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公开(公告)号：KR1020100043952A
公开(公告)日：2010-04-29
申请号：KR1020080103221
申请日：2008-10-21
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L31/00
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an organic photovoltaic device is provided to stably form a 6,6-phenyl-C_x butyric acid methyl ester(PCBM) on a pol-3-hexythiophene(P3HT) by successively coating a photoactive layer with the P3HT and an electron accepting layer with the PCBM and subsequently patterning the photoactive layer and the electron accepting layer through a pressurization process. CONSTITUTION: A first electrode material(20) is coated on a substrate(10). An photoactive layer(40) is coated on the first electrode material. An electron accepting layer(50) is coated on the photoactive layer. The upper side and the lower side of the substrate and the electron accepting layer are pressurized using a mold(60). A second electrode material is coated on the electron accepting layer.
Abstract translation: 目的：提供一种制造有机光伏器件的方法，通过连续地在P3HT上涂覆光活性层，在聚-3-氧噻吩（P3HT）上稳定地形成6,6-苯基-C_x丁酸甲酯（PCBM）， 具有PCBM的电子接受层，然后通过加压工艺对光敏层和电子接受层进行图案化。 构成：将第一电极材料（20）涂覆在基底（10）上。 光敏层（40）涂覆在第一电极材料上。 电子受体层（50）涂覆在光敏层上。 使用模具（60）对基板的上侧和下侧以及电子接受层进行加压。 第二电极材料涂覆在电子接受层上。
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公开(公告)号：KR1020100027456A
公开(公告)日：2010-03-11
申请号：KR1020080086389
申请日：2008-09-02
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a biosensor having a nano-gap is provided to form pattern having different materials at three sides and simplify manufacturing process. CONSTITUTION: A method for manufacturing a biosensor comprises: a step of forming a semiconductor layer for applying the semiconductor layer on a substrate; a step of forming a metal layer for applying the metal layer on the semiconductor layer; a step of forming a resist layer for applying the resist layer on the metal layer; a step of multi-stage patterning to form pattern containing a first protrusion and second protrusion; a step of etching; and a step of dopping the silicon layer with impurities.
Abstract translation: 目的：提供一种制造具有纳米间隙的生物传感器的方法，以在三面形成具有不同材料的图案，并简化制造工艺。 构成：生物传感器的制造方法，包括：在基板上形成用于将半导体层涂敷的半导体层的工序; 在所述半导体层上形成用于施加所述金属层的金属层的工序; 形成用于在金属层上施加抗蚀剂层的抗蚀剂层的步骤; 多级图案化以形成包含第一突起和第二突起的图案的步骤; 蚀刻步骤 以及用杂质掺杂硅层的步骤。
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公开(公告)号：KR100928330B1
公开(公告)日：2009-11-26
申请号：KR1020080040865
申请日：2008-04-30
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: PURPOSE: A transparent substrate and a manufacturing method thereof are provided to prevent the reflection of emitted light by forming a anti-reflection nano patterns at both sides of a main substrate. CONSTITUTION: A transparent substrate(200) comprises a main substrate(210) which is faced with a light source. The main substrate comprises the first surface facing the light source and the second surface facing the first surface. Nano-patterns(213,215) for preventing the reflection of light are arranged on the first and second surfaces and consist of a plurality of protrusions. The nano patterns have a pitch of 20 to 500nm. An ITO(Indium Tin Oxide) substrate(230) is attached to the first side of the substrate.
