公开(公告)号：KR1020130078930A

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：KR1020120000097

申请日：2012-01-02

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  이동윤 ,  최영재 ,  이석우

IPC: B23K15/08

Abstract: PURPOSE: A surface finishing apparatus using the electronic beam with pulse is provided to have a structure that the electric beam is induced and emitted in a plasma state as the method for scanning the electric beam of scanning portion, and to cause the emitted electric beam to have the fixed pulse, thereby preventing the damage of processing object. CONSTITUTION: A surface finishing apparatus using the electronic beam with pulse includes a work chamber (100), a stage (200), and a scanning module (300). The work chamber has a vacuum condition therein and has the outer appearance. The stage is provided in the work source chamber, and a processing object is seated on the upper surface. The scanning modulation includes a scanning unit (310), a pulse power unit (320), and a focusing unit (330). The scanning unit is applied with power by being provided in the work chamber so as to correspond to the stage, and scans the electric beam to the processing object. The pulse power unit repeats supplying and stopping the power so that the electric beam that is generated in the scanning unit has the fixed period. The focusing unit is located to surround a part of the movement route of electric beam that is scanned from the scanning unit. [Reference numerals] (110) Vacuum pump; (310) Scanning unit; (320) Pulse power unit

Abstract translation: 目的：使用具有脉冲的电子束的表面整理装置被设置为具有以等离子体状态感应和发射电子束的结构，作为扫描扫描部分的电子束的方法，并且使发射的电子束 具有固定脉冲，从而防止加工对象的损坏。 构成：使用具有脉冲的电子束的表面整理装置包括工作室（100），平台（200）和扫描模块（300）。 工作室在其中具有真空状态并具有外观。 工作台设置在工作源室中，处理对象位于上表面上。 扫描调制包括扫描单元（310），脉冲功率单元（320）和聚焦单元（330）。 扫描单元通过设置在工作室中以对应于台架来施加电力，并且将电子束扫描到处理对象。 脉冲功率单元重复提供和停止功率，使得在扫描单元中产生的电束具有固定的周期。 聚焦单元被定位成围绕从扫描单元扫描的电波的移动路线的一部分。 （附图标记）（110）真空泵; （310）扫描单元; （320）脉冲功率单元

公开(公告)号：KR1020130051085A

公开(公告)日：2013-05-20

申请号：KR1020110116237

申请日：2011-11-09

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  최영재 ,  이동윤 ,  이석우 ,  김보현

IPC: B23Q5/40 ,  B23Q3/18 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A nano stage with a separate linear transfer unit is provided to control displacement of a worktable by continuous feedback control through simultaneously performing expansion and contraction of the linear transfer unit and rotation of a transfer shaft. CONSTITUTION: A nano stage comprises a worktable(100), a transfer shaft(200), a support unit(300), and a linear transfer unit(500). The transfer shaft rotates by receiving a rotary force and transfers the worktable in a shaft direction. The linear transfer unit is made of a piezoelectric material. One side is fixed and the other side is connected to the support unit. The linear transfer unit transfers the support unit through expansion and contraction and transfers entire transfer shaft in a shaft direction.

Abstract translation: 目的：提供具有单独线性传递单元的纳米级，以通过连续反馈控制来控制工作台的位移，同时执行线性传送单元的扩展和收缩以及传送轴的旋转。 构成：纳米级包括工作台（100），传送轴（200），支撑单元（300）和线性传送单元（500）。 传送轴通过接受旋转力而旋转，并将工作台沿轴向传送。 线性传递单元由压电材料制成。 一侧是固定的，另一侧连接到支撑单元。 线性传送单元通过伸缩来传送支撑单元，并将整个传送轴沿轴方向传送。

