公开(公告)号：KR1020170002187A

公开(公告)日：2017-01-06

申请号：KR1020150092362

申请日：2015-06-29

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  연세대학교 산학협력단

Inventor： 배재현 ,  서종수 ,  오영호 ,  최정민 ,  한재신

IPC: H04L1/06 ,  H04L1/00 ,  H04L27/26

Abstract: 송신장치가개시된다. 송신장치는서로다른정보를포함하는복수의시그널링데이터각각을인코딩하여복수의프리앰블심볼을생성하는프리앰블심볼생성부, 생성된복수의프리앰블심볼을 differential STBC(Space-Time Block Coding) 인코딩하여기 설정된구조의데이터를생성하는 STBC 스트럭쳐부, 생성된기 설정된구조의데이터를포함하는복수의베이스밴드프레임을생성하는프레임생성부및 복수의베이스밴드프레임을전송하는송신부를포함한다. 이에따라, 기존의심볼단위를그대로활용하면서안테나개수에따른 STBC 이득을얻게된다.

公开(公告)号：KR1020150073441A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：KR1020130161138

申请日：2013-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 유영준 ,  김동완 ,  배재현 ,  신기훈 ,  조남국 ,  고병섭 ,  김기범 ,  류희섭

IPC: H04N5/63 ,  H04N5/44 ,  G06F1/32 ,  G06F3/16

CPC classification number: G10L15/22 ,  G06F1/3215 ,  G06F1/3265 ,  G06F3/167 ,  G10L15/02 ,  G10L15/32 ,  G10L2015/088 ,  G10L2015/223 ,  H04N5/60 ,  H04N5/63 ,  H04N21/42203 ,  H04N21/4436 ,  H04N2005/4428 ,  H04N2005/4432

Abstract: 본발명은전자장치및 그제어방법에관한것으로서, 전자장치는, 사용자가발화하는음성을수신하는음성수신부와; 상기수신된음성이, 상기전자장치가미리정해진동작을수행할것을명령하는예약어에해당할가능성이높은예약어후보인지여부를판단하는제1음성인식부와; 상기수신된음성이상기예약어후보인것으로판단되면, 절전상태로부터정상상태가되어, 상기수신된음성이상기예약어인지여부를판단하는제2음성인식부와; 상기수신된음성이상기예약어인경우, 상기미리정해진동작을수행하는동작수행부를포함한다. 이에의하여, 전력소모를최소화하면서낮은비용으로보다신뢰성높게사용자의음성을인식하여동작을수행할수 있다.

Abstract translation: 电子设备及其控制方法技术领域本发明涉及一种电子设备及其控制方法。 电子设备包括：接收用户的语音的语音接收单元; 第一语音识别单元，判定接收的语音是否是具有高可靠性的保留字候选，以使得电子设备执行预定的操作; 如果接收到的语音是保留字候选，则将第二语音识别单元从节电状态转换为正常状态，并且确定所接收的语音是否是保留字; 以及操作执行单元，如果接收到的语音是保留字，则执行预定操作，从而最小化功耗，以低成本和高可靠性识别用户的语音，并执行该操作。

公开(公告)号：KR101457116B1

公开(公告)日：2014-11-04

申请号：KR1020110115084

申请日：2011-11-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최찬희 ,  류희섭 ,  배재현 ,  장종혁 ,  박승권

IPC: G06F3/01 ,  G06F3/14 ,  G06F3/16

CPC classification number: G10L15/26 ,  G06F3/017 ,  G06F3/04842 ,  G06F3/167 ,  H04N21/422 ,  H04N21/42204 ,  H04N21/44218

Abstract: 전자 장치 및 그의 제어 방법이 제공된다. 본 전자 장치의 제어 방법은 사용자의 음성이 입력되면, 상기 사용자의 음성을 인식하여, 텍스트 입력창에 인식된 사용자의 음성을 텍스트로 디스플레이하고, 디스플레이된 텍스트의 입력을 취소하기 위한 사용자의 취소 모션이 입력되면, 취소 모션에 따라 텍스트 입력 취소가 수행된 텍스트를 디스플레이한다. 이에 의해, 사용자는 더욱 쉽고 편하게 음성 인식을 통해 입력한 텍스트를 취소할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR1020140060040A

公开(公告)日：2014-05-19

申请号：KR1020120126650

申请日：2012-11-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장종혁 ,  최찬희 ,  류희섭 ,  박경미 ,  박승권 ,  배재현

IPC: G06F3/01 ,  G06F3/16 ,  G10L15/00

CPC classification number: G10L21/06 ,  G10L15/30 ,  G10L2015/221 ,  H04L12/282 ,  H04N21/4126 ,  H04N21/4131 ,  H04N21/42203 ,  H04N21/43615 ,  H04N21/485 ,  G06F3/16

Abstract: The present invention relates to a display device, a voice acquisition device, and a voice recognition method thereof. The display device includes: a display unit for displaying an image; a communication unit for performing communication with a plurality of external devices; a voice recognition engine for recognizing voice spoken by a user; and a control unit for receiving a voice signal from the voice acquisition unit and controlling the communication unit to receive command candidates for recognizing the received voice signal from at least one among the external devices. By doing so, it is possible to enable better use of various kinds of voice acquisition equipment, provide linked-services using the equipment, enable dynamic registration/deletion of command candidates for voice recognition, react to processing speed delay or recognition rate decline in a flexible manner, and accordingly improve efficiency of the entire voice recognition system.

Abstract translation: 本发明涉及显示装置，语音获取装置及其语音识别方法。 显示装置包括：显示单元，用于显示图像; 用于与多个外部设备进行通信的通信单元; 用于识别用户使用的语音的语音识别引擎; 以及控制单元，用于从所述语音获取单元接收语音信号，并且控制所述通信单元从所述外部设备中的至少一个接收用于识别所接收的语音信号的命令候选。 通过这样做，可以更好地利用各种语音获取设备，使用该设备提供链接服务，使得能够动态注册/删除用于语音识别的命令候选者，对处理速度延迟或识别率下降的反应 灵活的方式，从而提高整个语音识别系统的效率。

公开(公告)号：KR1020020081927A

公开(公告)日：2002-10-30

申请号：KR1020010021477

申请日：2001-04-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 배재현 ,  김문우 ,  박경신 ,  이제철

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An edge exposing method of a semiconductor wafer is provided to enhance productivity by using repetitious exposing processes. CONSTITUTION: A photoresist layer is formed on a wafer(100) having a flat zone with an edge region(200). The wafer(100) is then mounted on a wafer supporting part(300) in a WEE(Wafer Edge Exposure) equipment. A beam generating apparatus(400) including an optical source(410) and an exposure control mask(420) is then prepared. At least, two times of exposing processes are repetitiously performed by exposing the beam applied from the optical source(410) into the edge region(200) of the wafer(100) while the wafer rotates. The width of the edge region(200) is determined by the exposure control mask(420) located between the optical source(410) and the wafer supporting part(300).

Abstract translation: 目的：提供半导体晶片的边缘曝光方法，以通过使用重复的曝光工艺来提高生产率。 构成：在具有边缘区域（200）的平坦区域的晶片（100）上形成光致抗蚀剂层。 然后将晶片（100）安装在WEE（晶片边缘曝光）设备中的晶片支撑部件（300）上。 然后制备包括光源（410）和曝光控制掩模（420）的光束产生装置（400）。 至少通过在晶片旋转时将从光源（410）施加的光束曝光到晶片（100）的边缘区域（200）中来重复执行两次曝光处理。 边缘区域（200）的宽度由位于光源（410）和晶片支撑部（300）之间的曝光控制掩模（420）确定。