Abstract translation: 目的：提供透明基板及其制造方法，以通过在主基板的两侧形成抗反射纳米图案来防止发射光的反射。 构造：透明基板（200）包括面对光源的主基板（210）。 主基板包括面向光源的第一表面和面向第一表面的第二表面。 用于防止光反射的纳米图案（213,215）布置在第一和第二表面上并且由多个突起组成。 纳米图案的间距为20至500nm。 ITO（氧化铟锡）衬底（230）附着到衬底的第一侧。
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公开(公告)号：KR100923249B1
公开(公告)日：2009-10-27
申请号：KR1020070135567
申请日：2007-12-21
IPC: H01L23/488
CPC classification number: H05K3/3457 , B23K1/0016 , B23K3/0638 , H01L21/6835 , H01L24/742 , H01L2224/11003 , H01L2924/01006 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/01049 , H01L2924/01093 , H05K2203/0113 , H05K2203/0126 , H05K2203/0338
Abstract: 템플릿의 캐버티들에 용융된 솔더를 주입하는 방법 및 이를 수행하기 위한 장치에 있어서, 프로세스 챔버 내에는 상기 용융된 솔더를 제공하기 위한 노즐이 배치되며, 상기 노즐은 상기 템플릿의 표면 부위에 접촉된다. 상기 프로세스 챔버 내부의 압력은 노즐 내부의 압력보다 낮게 조절되며, 구동부는 상기 템플릿과 상기 노즐 사이에서 상대적인 미끄러짐 운동을 발생시킨다. 따라서, 상기 용융된 솔더는 상기 프로세스 챔버와 상기 노즐 사이의 차압 및 상기 상대적인 미끄러짐 운동에 의해 상기 템플릿의 캐버티들에 순차적으로 주입될 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020090067791A
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：KR1020070135567
申请日：2007-12-21
IPC: H01L23/488
CPC classification number: H05K3/3457 , B23K1/0016 , B23K3/0638 , H01L21/6835 , H01L24/742 , H01L2224/11003 , H01L2924/01006 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/01049 , H01L2924/01093 , H05K2203/0113 , H05K2203/0126 , H05K2203/0338
Abstract: A method for injecting melted solder and an apparatus for implementing the same are provided to include a nozzle having an improved structure in order to inject the molten solder into cavities of a template. Molten solder(10) is injected into cavities of a template(20). The template has inner space which is tightly sealed. A plurality of cavities are formed on the surface of the template. A nozzle(110) is contacted with the surface of the template and provides the template with molten solder. The molten solder is sequentially injected into the cavities.
Abstract translation: 提供了熔融焊料的注入方法及其实施方法，其特征在于，包括具有改善结构的喷嘴，以便将熔融焊料注入到模板的空腔中。 将熔融焊料（10）注入模板（20）的空腔中。 模板具有密封密封的内部空间。 在模板的表面上形成多个空腔。 喷嘴（110）与模板的表面接触并向模板提供熔融焊料。 将熔融的焊料顺序地注入腔中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100902561B1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：KR1020087000210
申请日：2005-07-05
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02F1/1343 , G02F1/13 , H01J11/22
Abstract: 본 발명은 (1) 고체 기판 상에 탄소나노튜브 박막을 형성하는 단계; (2) 상기 탄소나노튜브 박막 상에 연성 투명 기판을 형성할 수 있는 전구체를 도포하는 단계; (3) 상기 전구체를 경화시켜, 상기 탄소나노튜브 박막이 고정화된 연성 투명 기판으로 만드는 단계; 및 (4) 상기 고체 기판을 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 전도성 투명 전극 제조방법 및 그에 의해 제조된 투명 전극에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 반복적인 휨, 구부림 등의 작용 후에도 박막의 뛰어난 접착안정성을 보이는 대면적의 유연한 투명 전극이 얻어질 수 있다. 본 발명에 따라 제조된 투명 전극은 광범위한 용도로 사용될 수 있는데, 예를 들면, 디스플레이, 전자소자, 센서, 메모리 등 다양한 분야에 활용이 가능하다.
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公开(公告)号：KR100894736B1
公开(公告)日：2009-04-24
申请号：KR1020070084558
申请日：2007-08-22
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명은 롤가압 및 연속수지도포가 가능한 대면적 임프린트장치에 관한 것이다. 본 발명의 장치는 중심축을 갖으며 롤러지지대에 의해 지지되어 회전운동하는 두 개의 롤러와, 두 개의 롤러를 연결하도록 체결되며, 상기 몰드를 이송하는 벨트와, 롤러지지대와 수평으로 설치되는 선형지지대에 의해 지지되어 선형운동하는 선형구동부와, 하나의 롤러와 근거리 이격되어 수지를 공급하는 노즐, 및 수지의 잔류층을 최소화하는 간격으로 몰드와 일정간격 이격되어 상기 노즐로부터 도포되는 수지량을 조절하는 블레이드를 포함한다. 따라서, 본 발명은 대면적 기판에 균일한 압력 전달을 용이하게 하고, 고점성 수지의 적용 시에도 패턴전사 및 잔류층 두께의 균일성을 확보할 수 있는 효과를 제공한다.
