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公开(公告)号：WO2022181972A1
公开(公告)日：2022-09-01
申请号：PCT/KR2022/000210
申请日：2022-01-06
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 사용자 단말 장치가 개시된다. 본 사용자 단말 장치는 외부 장치와 통신하기 위한 통신 인터페이스 및 의류 정보가 입력되면 의류 정보를 서버로 전송하도록 통신 인터페이스를 제어하고, 통신 인터페이스를 통해 서버로부터 의류 정보에 기초하여 생성된 추천 코스 정보를 수신하고, 추천 코스 정보에 대한 편집 명령이 입력되면, 사용자 입력에 따라 추천 코스 정보를 편집하여 사용자 맞춤형 코스 정보를 생성하고, 사용자 맞춤형 코스 정보를 서버로 전송하도록 통신 인터페이스를 제어하는 프로세서를 포함하고, 프로세서는, 편집 명령에 따른 코스 이름 정보 및 코스 설명 정보를 포함하도록 사용자 맞춤형 코스 정보를 생성한다.
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公开(公告)号：WO2022039367A1
公开(公告)日：2022-02-24
申请号：PCT/KR2021/007847
申请日：2021-06-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 사용자에게 자신이 보유한 의류와 관련된 정보를 제공함으로써 의류 관리를 용이하게 하는 의류 관리 기기는, 제1 사용자 및 제2 사용자를 포함하는 복수의 사용자가 보유한 의류들의 상태 정보를 저장하는 저장부; 서버로부터 상기 복수의 사용자가 보유한 의류들의 세탁 정보, 건조 정보 또는 위치 정보 중 적어도 하나를 수신하는 통신부; 카메라; 디스플레이; 및 상기 복수의 사용자가 보유한 의류들의 세탁 정보, 건조 정보 또는 위치 정보 중 적어도 하나에 기초하여 상기 복수의 사용자가 보유한 의류들의 상태 정보를 업데이트하고, 상기 카메라를 통해 촬영된 객체가 상기 제1 사용자로 판단되면 상기 제1 사용자가 보유한 의류들의 상태 정보를 제공하기 위한 제1 사용자 인터페이스를 제공하도록 상기 디스플레이를 제어하고, 상기 카메라를 통해 촬영된 객체가 상기 제2 사용자로 판단되면 상기 제2 사용자가 보유한 의류들의 상태 정보를 제공하기 위한 제2 사용자 인터페이스를 제공하도록 상기 디스플레이를 제어하는 제어부;를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2022025605A1
公开(公告)日：2022-02-03
申请号：PCT/KR2021/009756
申请日：2021-07-28
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: IoT(Internet of Things) 시스템에 포함되는 의류 처리 장치가 제공된다. 본 의류 처리 장치는, 통신 인터페이스, 적어도 하나의 의류 처리 동작을 포함하는 프로세스(process)를 수행하는 프로세서 및 통신 인터페이스를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2021118189A1
公开(公告)日：2021-06-17
申请号：PCT/KR2020/017768
申请日：2020-12-07
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 개시된 일 측면에 따른 세탁기는 세탁 코스 및 세탁 코스에 대응되는 제1 세탁 옵션 세트를 표시하는 표시부와 사용자로부터 제1 세탁 옵션 세트에 포함된 복수의 세탁 옵션 중 적어도 하나의 세탁 옵션을 변경하는 사용자의 옵션 변경 명령을 입력 받는 입력부와 변경된 적어도 하나의 세탁 옵션이 포함된 세탁 옵션 세트를 저장하는 저장부와 세탁 옵션 세트의 저장이 미리 정해진 횟수 이상이면, 제1 세탁 옵션 세트가 변경된 적어도 하나의 세탁 옵션을 기초로 하는 제2 세탁 옵션 세트로 변경되도록 제어하는 제어부를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020070082786A
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：KR1020060015865
申请日：2006-02-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김정남
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67028 , H01J2237/335
Abstract: Semiconductor fabricating equipment is provided to completely remove a native oxide layer formed on a semiconductor substrate by enabling precise management of a cleaning process. A semiconductor substrate is received in a process chamber(110). Reaction gas for processing the semiconductor substrate is introduced into a gas introduction line(115) connected to the process chamber. Gas in the process chamber and reaction byproducts generated in the process chamber are exhausted through an exhaust line(116) connected to the process chamber. The inside of the process chamber is heated by a heater. A guide bar(118) penetrates the process chamber to be extended to the periphery of the semiconductor substrate received in the process chamber. A thermocouple measures the temperature of the periphery of the semiconductor substrate, inserted into the guide bar. The reaction gas introduced into the gas introduction line can be distributed in various directions of the chamber by a gas distribution plate installed in the process chamber.
