公开(公告)号：WO2020073506A1

公开(公告)日：2020-04-16

申请号：PCT/CN2018/123951

申请日：2018-12-26

Applicant: 中国电子科技集团公司第三十八研究所

Inventor： 刘华荣 ,  王俊听 ,  王学慧 ,  戚玉轩 ,  胡贤斌 ,  靳学明 ,  黄钊 ,  陈迪志 ,  李艺晶 ,  邓友银

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/07

Abstract: 一种电子源(101)，该电子源(101)包括：一个或多个针尖，其中，至少一个针尖包括一个或多个固定的发射点(Ma1)，所述发射点(Ma1)包括针尖表面的金属原子与气体分子形成的反应产物，还提供了一种电子枪。

公开(公告)号：ES2694476T3

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：ES07250767

申请日：2007-02-23

Applicant: FERROTEC USA CORP

Inventor： KRONEBERGER CRIS KEITH ,  CHANG PING

IPC: H01J3/02 ,  H01J37/065 ,  H01J37/07

Abstract: Una pistola (100) de haz de electrones para la producción de electrones, comprendiendo la pistola un cátodo eléctrico que comprende al menos dos bloques del cátodo, caracterizado porque un primer bloque (103) del cátodo de los dos bloques del cátodo incluye un concentrador (104) del haz formado integralmente con el primer bloque (103) del cátodo formando de este modo un bloque del cátodo único, unitario y geométricamente mayor, en donde el concentrador (104) del haz se extiende desde el primer bloque (103) del cátodo hacia un segundo bloque (102) del cátodo de los dos bloques del cátodo que forman un espacio entre el concentrador (104) del haz y el segundo bloque (102) del cátodo de los dos bloques del cátodo, en donde el espacio está posicionado más allá de un extremo de un filamento (109) montado en el segundo bloque (102) del cátodo de los dos bloques del cátodo, por lo que bloque del cátodo unitario y geométricamente mayor de la combinación del primer bloque (103) del cátodo y el concentrador (104) del haz está adaptado para permitir que el calor sea alejado del concentrador del haz y hacia el primer bloque del cátodo.

公开(公告)号：MX356961B

公开(公告)日：2018-06-21

申请号：MX2016010070

申请日：2015-01-21

Applicant: TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE

Inventor： JONAS DICKNER ,  HÅKAN MELLBIN ,  ROGER LINDGREN ,  MATS ÅKESSON

IPC: A61L2/08 ,  B65B55/08 ,  G21K5/00 ,  H01J37/07 ,  H01J37/24

Abstract: El aparato de esterilización para esterilizar recipientes de empaque (2), el aparato de esterilización comprende un primer carrusel (20) para soportar una pluralidad de dispositivos de esterilización (50), los dispositivos de esterilización (50) están adaptados para esterilizar un interior de los recipientes de empaque (2) mediante irradiación de haz de electrones, y un sistema de transporte para transportar los recipientes de empaque (2) el sistema de transporte comprende un segundo carrusel (40) coaxial con el primer carrusel (20), en donde el primer carrusel (20) comprende un primer eje giratorio (28) y el segundo carrusel (40) comprende un segundo eje giratorio separado (44) coaxial con el primer eje giratorio (20).

公开(公告)号：DE112011102526T5

公开(公告)日：2013-07-11

申请号：DE112011102526

申请日：2011-06-15

Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

Inventor： WATANABE SHUNICHI ,  ONISHI TAKASHI ,  MURAKOSHI HISAYA ,  KANEDA MINORU

IPC: H01J37/065 ,  H01J37/07

Abstract: Bei einer Beschleunigungsröhre, bei der ein leitfähiger Isolator verwendet wird, besteht die Möglichkeit einer ungleichmäßigen Dotierstoffkonzentration an einer Oberfläche des leitfähigen Isolators, wodurch der Oberflächenwiderstand des leitfähigen Isolators ungleichmäßig wird. Auch in diesem Fall ist es erforderlich, die Potentialverteilung an einer inneren Oberfläche in vertikaler Richtung unabhängig von der Umfangsrichtung gleichmäßig zu halten. An der inneren Oberfläche der von dem leitfähigen Isolator gebildeten Beschleunigungsröhre wird in mehreren Abschnitten eine in Umfangsrichtung verlaufende Rille ausgebildet und es wird Metall entlang der inneren Bereiche der Rillen aufmetallisiert. Das Potential des metallisierten Bereichs an der inneren Oberfläche der Beschleunigungsröhre nimmt selbst dann einen festen Wert an, wenn sich der Widerstand eines bestimmten Bereichs an der Oberfläche der Beschleunigungsröhre vom Widerstand eines den bestimmten Bereich umgebenden Gebiets unterscheidet, und infolgedessen kann die Potentialverteilung an der inneren Oberfläche der Beschleunigungsröhre in vertikaler Richtung unabhängig von der Umfangsrichtung im Wesentlichen gleichförmig gehalten werden. Im Ergebnis wirkt keine lateral gerichtete Kraft auf einen entlang der Zentralachse verlaufenden Elektronenstrahl ein, und ein Potentialgradient kann auf einem in etwa feststehenden Niveau gehalten werden, so dass eine kleine Aberration erzielt werden kann.

