公开(公告)号：KR1020070019054A

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：KR1020050072904

申请日：2005-08-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/324

Abstract: 급속열처리설비의 가열장치를 제공한다. 제공된 급속열처리설비의 가열장치는 열처리공정의 수행되는 공정챔버의 상측에 마련되어 상기 공정챔버의 상측을 덮으며, 내부에 다수의 관통공이 형성된 램프하우징과, 관통공에 배치되는 램프지지부재와, 램프지지부재에 의해 지지되어 공정챔버에 안착되는 웨이퍼를 향해 열을 발산하는 램프 및 램프지지부재의 하부 일측에 결합되며, 램프에서 발산된 열을 상기 웨이퍼로 집중되도록 램프의 길이방향으로 반사시키는 반사경을 구비한다. 따라서, 제공된 급속열처리설비의 가열장치에 의하면 램프에서 발산된 열을 램프의 길이방향으로 발산하도록 반사경이 구비됨으로써 램프의 효율을 증대시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020070016020A

公开(公告)日：2007-02-07

申请号：KR1020050070753

申请日：2005-08-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/68 ,  B65G47/26

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67282 ,  Y10S414/136

Abstract: 웨이퍼 플랫존 정렬장치를 제공한다. 상기 웨이퍼 플랫존 정렬장치는 본체와, 상기 본체에 안착되며, 다수매의 웨이퍼들이 적재되는 케리어 및 상기 케리어로부터 하방으로 소정 거리 이격되며, 상기 본체에 제공되는 웨이퍼 감지부를 구비할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060127435A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：KR1020050048417

申请日：2005-06-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02

Abstract: A pressure regulating valve is provided to prevent an adhesion of a powder in a pressure regulating valve by filtering a powder adhesion and powder components. A body(110) includes a passage through which fluid passes. A rotating plate(120) is installed at the passage of the body, and opens and closes the passage of the body. A filter(130) is installed at the body, and filters powders so that the powers are not stacked. The filter is connected between the pressure regulating valve and a tube. A cold trap(140) is installed at the body, and reduces a temperature of the body so that the powers are not stacked at the passage of the body. The cold trap includes a cooling coil(142), a supply line(144), and a discharge line(146). The cooling coil is installed at the body. The supply line supplies cooling water to the cooling coil. The discharge line discharges the cooling water heated by the cooling coil.

Abstract translation: 提供压力调节阀，以通过过滤粉末粘附和粉末组分来防止粉末粘附在压力调节阀中。 主体（110）包括流体通过的通道。 旋转板（120）安装在主体的通道处，并打开和关闭主体的通道。 过滤器（130）安装在主体处，并且过滤粉末，使得功率不被堆叠。 过滤器连接在压力调节阀和管子之间。 冷阱（140）安装在身体上，并且降低身体的温度，使得力量不会在身体通过时堆积。 冷阱包括冷却盘管（142），供油管线（144）和排出管线（146）。 冷却盘管安装在车身上。 电源线为冷却盘管提供冷却水。 排出管线排出由冷却盘管加热的冷却水。

公开(公告)号：KR1020060118893A

公开(公告)日：2006-11-24

申请号：KR1020050041323

申请日：2005-05-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/4412 ,  H01L21/67242

Abstract: A diffusion apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to reduce a test time by embedding a heat line inside a gas ventilating path without using a separate heating jacket. A diffusion apparatus for manufacturing a semiconductor device includes a diffusion path(100), a gas supply path(110), a gas ventilating path(120), a heating coil(200), and a monitoring portion(300). The gas supply path is connected to the diffusion path. The gas ventilating path is connected to the diffusion path. The heating coil is embedded inside the gas ventilating path. The monitoring portion is electrically coupled with the heating coil. The heating coil has a cylindrical shape and is embedded inside the gas ventilating path. The controller is electrically connected to an alarm unit, which generates an alarm sound when all processes are finished.