Abstract translation: 提供半导体制造设备以通过能够精确地管理清洁过程来完全去除形成在半导体衬底上的自然氧化物层。 半导体衬底被接收在处理室（110）中。 将用于处理半导体衬底的反应气体引入连接到处理室的气体引入管线（115）中。 处理室中产生的气体和在处理室中产生的反应副产物通过连接到处理室的排气管线（116）排出。 处理室的内部由加热器加热。 引导杆（118）穿过处理室以延伸到接收在处理室中的半导体衬底的周边。 热电偶测量插入到导杆中的半导体衬底的周边的温度。 引入气体引入管线的反应气体可以通过安装在处理室中的气体分配板分布在室的各个方向上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070066712A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：KR1020050128161
申请日：2005-12-22
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김정남
IPC: H01L21/205 , H01L21/68
CPC classification number: C23C16/4409 , C23C16/4412 , H01L21/67201
Abstract: A loadlock chamber of an LPCVD apparatus is provided to prevent external air from being introduced into a chamber by making the inner pressure of the chamber having a pressure higher than the atmospheric pressure and maintaining the pressure before a door of the chamber opens to transport a wafer. A shutter(114) for opening/shutting a connection path to a vertical furnace(10) and a door(112) for transporting a wafer are installed in a chamber(110). A pressure gauge(118) measures the inner pressure of the chamber. A nitrogen gas supply source supplies nitrogen gas to the inside of the chamber. A vacuum pump(134) is connected to the chamber by a pumping line(130) in which a main valve(132) is installed. The nitrogen gas is exhausted by an exhaust line(140). The flowrate of the exhaust line is adjusted by a throttle valve(142). Based upon the pressure data measured by the pressure gauge, the main valve and the throttle valve are controlled by a controller(150). The exhaust gas can be purified by a scrubber(138) connected to the vacuum pump and the exhaust line.
Abstract translation: 提供LPCVD装置的装载室，以通过使室的内部压力高于大气压力来保持外部空气被引入室中，并且保持在室的门打开之前的压力以输送晶片 。 用于打开/关闭到垂直炉（10）的连接路径和用于输送晶片的门（112）的快门（114）安装在室（110）中。 压力计（118）测量腔室的内部压力。 氮气供应源将氮气供应到室的内部。 真空泵（134）通过其中安装有主阀（132）的泵送管线（130）连接到腔室。 氮气由排气管（140）排出。 排气管路的流量由节流阀（142）调节。 基于由压力表测量的压力数据，主阀和节流阀由控制器（150）控制。 废气可以通过连接到真空泵和排气管的洗涤器（138）来净化。
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公开(公告)号：KR1020070058248A
公开(公告)日：2007-06-08
申请号：KR1020050116639
申请日：2005-12-01
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김정남
IPC: H01L21/02
Abstract: A diffusion device for fabricating a semiconductor device and a method for connecting a vacuum pump thereof are provided to prevent leakage of vacuum from a turbo vacuum pump to a first movable connection port via a second vacuum pump. A heat part is installed on one end of a bell shaped diffusion furnace used for fabricating a semiconductor device. A first connection port is installed on a flange of the heater part to connect a vacuum pump. A movable part(62) is installed on one end of the first connection port to move a second connection port of the vacuum pump. The movable part has a safety link(70) for preventing release of the second connection port, and a fixing portion(64) connected to a handle of the movable part.
