公开(公告)号：CN1299781C

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN01821224.7

申请日：2001-09-19

Applicant: 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫

Inventor： 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫

IPC: A61N5/10

CPC classification number: G21K1/06 ,  A61N5/1001 ,  A61N5/1014 ,  A61N2005/1091 ,  A61N2005/1095 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及一种X射线治疗恶性和良性肿瘤和某些其它疾病的设备，它包括一中空探头(5)、一X射线或γ量子或中子形式的中性粒子的放射源(1)和一形成沿探头的纵轴线定向的粒子束的装置。本发明的形成粒子束的装置是以准直器或透镜(18)的形式被部分埋置的，它是以一组用于具有全内反射的放射传送的曲线通道的形式被埋置的。所述装置可以位于探头的内部。本发明的探头在使用时引入病人的身体(11)内，它的远端接近病理部位或直接插入其中。为了作用于病理部位，使用了中性粒子源的放射线或位于探头的远端内的目标中激发的二次放射或由这目标散射的放射。本发明设备的结构不要求探头抽真空或在探头内使用高电压。通过调换探头，尤其是改变其尺寸和作用在病理区上的照射的能量和方向，易于变换它的结构设计。可拆卸的探头简化了它的消毒。

公开(公告)号：CN1543653A

公开(公告)日：2004-11-03

申请号：CN02816193.9

申请日：2002-06-18

Applicant: X射线光学系统公司

Inventor： 陈泽武 ,  戴维·M·吉布森

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G01N23/223 ,  G01N2223/076 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/064

Abstract: 本发明提供X射线荧光(XRF)光谱测定系统和方法。XRF系统(100)包括X射线辐射源(110)、和布置在X射线辐射源(110)和试样(130)之间的激励光学器件(120)、以便收集来自所述辐射源的X射线辐射，并将X射线辐射聚焦到试样上的一个焦点，以引起试样中至少一种被分析物发出荧光。该系统(100)还包括X射线探测仪(150)，和收集光学器件(140)。收集光学器件包括至少一个双曲衍射光学器件，该双曲衍射光学器件布置在试样和X射线探测仪之间，以便收集来自试样上的焦点处的X射线荧光，并将荧光X射线导向至少一个X射线探测仪。

公开(公告)号：CN1147876C

公开(公告)日：2004-04-28

申请号：CN96196231.3

申请日：1996-06-11

Applicant: 爱克斯光系统有限公司

Inventor： D·M·吉布森 ,  R·G·唐宁

IPC: G21K1/02 ,  G01N24/00

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/068

Abstract: 公开了一种装置和方法用于提供发散度的大小可控的聚焦的x-射线，伽马-射线，带电粒子和中性粒子，包括中子束，放射线束(18)。装置的特点是新颖地使用了放射线阻挡结构(54，142，218，240)，当它与多通道全反射透镜(10)结合时，通过提供用户可控的输出束发散度增加了透镜组的多用性。

公开(公告)号：CN103827718B

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201280045224.3

申请日：2012-09-17

Applicant: 佛森技术公司

Inventor： D·奇尔德斯

IPC: G02B6/44 ,  C03C25/12

CPC classification number: G21K5/00 ,  C03C25/12 ,  F26B3/28 ,  F26B13/00 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065

Abstract: 用于UV固化工件比如光纤上的涂层或印刷油墨的装置包括布置为具有共定位焦点的双椭圆反射器。工件在共定位焦点处居中，使得双椭圆反射器被布置在工件的相对侧上。两个单独的光源被放置在每个椭圆反射器的第二焦点处，其中从光源照射的光基本上集中在共定位焦点处的工件表面上。

公开(公告)号：CN107847200A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680041153.8

申请日：2016-07-12

Applicant: 皇家飞利浦有限公司

Inventor： G·马滕斯 ,  E·勒斯尔

IPC: A61B6/00

CPC classification number: A61B6/06 ,  A61B6/40 ,  A61B6/482 ,  G01N23/044 ,  G01N23/20008 ,  G01N2223/316 ,  G02B5/10 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0983 ,  G21K1/02 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064

Abstract: 本发明涉及一种X射线成像装置(2)，其包括：源(4)，其用于生成X射线辐射；对象接收空间(6)，其用于布置感兴趣对象以进行X射线成像；X射线准直器布置(8)，其被布置在源(4)与准直器布置(8)之间；以及X射线反射镜布置(10)。反射镜布置(10)例如包括两个渐缩反射镜(22)，所述两个渐缩反射镜(22)彼此相对并且适合于将源(4)的X射线辐射引导到准直器布置(8)。因此，增加了对象接收空间(6)处的X射线强度。为了将X射线辐射限制到X射线辐射能够用于形成成像的区域，反射镜(22)之间张开角Θm以及每个反射镜(22)的长度LM适于使得由源(4)提供的X射线辐射在反射镜(22)处的全反射次数被限制。该限制提供了全反射的X射线辐射的反射角Θr被限制的效果。因此，增加了对象接收空间(6)处的X射线强度，同时提供了防止在对象接收空间(6)处的X射线辐射的宽度的大的增加的约束，这有效地改善了可布置在对象接收空间(6)处的感兴趣对象的成像质量。