公开(公告)号：KR101156179B1

公开(公告)日：2012-06-18

申请号：KR1020100045645

申请日：2010-05-14

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  최영재 ,  이석우

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 본 발명은 원패스 가공방식하에서 대면적에 대하여 균일한 깊이로 정밀한 패턴을 신속하고 수행할 수 있도록 하는 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치는 진공분위기를 유지하는 서브챔버와, 상기 서브챔버에 설치되며 전자빔을 방출하는 전자빔 소스와, 상기 서브챔버에 설치되며 상기 방출된 전자빔이 사각형상으로 가공대상물에 조사되도록 하는 빔 형상 가변부재를 구비한 사각형상 전자빔 방출유닛과, 상기 사각형상 전자빔 방출유닛의 하단에 설치된 메인챔버 및 상기 메인챔버 내부에 구비되며 상기 가공대상물이 올려지는 작업스테이지를 포함하여 구성되되, 상기 서브챔버는 수평회전이 가능하게 설치된 것을 특징으로 한다.
이에 따라서, 원패스 가공방식만으로도 종래의 가우시안 라운드 빔보다 넓은 면적의 가공을 신속하고 정밀하게 수행할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020110125982A

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：KR1020100045647

申请日：2010-05-14

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  최영재 ,  이석우 ,  이동윤

IPC: H01J37/147

Abstract: PURPOSE: The deflector of an electron beam device is provided to minimize image distortion by forming an electric field on an electronic beam and converting the progressive direction of the electronic beam. CONSTITUTION: A deflector(300) is composed of a total of 4 direction converting electrodes. A pair of first direction converting electrodes(310) is formed to be long to a longitudinal direction. The pair of the first direction converting electrodes is parallelly arranged at a constant interval and the same height. A pair of second direction converting electrodes(350) is formed to be long to the longitudinal direction while being crossed with the first direction converting electrodes. The pair of the second direction converting electrodes is arranged to be parallel at the constant interval and the same height.

Abstract translation: 目的：提供电子束装置的偏转器以通过在电子束上形成电场并转换电子束的逐行方向来最小化图像失真。 构成：偏转器（300）由总共4个方向转换电极组成。 一对第一方向转换电极（310）形成为沿纵向方向长。 一对第一方向转换电极以恒定的间隔平行地排列并具有相同的高度。 一对第二方向转换电极（350）形成为在与第一方向转换电极交叉的同时沿长度方向长。 一对第二方向转换电极被布置为以恒定的间隔并且具有相同的高度平行。

公开(公告)号：KR1020110125980A

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：KR1020100045645

申请日：2010-05-14

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  최영재 ,  이석우

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/0275 ,  G03F1/16 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/7055

Abstract: PURPOSE: A miniature electron beam device equipped with a square shape electron beam emission unit is provided to rapidly process a side which is wider than a gaussian round beam by applying a one pass process method. CONSTITUTION: A square shape electron beam emission unit comprises a sub-chamber(110), a electron beam source(121), and a beam shape deformable member(122). The sub-chamber maintains a vacuum condition for emitting an electron beam. The electron beam source is installed in the sub-chamber and emits the electronic beam. A main chamber(130) is installed in the bottom of the square shape electron beam emission unit. A working stage(140) is included inside the main chamber. The beam shape deformable member is one and more apertures which include a square hole.

Abstract translation: 目的：提供一种配有方形电子束发射单元的微型电子束装置，通过应用一步法，快速处理比高斯圆形光束宽的一侧。 构造：方形电子束发射单元包括子室（110），电子束源（121）和束形状可变形构件（122）。 子室保持用于发射电子束的真空条件。 电子束源安装在子室中并发射电子束。 主室（130）安装在方形电子束发射单元的底部。 主室内装有工作台（140）。 梁形可变形构件是包括方孔的一个或多个孔。

公开(公告)号：KR1020110097580A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：KR1020100077328

申请日：2010-08-11

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 최헌종 ,  이석우 ,  최영재 ,  홍원표 ,  강은구 ,  신정훈

IPC: G06Q50/04 ,  G06Q50/10 ,  G06Q10/06 ,  G06Q50/32

CPC classification number: Y02P90/30 ,  G06Q50/04 ,  G06Q10/06 ,  G06Q50/10 ,  G06Q50/32