Abstract translation: 提供一种用于制造半导体器件的扩散装置及其真空泵的连接方法，以防止真空从涡轮真空泵经由第二真空泵泄漏到第一可移动连接端口。 加热部件安装在用于制造半导体器件的钟形扩散炉的一端。 第一连接端口安装在加热器部分的法兰上以连接真空泵。 可移动部分（62）安装在第一连接端口的一端以移动真空泵的第二连接端口。 可移动部件具有用于防止第二连接口的释放的安全连杆（70）和连接到可动部件的手柄的固定部（64）。
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公开(公告)号：KR1020070056408A
公开(公告)日：2007-06-04
申请号：KR1020050114988
申请日：2005-11-29
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김정남
IPC: H01L21/22
Abstract: A vertical diffusion furnace of semiconductor manufacturing equipment is provided to control the size of a boat according to the number of wafers and to perform easily boat cleaning and transferring processes by using at least two boat units. A vertical diffusion furnace of semiconductor manufacturing equipment includes boat units and reaction tube. The boat unit(31) is composed of an upper plate(41), a lower plate(43) vertically spaced apart from the upper plate, and a plurality of pillars(45) for supporting the upper and lower plates between the upper and the lower plates. The reaction tube is used for storing the boat units. The reaction tube has a predetermined height. At least two boat units are stored in the reaction tube.
Abstract translation: 提供半导体制造设备的垂直扩散炉，以根据晶片的数量来控制船的尺寸，并且通过使用至少两个船单元来执行船清洁和转移处理。 半导体制造设备的垂直扩散炉包括船单元和反应管。 船单元（31）由上板（41），与上板垂直隔开的下板（43）和多个支柱（45）组成，用于将上板和下板 下板。 反应管用于存放船单元。 反应管具有预定的高度。 至少两个船单元存储在反应管中。
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公开(公告)号：KR1020070048064A
公开(公告)日：2007-05-08
申请号：KR1020050105062
申请日：2005-11-03
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김정남
IPC: H01L21/02
Abstract: 반도체 제조장치의 모드 자동절환장치를 개시한다. 본 발명은 반도체 웨이퍼를 어닐링시켜 주는 어닐링장치를 콘트롤 하는 머신 콘트롤 유니트를 구비한다. 상기 머신 콘트롤 유니트에 상기 반도체 웨이퍼를 어닐링시켜 주는 램프를 콘트롤하는 램프 콘트롤 유니트 보드가 장착된다. 상기 램프 콘트롤 유니트 보드는 그의 내측에 장착되어, 상기 램프의 동작모드를 설정하는 모드 설정 스위치, 그의 외측에 구비되어, 상기 모드 설정 스위치에 설정된 동작모드를 절환시켜 주기 위한 모드 절환 스위치 및 상기 램프의 정상 및 불량상태를 표시해주는 표시부를 구비한다. 상기 모드 절환스위치는 버튼 스위치를 구비하며, 상기 모드 설정 스위치에 대응하는 위치에 배치된다.
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公开(公告)号：KR1020070047634A
公开(公告)日：2007-05-07
申请号：KR1020050104547
申请日：2005-11-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김정남
IPC: H01L21/02 , H01L21/324
Abstract: 열처리설비의 웨이퍼 트레이를 제공한다. 개시된 열처리설비의 웨이퍼 트레이는 열처리 공정이 수행되는 공정튜브의 내부에 배치되는 몸체와, 상기 몸체의 일측 선단에 마련된 가스 플레이트와, 상기 몸체에 고정되고 수직홈이 형성된 안착부재와, 상기 안착부재의 수직홈에 삽입되는 웨이퍼 지지핀과, 상기 웨이퍼 지지핀에 안치될 웨이퍼의 주변을 둘러싸도록 상기 몸체에 설치되는 에지 가드링, 및 상기 웨이퍼 지지핀이 상기 안착부재로부터 이탈되는 것을 방지하는 이탈 방지 모듈을 구비한다.
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