公开(公告)号：CN106974667A

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：CN201710024213.1

申请日：2017-01-13

Applicant: 西门子保健有限责任公司

Inventor： B.鲍曼 ,  A.克雷默 ,  T.韦伯 ,  J.赛德勒

IPC: A61B6/00 ,  G01N23/04 ,  G01N23/20

CPC classification number: G21K1/067 ,  A61B6/4035 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  G01N23/041 ,  G01N23/20075 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  G21K2207/005 ,  G01N23/04 ,  G01N2223/064 ,  G01N2223/1016 ,  G01N2223/6123

Abstract: 本发明涉及具有弯曲的干涉光栅的设备和X射线相衬成像装置和方法。本发明说明了一种用于干涉型X射线成像的设备（1），所述设备（1）具有干涉光栅（2）和框式的紧固装置（3），其中所述干涉光栅（2）以能板簧式地弯曲的方式来构造并且被布置在所述紧固装置（3）的对置的支撑装置（4）的凹槽（5）中，使得所述干涉光栅（2）在一维上凹面地弯曲或者在一维上凸面地弯曲。由此可以简单地并且可逆地使所述干涉光栅（2）弯曲。本发明也说明了一种X射线相衬成像装置和一种用于使得针对干涉型X射线成像的干涉光栅弯曲的方法。

公开(公告)号：CN102472976B

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201080030955.1

申请日：2010-06-01

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： H-J.保罗 ,  G.布朗 ,  S.米古拉 ,  A.多多克 ,  C.扎克泽克

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70941 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜(1a；1b；1c)，所述反射镜包括基底(S)和层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P”’)，每个层子系统由单独层的至少两个周期(P2、P3)的周期序列构成，其中所述周期(P2、P3)包括作为高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)的两个单独层，高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)由不同材料构成，并且在每个层子系统(P”、P”’)内具有恒定厚度(d2、d3)，所述恒定厚度(d2、d3)与相邻层子系统的周期的厚度偏离。所述反射镜的特征在于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)具有周期(P2)的序列，使得最远离基底(S)的层子系统(P”’)的第一个高折射率层(H”’)直接接续第二远离所述基底的层子系统(P”)的最后一个高折射率层(H”)，并且/或者，最远离所述基底(S)的层子系统(P”’)的周期(P3)的数目(N3)大于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)的周期(P2)的数目(N2)。本发明还涉及包括这种反射镜(1a；1b；1c)的用于微光刻的投射物镜，并且还涉及包括这种投射物镜的投射曝光设备。

公开(公告)号：CN103765201A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201280040742.6

申请日：2012-10-25

Applicant: X射线光学系统公司

Inventor： 陈泽武 ,  R·D·德莱尼 ,  J·H·伯德特 ,  辛凯

IPC: G01N23/223 ,  G02B27/00

CPC classification number: G21K1/06 ,  G01N23/2076 ,  G01N23/223 ,  G01N2223/076 ,  G01N2223/308 ,  G01N2223/315 ,  G21K2201/064

Abstract: 一种支撑结构，该结构具有多个高度对准的弯曲x射线光学器件，该支撑结构具有多个内部的部分同心或者完全同心的表面，所述光学器件安装在这些表面上，因此沿着它的中心光学轴线使所述光学器件对准并且因此对准源、样品和/或探测器，支撑结构可以与该源、样品和/或探测器相组合使用。这些表面绕中心光学轴线被套装；及该支撑结构借助一些壁绕中心光学轴线沿纵向被分隔成多个部分。在聚焦单色型光学器件的一个实施例中，至少一个X射线光学器件包括弯曲的衍射光学器件，以接纳散射X射线射束并且使该X射线射束聚焦到聚焦区域。在改进的实施例中，光学器件包括单层、塑性变形的LiF光学器件。

公开(公告)号：CN102187441B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN200980142397.5

申请日：2009-10-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y-H·杨 ,  T·A·恩古耶 ,  S·巴录佳 ,  A·卡祖巴 ,  J·C·罗查 ,  T·诺瓦克 ,  D·W·何

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/205

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。

公开(公告)号：CN102065771B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN200980123758.1

申请日：2009-06-17

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： R·普罗克绍

IPC: A61B6/03 ,  A61B6/00 ,  G21K1/06

CPC classification number: A61B6/4035 ,  A61B6/032 ,  A61B6/4014 ,  A61B6/4042 ,  A61B6/4241 ,  A61B6/481 ,  A61B6/482 ,  A61B6/504 ,  A61B6/507 ,  A61B6/583 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: 本发明涉及一种医学X射线检查装置和方法，用于执行含有显示k边吸收的材料的所关注目标的k边成像。为了允许使用不受提供很高的k速度能力限制的常规检测器技术，提出了一种方法，包括如下步骤：发射彩色X射线辐射(4；4a，4b)，用布拉格滤光器布拉格过滤所述彩色X射线辐射，以便透过所述布拉格过滤器(14；14a，14b)的辐射(16)经过所述目标(5)，在经过所述目标(5)之后检测X射线辐射，采集所述布拉格滤光器(14；14a，14b)在至少两个不同布拉格反射角下的投影数据，然后用采集的投影数据重构k边图像。