公开(公告)号：KR1020150120821A

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：KR1020140047059

申请日：2014-04-19

Applicant: (주)세온

Inventor： 류도형 ,  주한용 ,  진은주 ,  김보민

IPC: G01N21/17 ,  G01N25/00 ,  G01N21/33 ,  G01N21/35 ,  G01N21/84 ,  G01N21/88 ,  G01N21/95 ,  G01N11/00 ,  G01N13/00 ,  G01B11/16

CPC classification number: G01N21/17 ,  G01N21/33 ,  G01N21/35

Abstract: 본발명은피분석물의고온거동또는특성분석을위한고온광학분석장치및 이를이용한광학분석방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른고온광학분석장치는, 적어도어느하나는투명하고서로평행하게이격배치되어에어갭을정의하며, 상기에어갭 내에피분석물이배치되는평판형제 1 및제 2 기판들을포함하는고온챔버; 및상기피분석물을분석하기위한광학분석장치를포함하며, 상기제 1 및제 2 기판들중 적어도어느하나는온도제어가능한발열기판이다.

Abstract translation: 本发明涉及能够分析被检体的特征和高温运动的高温光分析装置及使用该高分辨率光学分析装置的光学分析方法。 根据本发明的实施例的高温光学分析装置包括：高温室，其包括通过以平行方式分开布置限定空气间隙的第一和第二平坦基板，其中，第一基板和 第二基板是透明的并且被检体布置在气隙中; 以及用于分析对象的光学分析装置。 第一基板或第二基板是温度可控的加热基板。

公开(公告)号：KR1020150033781A

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：KR1020130112686

申请日：2013-09-23

Applicant: 한국세라믹기술원 ,  (주)세온

Inventor： 허승헌 ,  송철규 ,  김다혜 ,  류도형 ,  박성환 ,  김보민 ,  김병종

IPC: H01B5/14 ,  H01B13/00

Abstract: 본발명은「폴리이미드유연기판에 FTO 투명전도막이코팅된 FTO/폴리이미드필름상에형성된금속배선구조로서, 상기 FTO/폴리이미드필름상에형성된라인형태의음각부; 상기음각부상에임의의간격과패턴으로형성되되상기폴리이미드유연기판의일정깊이까지파인다수개의홈; 및상기음각부및 상기다수개의홈에충전된금속;을포함하여구성되어, 상기금속이배선을이루되상기다수개의홈에충전된부분이핀형구조를이루고있는것을특징으로하는 FTO/폴리이미드필름상 금속배선구조」및 「(a) 폴리이미드유연기판에 FTO 투명전도막이코팅된 FTO/폴리이미드필름을준비하는단계; (b) 레이저스크라이빙(laser scribing)을통해상기 FTO 투명전도막을필요한부분만큼깎아내어라인형태의음각부를형성시키는단계; (c) 상기음각부상에임의의간격과패턴으로레이저를조사(照射)하여상기폴리이미드유연기판의일정깊이까지파인다수개의홈을형성시키는단계; 및 (d) 상기음각부및 상기다수개의홈에금속을충전시키는단계;를포함하는 FTO/폴리이미드필름상 금속배선방법」을제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及在聚酰亚胺柔性基板上涂覆有FTO透明导电膜的FTO /聚酰亚胺膜上形成的金属布线结构。 FTO /聚酰亚胺膜上的金属图案形成结构包括：形成在FTO /聚酰亚胺膜上的线状的凹部; 多个凹槽以一定的图案形成并以一定的间隔形成在凹部上，并在聚酰亚胺柔性基板上凹陷一定的深度; 和填充在凹部和凹槽中的金属。 因此，金属形成布线并且填充在凹槽中的部分是销状结构。 另外，在FTO /聚酰亚胺膜上提供金属配线方法，其特征在于，包括以下步骤：（a）在聚酰亚胺柔性基板上制备涂布有FTO透明膜的FTO /聚酰亚胺膜; （b）通过激光划线将FTO透明膜与所需部分相切形成线状凹部; （c）通过以一定的图案和一定的间隔将激光照射到凹部来形成在聚酰亚胺柔性基板上凹陷一定深度的多个凹槽; 和（d）在所述凹部和所述槽中填充金属。

公开(公告)号：KR1020140140687A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：KR1020130061289

申请日：2013-05-29

Applicant: (주)세온

Inventor： 류도형 ,  박성환 ,  김보민 ,  김병종

IPC: C25F3/02

CPC classification number: C25F3/06 ,  H05K3/07

Abstract: 고헤이즈를 위한 불소가 도핑된 산화 주석 박막 식각 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 불소가 도핑된 산화 주석 박막 식각 방법은 불소가 도핑된 산화 주석 박막의 일부 영역에 형성된 제1 전극과 식각 용액이 들어있는 식각 용기의 일부 영역에 형성된 제2 전극에 미리 결정된 전압을 인가하는 단계; 상기 불소가 도핑된 산화 주석 박막을 딥 코터를 이용하여 미리 결정된 속도로 상기 식각 용액에 딥 코팅하는 단계; 및 상기 딥 코팅을 통해 상기 불소가 도핑된 산화 주석 박막을 식각하는 단계를 포함하고, 상기 미리 결정된 전압은 상기 불소가 도핑된 산화 주석 박막의 식각 전 면저항과 식각 후 면저항의 변화가 0~20[%]에 해당하는 전압인 것을 특징으로 한다.