Abstract: 본 발명은 금형을 설계ㆍ조립하는 금형업체 및 상기 금형업체로부터 의뢰받은 다수의 금형부품을 가공하는 복수의 가공업체의 상호 협력에 의한 금형 제조공정에서 금형의 검사정보를 제공하는 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 금형 제조공정의 검사정보 제공방법은, 관리서버는 금형업체 단말기 또는 가공업체 단말기가 접속하면, 상기 금형부품별로 구분된 관리목록을 제공하는 단계; 상기 금형업체 단말기는 설계도면상에 주요 품질관리지점인 복수의 품질포인트를 지정하고 상기 복수의 품질포인트에 각각 대응되게 입력된 검사기준정보를 상기 금형부품별로 상기 관리목록에 등록하는 단계; 상기 가공업체 단말기는 상기 관리목록에서 상기 검사기준정보를 확인하고, 상기 금형부품별로 상기 관리목록에 검사결과정보를 등록하는 단계; 및 상기 금형업체 단말기는 상기 관리목록에서 상기 검사결과정보를 확인하는 단계;를 포함한다.
본 발명에 의하면, 금형 제조공정에 있어 검사기준정보, 검사결과정보 등의 검사정보를 설계도면상에 지정된 품질포인트에 각각 대응되게 설계도면상에 입력하여 금형업체 담당자와 가공업체 담당자 간에 공유함으로써, 주요 품질관리지점과 각 지점별 검사기준값, 검사결과값 등을 신속하고 용이하게 확인할 수 있을 뿐만 아니라, 해당 설계도면파일을 각 금형부품별로 관리서버와 인터넷을 통해 공유함으로써 그 편의성과 금형부품 제조공정의 효율을 극대화시킬 수 있는 금형 제조공정의 검사정보 제공방법에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020100100047A

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：KR1020090018715

申请日：2009-03-05

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  최영재 ,  이석우 ,  최헌종

IPC: G01B11/00

Abstract: PURPOSE: A method of measuring and modifying the alignment error of a multi layer structure of a fine hole using infrared ray is provided to detect the center of a lens using a short-wave LED even under low resolution and to modify the alignment error on each lens. CONSTITUTION: A method of measuring and modifying the alignment error of a multi layer structure of a fine hole using infrared ray is as follows. A secondary lens is placed on a primary lens through a set of lens by the irradiating of an IR light source emitting the infrared ray. The transmission image of the primary lens and the reflection image of the secondary lens are taken through transfer stages(S10). The intermediate point of a white balance value is detected through the primary and secondary transmission images taken(S30). The central point of the primary and secondary transmission images is detected(S40). By moving the center of the secondary lens to the center of the primary lens through the detected center, the error between the lens alignment having a fine hole is modified(S50). On the primary and secondary transmission images, the white balance value is located on the bottom point.

Abstract translation: 目的：提供使用红外线测量和修正细孔多层结构的对准误差的方法，即使在低分辨率下也可以使用短波LED来检测透镜的中心，并且可以修改每个 镜片。 构成：使用红外线测量和修正细孔多层结构的对准误差的方法如下。 通过照射发射红外线的IR光源，通过一组透镜将次透镜放置在主透镜上。 主透镜的透射图像和次透镜的反射图像通过传送台进行（S10）。 通过拍摄的主要和次要发送图像来检测白平衡值的中间点（S30）。 检测主要和次要传输图像的中心点（S40）。 通过检测中心将副透镜的中心移动到主透镜的中心，修正了具有细孔的透镜对准之间的误差（S50）。 在主要和次要传输图像上，白平衡值位于底部。

公开(公告)号：KR1020090115371A

公开(公告)日：2009-11-05

申请号：KR1020080041203

申请日：2008-05-02

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  홍원표 ,  이석우 ,  최헌종 ,  이상무 ,  남경태 ,  유영선

IPC: H01L21/68 ,  B82B3/00

Abstract: PURPOSE: A nano stage with a driver in the center is provided to perform precise transfer without a moment by making the center of gravity coincide with the point of application. CONSTITUTION: An object to be processed or measured is fixed in a workbench(110). A base(120) supports the workbench movably. A driver(130) passes through the center of gravity and transfers the worktable. A ball screw(132) is positioned in the center of the workbench to pass through the center of gravity. A driving motor rotates the ball screw. A displacement detector(140) measures an amount of the transfer of the workbench.

