用於植入單電荷離子或多電荷離子至被處理物件的表面中之方法及用於實施此方法之裝置
    51.
    发明专利
    用於植入單電荷離子或多電荷離子至被處理物件的表面中之方法及用於實施此方法之裝置 审中-公开
    用于植入单电荷离子或多电荷离子至被处理对象的表面中之方法及用于实施此方法之设备

    公开(公告)号:TW201903807A

    公开(公告)日:2019-01-16

    申请号:TW107112547

    申请日:2018-04-12

    Abstract: 本發明關於一種用於植入單電荷離子或多電荷離子至被處理物件(30)的表面之方法,所述方法包括基於將藉由電子迴旋共振(electronic cyclotron resonance; ECR)類型的離子源(1)產生的離子束(12)導向該被處理物件(30)的該表面的步驟,該方法還包括基於以下之步驟:   產生至少一個主電子束(28)並引導所述主電子束(28)以使其穿過該離子束(12),以及   一旦所述主電子束已經穿過所述離子束(12),則藉由將所述主電子束(28)反射到靶(32)上來產生次電子束(34),該靶(32)被定向使得該次電子束(34)落到該被處理物件(30)的該表面上。   本發明還關於一種用於實施該植入方法的裝置(14)。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明关于一种用于植入单电荷离子或多电荷离子至被处理对象(30)的表面之方法,所述方法包括基于将借由电子回旋共振(electronic cyclotron resonance; ECR)类型的离子源(1)产生的离子束(12)导向该被处理对象(30)的该表面的步骤,该方法还包括基于以下之步骤:   产生至少一个主电子束(28)并引导所述主电子束(28)以使其穿过该离子束(12),以及   一旦所述主电子束已经穿过所述离子束(12),则借由将所述主电子束(28)反射到靶(32)上来产生次电子束(34),该靶(32)被定向使得该次电子束(34)落到该被处理对象(30)的该表面上。   本发明还关于一种用于实施该植入方法的设备(14)。

    干擾顏料
    52.
    发明专利
    干擾顏料 审中-公开
    干扰颜料

    公开(公告)号:TW201842079A

    公开(公告)日:2018-12-01

    申请号:TW107106326

    申请日:2018-02-26

    Abstract: 本發明關於一種多層干擾顏料(1),其依序包含:   - 薄片形式之金屬核(2),該金屬核(2)包含選自金、銀、鈀、銠、釕、鉑、鋨、銥、及彼等的合金之材料;   - 包含透明介電材料之第一層(3);   - 第二不連續金屬層(4)。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明关于一种多层干扰颜料(1),其依序包含:   - 薄片形式之金属核(2),该金属核(2)包含选自金、银、钯、铑、钌、铂、锇、铱、及彼等的合金之材料;   - 包含透明介电材料之第一层(3);   - 第二不连续金属层(4)。

Patent Agency Ranking