Abstract translation: 提供一种用于制造半导体器件的扩散装置，通过在气体通风路径内嵌入热线而不使用单独的加热套来减少测试时间。 用于制造半导体器件的扩散装置包括扩散路径（100），气体供应路径（110），气体通风路径（120），加热线圈（200）和监视部分（300）。 气体供给路径与扩散路径连接。 气体通风路径连接到扩散路径。 加热线圈嵌入气体通风路径内。 监视部分与加热线圈电耦合。 加热线圈具有圆筒形状并且嵌入气体通风路径内。 控制器电气连接到报警单元，当所有过程完成时，该报警单元产生报警声。

公开(公告)号：KR1020060117397A

公开(公告)日：2006-11-17

申请号：KR1020050038786

申请日：2005-05-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67098 ,  F01P5/10 ,  F28B9/06

Abstract: A cooling water controlling apparatus and a controlling method of the amount of cooling water using the same are provided to keep the flow rate of cooling water in a predetermined range without the deposition of particles in a cooling line by using a control unit capable of controlling a driving unit. A cooling water controlling apparatus includes a cooling line(40) for supplying or exhausting cooling water, a spin unit, a driving unit, and a control unit. The spin unit is used for generating an electromotive force by using the flow of the cooling water. The driving unit is used for controlling the flow rate of the cooling water. The control unit(30) is used for controlling the driving unit in response to the electromotive force of the spin unit.

Abstract translation: 提供一种冷却水控制装置和使用其的冷却水量的控制方法，以使冷却水的流量保持在预定范围内，而不会通过使用能够控制冷却水的控制单元而将颗粒沉积在冷却管线中 驾驶单位 冷却水控制装置包括用于供给或排出冷却水的冷却管线（40），旋转单元，驱动单元和控制单元。 旋转单元用于通过使用冷却水的流动来产生电动势。 驱动单元用于控制冷却水的流量。 控制单元（30）用于响应于旋转单元的电动势来控制驱动单元。

公开(公告)号：KR1020060116639A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：KR1020050039154

申请日：2005-05-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/22

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/22 ,  H01L21/324

Abstract: Furnace type semiconductor equipment is provided to restrain the damage of a spiral type thermocouple due to periodical PMs(Preventive Maintenances) by using a protection member. Furnace type semiconductor equipment includes a tube, a heater block, a plurality of thermocouples, and a protection member. The tube is used for defining a predetermined space for performing predetermined processes on a wafer. The heater block(112) is used for heating the inside of the tube. The plurality of thermocouples(114) are vertically arranged on an inner wall of the heater block to measure the temperature of each region in the predetermined space. The protection member(116) is used for protecting the plurality of thermocouples.

Abstract translation: 提供炉式半导体设备，以通过使用保护构件来限制由于周期性PM（预防性维护）导致的螺旋型热电偶的损坏。 炉型半导体设备包括管，加热器块，多个热电偶和保护构件。 管用于限定用于在晶片上执行预定处理的预定空间。 加热器块（112）用于加热管的内部。 多个热电偶（114）垂直地布置在加热器块的内壁上，以测量预定空间中的每个区域的温度。 保护构件（116）用于保护多个热电偶。

公开(公告)号：KR1020060110556A

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：KR1020050032895

申请日：2005-04-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67242

Abstract: A robot control system of semiconductor diffusion equipment is provided to prevent process accident due to an abnormal operation of a robot by displaying a driving speed and driving position of each robot with a digital numerical value and an image. A driving unit is installed on plural shafts to drive robots(210,220,230). A monitoring unit(500) is electrically to the driving unit and confirms an operation condition of the robots in real time. The driving unit includes motors(211,221,231) and encoders(212,222,232). The motors receive current from the outside to drive the robots. The encoders are connected to the motors. The monitoring unit includes a first display unit, a second display unit, a third display unit, and a fourth display unit. The first display unit displays a driving speed of the robots. The second display unit displays a driving position of the robots. The third display unit displays a current setting value of the motors. The fourth display unit displays a current measuring value of the motors.