Abstract translation: 公开了一种用于高雾度氟掺杂氧化锡膜的蚀刻方法。 根据本发明，该方法包括以下步骤：对形成在氟掺杂氧化锡膜的区域上的第一电极授权预定电压，以及形成在蚀刻容器的包含蚀刻溶液的区域上的第二电极 ; 使用深层涂布机以预定的速度将氟掺杂的氧化锡膜深深地涂覆到蚀刻溶液中; 并通过深度涂层蚀刻氟掺杂的氧化锡膜。 与蚀刻后的氟掺杂氧化锡膜相比，蚀刻前的氟掺杂氧化锡膜的电阻值的设定电压设定为0〜20 [％]。

公开(公告)号：KR1020140140683A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：KR1020130061243

申请日：2013-05-29

Applicant: (주)세온

Inventor： 류도형 ,  박성환 ,  김보민 ,  김병종 ,  송철규

IPC: H01B13/00

CPC classification number: H01L31/1884 ,  H01L31/022466 ,  Y02E10/50

Abstract: 불소가 도핑된 고투과율의 산화 주석 박막 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 불소가 도핑된 고투과율의 산화 주석 박막 제조 방법은 SnCl
4 ㆍ5H
2 O, SnCl
2 및 SnCl
2 ·2H
2 O 중 어느 하나와 NH
4 F, HF 및 acetyl fluoride 중 어느 하나를 용매에 혼합하여 F/Sn의 몰비가 0.4~1.4인 프리커서(precursor) 용액을 제조하는 단계; 및 기판 상에 상기 제조된 상기 프리커서 용액을 분사하여 상기 기판 상에 불소가 도핑된 산화 주석 박막(FTO)을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 프리커서 용액을 제조하는 단계는 물에 5~20%의 에탄올을 포함하는 용매를 이용하여 상기 프리커서 용액을 제조함으로써, 가시 광선 영역 뿐만 아니라 자외선 영역과 적외선 영역에서의 투과율을 높이고, 헤이즈(haze)를 향상시킬 수 있다.

Abstract translation: 公开了一种制造具有高透射率的氟掺杂氧化锡膜的方法。 根据本发明实施方案的制造具有高透射率的氟掺杂氧化锡膜的方法包括以下步骤：通过混合一种方法制备摩尔比F / Sn在0.4-1.4范围内的前体溶液 SnCl_4·5H_2O，SnCl_2和SnCl_2·2H_2O，NH4F，HF和乙酰氟中的一种与溶剂; 以及通过将前体溶液喷涂在基材上而在基材上形成氟掺杂的氧化锡膜（FTO），其中通过在前体的制备步骤中使用含有5-20％的乙醇水溶液来制备前体溶液 溶液，因此可以增加紫外线区域和红外区域的透射率以及可见光区域，并且可以提高雾度。

公开(公告)号：KR101385235B1

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：KR1020120086692

申请日：2012-08-08

Applicant: 한국세라믹기술원 ,  (주)세온

Inventor： 허승헌 ,  김다혜 ,  유도형 ,  송철규 ,  박성환 ,  김보민

IPC: B23K26/36 ,  H01B13/00 ,  H01L31/18 ,  H01L31/042

CPC classification number: Y02E10/542 ,  Y02P70/521

Abstract: 본 발명은 레이저 빔을 이용하여 기판 위에 코팅된 투명전도막을 선폭 30㎛ 이하의 도선이 형성되도록 패터닝하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 「(a) 투명전도막이 코팅된 기판을 준비하는 단계; (b) 광폭(廣幅) 레이저 빔으로 남겨져야 하는 투명전도선 부분 주위에 여유면을 두고 상기 투명전도막을 깎아내는 단계; (c) 협폭(狹幅) 레이저 빔으로 상기 여유면을 깎아내는 단계; 를 포함하는 레이저 스크라이빙 기술을 이용한 투명전도막 미세 패터닝 방법」을 제공한다.