公开(公告)号：GB2443016A

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：GB0620527

申请日：2006-10-16

Applicant: VISTEC LITHOGRAPHY LTD

Inventor： HARRIS PAUL GEORGE ,  TINGAY JOHN MELBOURNE

IPC: H01J37/07 ,  H01J37/304 ,  H01J37/317

Abstract: An electron beam lithography machine 10 comprises an electron beam column 11 for generating and issuing an electron beam for action on a workpiece 13, particularly a workpiece held by a movable stage 15. The machine further comprises an optical measuring system 17 for measuring the instantaneous column position in the zone of issue of the beam, thus at the base of the column 11, to determine an instantaneous beam datum and influencing means 22 for influencing the machine operation in dependence on the determined datum. Such influencing can include correction of beam deflection when scanning the workpiece for pattern writing or correction or control of the stage movement, particularly when the stage movement is determined on the basis of position measurement by a further optical measuring system 23). The two systems can use the same X/Y co-ordinate system and share optical components.

公开(公告)号：DE69724175T2

公开(公告)日：2004-02-26

申请号：DE69724175

申请日：1997-03-18

Applicant: FUJITSU LTD ,  ADVANTEST CORP

Inventor： OOAE YOSHIHISA ,  YAMADA AKIO ,  YASUDA HIROSHI ,  TANAKA HITOSHI

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/30 ,  H01J37/305 ,  H01J37/317 ,  H01L21/027 ,  H01J37/302 ,  H01J37/07

Abstract: A charged particle beam exposure method, wherein a charged particle beam is shaped based on pattern data and the shaped charged particle beam is irradiated to a desired location on a sample, the method comprises the steps of: introducing ozone gas into a chamber through which the charged particle beam is passed, shaped and deflected so as to be irradiated to the desired location; and maintaining the ozone gas concentration in the chamber so that the concentration downstream along the beam is higher than the concentration upstream along the beam. A charge-up drift due to a contamination material from a resist on a wafer can be avoided by the ozone self cleaning. The ozone oxidation does not occure at the upstream chamber where lower ozone consentration but lower contamination.

公开(公告)号：DE4391006C2

公开(公告)日：2002-10-17

申请号：DE4391006

申请日：1993-02-26

Applicant: HANKS CHARLES W

Inventor： HANKS CHARLES W

IPC: H01J37/077 ,  H01J37/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/24 ,  H01J37/248 ,  H01J37/305 ,  H01J37/07

公开(公告)号：DD276759B5

公开(公告)日：1996-05-15

申请号：DD32154588

申请日：1988-11-03

Applicant: JENOPTIK JENA GMBH

Inventor： KUSCHEL GEORG ,  HAHMANN PETER

IPC: C23C14/54 ,  H01J37/07 ,  H01J37/18 ,  H01L21/324

公开(公告)号：CA2070457A1

公开(公告)日：1993-02-28

申请号：CA2070457

申请日：1992-06-04

Applicant: BOC GROUP INC

Inventor： HILL RUSSELL J ,  SMITH P A JOEL

IPC: H01J37/07 ,  H01J37/305 ,  H05B7/02

Abstract: An electron beam gun for an electron beam evaporation source in which a beam former (68) shields a filament (18) from an anode (56) such that electrons emitted from the filament are accelerated past the anode in a ribbon-like beam. The filament is connected to a split cathode block (12) having two sides (14,16) for applying an electric current through the filament. The beam former has two sections (74,76) with a vertical gap (78) therebetween and the sections are separately connected to the two sides of the cathode block such that the cathode block acts as a heat sink for the beam former, and a thermal gradient is not produced within the beam former that would produce warpage and movement of the beam former.

公开(公告)号：GB2050044B

公开(公告)日：1983-01-06

申请号：GB7916658

申请日：1979-05-14

Applicant: ELECTRICITY COUNCIL

IPC: H01J37/07 ,  H01J37/077 ,  H01J37/248 ,  H01J37/06 ,  H01J37/067