Abstract translation: 提供一种半导体扩散装置的机器人控制系统，通过以数字数值和图像显示各机器人的行驶速度和驾驶位置，防止机器人异常运转造成的过程事故。 驱动单元安装在多个轴上以驱动机器人（210,220,230）。 监视单元（500）与驱动单元电连接并实时确认机器人的操作状态。 驱动单元包括马达（211,221,231）和编码器（212,222,232）。 电机从外部接收电流来驱动机器人。 编码器连接到电机。 监视单元包括第一显示单元，第二显示单元，第三显示单元和第四显示单元。 第一显示单元显示机器人的行驶速度。 第二显示单元显示机器人的驾驶位置。 第三显示单元显示电动机的当前设定值。 第四显示单元显示电动机的当前测量值。

公开(公告)号：KR1020060105205A

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：KR1020050027668

申请日：2005-04-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/30 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67757

Abstract: 반도체 제조설비를 제공한다. 제공된 반도체 제조설비는 공정이 진행되며 하부가 개구된 반응튜브와, 반응튜브의 개구부를 밀폐시키는 캡 베이스와, 캡 베이스의 상부에 마련되며 반응튜브 내부의 불균일한 온도분포를 보정하는 보온통과, 보온통의 상부에 고정되며 다수의 웨이퍼가 적재되는 웨이퍼 보트 및, 웨이퍼 보트가 보온통의 상부에서 흔들리는 것을 방지하는 보트흔들림 방지수단을 포함한다. 따라서, 제공된 반도체 제조설비에 의하면, 승강장치 등에 의해서 웨이퍼 보트가 승강될 시 등에도 웨이퍼 보트가 보온통의 상부에서 흔들리는 것이 방지된다.

公开(公告)号：KR1020060103765A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：KR1020050025663

申请日：2005-03-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67242 ,  H01L21/205 ,  H01L21/67098

Abstract: 본 발명은 히팅 재킷에 공급되는 전원 전압의 이상 유무 감지장치에 관한 것으로서, 히팅 재킷에 공급되는 전원 전압을 측정하는 전압 측정부; 상기 전압 측정부에서 측정한 전원 전압을 미리 입력된 표준설정전압과 비교하는 전압 비교부; 및 상기 전압 측정부의 측정 결과 및 상기 전압 비교부의 비교 결과를 토대로 히팅 재킷에 공급되는 전원 전압의 이상 유무를 표시하는 이상 유무 표시부를 포함하는 것을 특징으로 하는 히팅 재킷에 공급되는 전원 전압의 이상 유무 감지장치를 제공한다.
본 발명에 의하면, 히팅 재킷에 공급되는 전원 전압이 미리 입력된 표준설정전압에 미치지 못하거나, 아예 차단되는 경우 이를 작업자가 즉시 알 수 있도록 하여, 이에 따른 신속한 후속 조치를 통해 반도체 제조공정 수행 후 배출되는 잔류가스가 고체화됨으로써 배기라인의 배기관에 침적되어 관로가 막히게 되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.
히팅 재킷, 전원 전압, LED

公开(公告)号：KR1020060103653A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：KR1020050025473

申请日：2005-03-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/324

CPC classification number: C23C16/45502 ,  H01L21/67017

Abstract: 반도체 소자 제조 공정 시 유입된 반응 가스의 와류 발생을 방지하는 반도체 소자 제조 장치가 제공된다. 반도체 소자 제조 장치는 웨이퍼가 안착하는 트레이, 트레이가 내부에 삽입되는 튜브, 튜브의 일측면에 형성된 반응 가스 유입부, 튜브의 반응 가스 유입부 측으로 튜브의 상하 대향면 상에 각각 부착되어 소정의 간격을 두고 엇갈려 위치하는 가스 분산 플레이트를 포함한다.
반도체, 확산, 와류, 튜브