대면적, 임프린팅, 롤가압, 연속수지도포-
公开(公告)号：KR1020070042309A
公开(公告)日：2007-04-23
申请号：KR1020050098080
申请日：2005-10-18
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명은 미세 임프린트 리소그래피 공정 기술에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 UV 미세임프린트 리소그래피 공정기술이나, 가열방식의 미세임프린트 리소그래피 공정기술에 사용되는 스탬프와 이 스탬프의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 스탬프 제조방법은, 기판 위에 다이아몬드상 카본(DLC, diamond-like carbon) 박막을 증착하는 단계와, 상기 다이아몬드상 카본 박막 위에 레지스트를 도포하는 단계와, 상기 레지스트를 패터닝하는 단계와, 상기 패터닝된 레지스트를 보호막으로 하여 상기 다이아몬드상 카본 박막을 에칭하는 단계, 및 상기 레지스트를 제거하는 단계를 포함한다.
미세임프린트 리소그래피, 다이아몬드상 카본필름, 친수성, 소수성Abstract translation: 本发明涉及一种印章和UV压印光刻工艺技术或精细，精细加热方法压印光刻工艺技术涉及制造用于图章在更具体地，微压印光刻工艺技术的方法。
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公开(公告)号：KR100612292B1
公开(公告)日：2006-08-11
申请号：KR1020050023532
申请日：2005-03-22
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G03F7/00
Abstract: 대면적의 패턴 복제를 위한 스탬프의 제조를 위하여 본 발명은 디스펜서를 이용하여 기판에 액적을 패터닝하는 단계, 상기 액적을 열이나 빛(가시광선 또는 자외선)을 조사(照査)하여 경화(curing)하는 단계를 포함한다.
디스펜서, 마이크로 렌즈, 대면적 스탬프, 액적Abstract translation: 为了生产邮票对于大面积本发明与包含分配器的图案复制：图案化的液滴到所述基板，所述溶液是发热少，光（可见光或紫外光）照射（照查）硬化（固化） 等等。
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60.发明授权ＵＶ 나노임프린트 리소그래피 공정 및 이 공정을수행하는 장치 失效UV NANOIMPRINT LITHOGRAPHY PROCESS AND APPARATUS FOR PERFORMING THE SAME
公开(公告)号：KR100558754B1
公开(公告)日：2006-03-10
申请号：KR1020040012191
申请日：2004-02-24
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C35/0888 , B29C59/022 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , Y10S977/887
Abstract: 본 발명은 나노구조물이 각인된 스탬프를 이용하여 웨이퍼 또는 스탬프용 판재 위에 반복적으로 나노구조물을 제작할 수 있는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정 및 이 공정을 수행하는 장치에 관한 것으로, 본 발명의 장치는, 작업 대상물을 장착하는 작업 대상물용 척; 자외선이 투과되는 투명한 재질로 이루어지며, 나노구조물이 표면에 형성된 요소 스탬프를 2개 이상 구비하는 스탬프; 상기 스탬프를 장착하는 스탬프 척; 상기 스탬프를 투과하도록 자외선을 조사하여 요소 스탬프와 작업 대상물 사이에 도포되어 있는 레지스트를 경화시키는 자외선 램프 유닛; 상기 작업 대상물용 척 또는 스탬프 척을 이동시켜 상기 레지스트를 요소 스탬프들과 작업 대상물 표면에 접촉시키는 이동 유닛; 및 상기 요소 스탬프들과 대향하는 작업 대상물의 일부 영역에 선택적으로 가스 압력을 작용시킴으로써 상기 요소 스탬프들의 나노구조물들에 상기 레지스트를 충전(充塡)시키는 압력 부가 유닛;을 포함한다.
UV 나노임프린트 리소그래피, 나노구조물, 다중 양각 요소 스탬프, 선택적 부가 압력
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