Abstract translation: 目的：提供具有中心驱动器的纳米级，通过使重心与应用点一致，实现精确的传递，无需时间。 构成：要处理或测量的物体固定在工作台（110）中。 基座（120）可移动地支撑工作台。 驾驶员（130）通过重心移动工作台。 滚珠丝杠（132）位于工作台的中心以通过重心。 驱动电机旋转滚珠丝杠。 位移检测器（140）测量工作台的传送量。

公开(公告)号：KR1020090114733A

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：KR1020080040525

申请日：2008-04-30

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 이석우 ,  최헌종 ,  최영재 ,  김광민 ,  강은구

IPC: B26F1/22

CPC classification number: B65H35/0073 ,  B26F1/02

Abstract: PURPOSE: A disc for preventing over-run and a punching apparatus using the same are provided to adjust inertia torque variably by adjusting amount of mass and the size of a rotating body. CONSTITUTION: A disc for preventing over-run(10) comprises a rotator(20) and a plurality of masses(50a). The rotator is installed to be attached and detached to/from a rotating member coaxially. The rotating member periodically repeats its rotation and stop. The rotator includes a space(23) inside. The masses are accommodated in the space of a rotator. The masses are autonomously moved to prevents the occurrence of inertia torque of the rotating. The masses prevents the overrun of the rotating member by generating reaction force.

Abstract translation: 目的：提供用于防止超跑的盘和使用该盘的冲孔装置，通过调节旋转体的质量和尺寸来可变地调节惯性扭矩。 构成：用于防止过度运行的盘（10）包括旋转器（20）和多个质量块（50a）。 旋转体被安装成与旋转构件同轴地附接和分离。 旋转部件周期性地重复其旋转并停止。 旋转器包括内部的空间（23）。 质量被容纳在旋转器的空间中。 质量自动移动以防止旋转的惯性力矩的发生。 质量通过产生反作用力来防止旋转构件超载。

公开(公告)号：KR100709483B1

公开(公告)日：2007-04-20

申请号：KR1020060018744

申请日：2006-02-27

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 최헌종 ,  강은구 ,  홍원표 ,  이석우 ,  정순종

IPC: H01L41/04 ,  H01L41/08

Abstract: 본 발명은 압전 액추에이터의 스트로크 이력현상을 저감할 수 있도록 하는 회로에 관한 것으로, 특히 액추에이터에 외부회로를 직/병렬로 연결하여 외부 제어기 없이도 스트로크의 이력현상을 낮추는 것을 목적으로 하는 압전 액추에이터의 스트로크 이력 저감 회로에 관한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 정밀한 가공, 제어, 계측 등을 위해 구현된 제어회로에 사용되는 압전 액추에이터에 있어서, 커패시터와 저항을 직렬연결하여 공진회로를 만들고, 각 공진회로의 저항값을 조절하여 필요한 주파수 영역에서 공진할 수 있도록 하며, 이들 공진회로를 병렬연결하여 액추에이터에 연결함으로써 요구되는 주파수 영역에서 스트로크의 이력현상을 줄일 수 있도록 하는 외부회로를 압전 액추에이터와 연결하여 구성되는 것을 특징으로 하는 압전 액추에이터의 스트로크 이력 저감 회로에 관한 것을 그 기술적 요지로 한다.
압전 액추에이터, 스트로크, 이력현상, 공진회로, 병렬

Abstract translation: 本发明涉及一种能够通过以降低冲程的滞后，而无需外部控制器的外部电路到S / P连接到所述压电致动器的致动器行程的滞后减小压电致动器的冲程的滞后，特别是电路 减少电路。