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/467
CPC classification number: C02F1/46104 , C02F1/001 , C02F1/42 , C02F1/4674 , C02F1/66 , C02F1/76 , C02F9/00 , C02F2001/46119 , C02F2001/46128 , C02F2001/46152 , C02F2103/42 , C02F2201/4612 , C02F2201/46125 , C02F2201/4613 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615 , C02F2201/46155 , C02F2201/4618 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/05 , C02F2209/06 , C02F2209/29 , C02F2301/043 , C02F2303/04
Abstract: 一种水处理装置，其中包括具有注入水的电解槽和用于电解设在电解槽内的电极，在电解槽内注入水后向电极通电进行电解将水进行消毒的电解消毒机构和与贮存水的池连接，将池内的水注入到电解槽中，且将电解槽内的水返回到池中的水处理通路和测定水的残留氯浓度的残留氯传感器及根据残留氯传感器的测定值控制向电极通电量的控制机构，设定水的残留氯浓度的设定机构，控制机构是控制向电极的通电量，以便将残留氯传感器的测定值达到与设定机构设定的残留氯浓度一致。
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