公开(公告)号：KR101279610B1

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：KR1020110040093

申请日：2011-04-28

Applicant: (주)세온

Inventor： 송철규 ,  박성환 ,  김보민

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/40

Abstract: 투명 하드기판 및 플렉시블 기판 코팅 방법에 있어서, 두 개의 롤이 수평으로 배치되고, 한 롤에서 필름이 공급되고 다른 롤에서 필름이 감기는 장치를 구비하고, 상기 롤과 롤이 이루는 평면과 동일한 평면의 90도 방향에 원료급기 및 배기노즐을 설치하고, 기판의 진행방향에 대하여 평면의 90도 방향에서 원료가 공급되고, 급기 노즐과 배기 노즐의 중심위치를 연결한 선이 기판이 위치한 면의 위치와 일치되고, 이에따라 상하면에 균일하게 원료가스가 공급되어 양면이 동일한 두께의 막을 코팅하는 단계로 구성되는 단계를 가짐에 따라, 투명 하드 기판 및 플렉시블 기판의 양면에 동시에 세라믹 코팅을 수행하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020130063891A

公开(公告)日：2013-06-17

申请号：KR1020110130509

申请日：2011-12-07

Applicant: (주)세온

Inventor： 류도형 ,  송철규 ,  박성환 ,  김보민

IPC: H01B13/00 ,  H01B5/14 ,  H01B1/08 ,  H01B1/04

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a low resistance-high transmittance flexible FTO(Fluorine-doped Tin Oxide) transparent conductive film having a carbon nanotube is provided to coat a previously formed carbon nanotube composite material as a functional layer, thereby improving an adhesive force between a plastic substrate and a metal oxide thin film. CONSTITUTION: A method for manufacturing a low resistance-high transmittance flexible FTO(Fluorine-doped Tin Oxide) transparent conductive film having a carbon nanotube includes the following steps: a step of coating a carbon nanotube composite material layer as a functional layer on a heat resistant polymer film substrate; a step of coating a metal oxide film on a polymer film having the carbon nanotube; and a step of forming the FTO transparent conductive film on the composite material layer. The carbon nanotube composite material layer is coated by one of a spray coating method, a spin coating method, the casting method of a doctor blade, a gravure coating method, and a roll-to-roll coating method. A ratio between the weight of the carbon nanotube and the total weight of an alkali developable polymer and a photopolymer compound is 1:10 to 1:1000 based on a solid content.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造具有碳纳米管的低电阻 - 高透光性柔性FTO（氟掺杂氧化锡）透明导电膜的方法，以涂覆预先形成的碳纳米管复合材料作为功能层，由此提高了 塑料基板和金属氧化物薄膜。 构成：制造具有碳纳米管的低电阻 - 高透射率柔性FTO（氟掺杂氧化锡）透明导电膜的方法包括以下步骤：将碳纳米管复合材料层作为功能层涂覆在热层上的步骤 耐高温膜基材; 在具有碳纳米管的聚合物膜上涂覆金属氧化物膜的步骤; 以及在复合材料层上形成FTO透明导电膜的步骤。 碳纳米管复合材料层通过喷涂法，旋涂法，刮刀的浇铸法，凹版涂布法和辊对辊涂布法中的一种进行涂布。 基于固体成分，碳纳米管的重量与碱显影性聚合物和光聚合物的总重量之比为1:10〜1:1000。

公开(公告)号：KR1020130008190A

公开(公告)日：2013-01-22

申请号：KR1020110068782

申请日：2011-07-12

Applicant: (주)세온

Inventor： 송철규 ,  박성환 ,  김보민

IPC: H01B13/00 ,  H01L31/04 ,  H01L51/50 ,  H01B5/14

CPC classification number: Y02E10/50 ,  H01L31/042 ,  H01B1/08

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a FTO(Fluorine Doped Tin Oxide) transparent conductive film with bending machinability is provided to improve electric characteristics, light transmittance, surface morphology, and film crystallinity. CONSTITUTION: A FTO transparent conductive film is doped with fluorine. The FTO transparent conductive film is deposited on a transparent substrate. The FTO transparent conductive film is deposited by atmospheric CVD(Chemical Vapor Deposition) and spray pyrosol methods. A tin oxide thin film is thermally processed under an AIR mood. A tin oxide thin film is surface-machined or bend-formed. [Reference numerals] (AA) Temperature; (BB) Time; (CC) Temperature rising; (DD) Retention; (EE) Slow cooling

Abstract translation: 目的：提供具有弯曲加工性的FTO（氟掺杂氧化锡）透明导电膜的制造方法，以改善电特性，透光率，表面形态和膜结晶度。 构成：FTO透明导电膜掺杂氟。 FTO透明导电膜沉积在透明基板上。 通过大气CVD（化学气相沉积）和喷雾热解法沉积FTO透明导电膜。 氧化锡薄膜在AIR气氛下热处理。 氧化锡薄膜被表面加工或弯曲形成。 （标号）（AA）温度; （BB）时间; （CC）升温; （DD）保留; （EE）缓慢冷却