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公开(公告)号:CN1913191A
公开(公告)日:2007-02-14
申请号:CN200610110772.6
申请日:2006-08-11
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L45/04 , H01L27/2436 , H01L45/1233 , H01L45/146 , H01L45/1641
Abstract: 本发明提供了一种减小并稳定复位电流的存储器件的制造方法。所述存储器件包括由电阻变化材料组成的氧化层,用于稳定复位电流,所述方法包括:在下结构上形成下电极和氧化层;和将电子束或离子束照射到所述氧化层的一区域上。减小并稳定了本发明的存储器件的复位电流。
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公开(公告)号:CN1790726A
公开(公告)日:2006-06-21
申请号:CN200510120431.2
申请日:2005-11-10
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G11C13/0007 , G11C2213/72 , G11C2213/73 , H01L27/101 , H01L27/2409 , H01L27/2463 , H01L45/04 , H01L45/1233 , H01L45/146
Abstract: 本发明涉及一种包括一个电阻器和一个二极管的非挥发性存储器。其包括:底部电极;电阻器结构,布置在底部电极上;二极管结构,布置在电阻器结构上;和上部电极,布置在二极管结构上。本发明的非挥发性存储器可以用简单工艺制造,可以用低电力驱动,具有快的运作速度。
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