병렬 광접속 모듈
    51.
    发明公开
    병렬 광접속 모듈 失效
    并行光学互连模块

    公开(公告)号:KR1020060054914A

    公开(公告)日:2006-05-23

    申请号:KR1020040093775

    申请日:2004-11-17

    Abstract: 본 발명은 광섬유와 광원/광검출기 간의 거리 및 이들 간의 정렬 오차로 인해 발생되는 결합 손실을 감소시킬 수 있도록 광학벤치에 정렬된 광원/광검출기 어레이에서 방출/검출되는 다채널 광신호를 경로 변경하는 벌크 반사경, 벌크 반사경의 제 1 측면 및 제 1 측면과 직교하는 제 2 측면 중 적어도 하나의 측면에 형성된 제 1 홈에 삽입고정되며 벌크 반사경측으로 진행하는 광신호를 집속하는 적어도 하나의 렌즈 어레이, 및 벌크 반사경의 제 2 측면에 형성된 제 2 홈에 삽입고정되며 광신호를 전달하는 광섬유를 구비한 2D 유니페룰을 포함하는 병렬 광접속 모듈을 제공한다.
    광접속 모듈, 광송수신 모듈, 반사경, 45도 반사면, 렌즈, 페룰, 광섬유, 광 커넥터, 광어뎁터, 광연결, 광접속

    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법
    54.
    发明公开
    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법 失效
    光波导平台及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020050049173A

    公开(公告)日:2005-05-25

    申请号:KR1020030083066

    申请日:2003-11-21

    Abstract: 본 발명은 실리카 및 폴리머 재료를 이용한 하이브리드형 광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법에 관하여 개시한다. 기판 상에 실리카로 하부 클래드층, 중심 코어층, 상부 클래드층을 적층하고 포토리소그라피 및 식각 공정으로 패터닝하여 광도파로를 형성한다. 이 때 실장될 능동 광소자와 광도파로 중심 코어의 수직 정렬에 기여하는 테라스의 위치를 고려하여 식각 깊이를 결정한다. 상기 광도파로 측부의 기판 상에 폴리머로 상부 클래드층을 형성하고 표면을 평탄화한다. 상기 트렌치 영역의 상부 클래드층을 식각하여 하부 클래드층을 노출시키고, 노출된 하부 클래드층를 소정 깊이 식각하여 테라스를 형성한다. 상기 트렌치 영역의 하부 클래드층 상에 솔더 패드 및 금속 배선 형성하고, 광축이 상기 광도파로 코어층의 중심과 정렬되도록 상기 테라스 상에 광소자를 실장하는 동시에 솔더 패드 및 금속 배선과 상기 광소자를 전기적으로 연결한다.

    결합 손실 온도 의존성을 억제한 실리카/폴리머하이브리드 광도파로를 이용한 광소자
    55.
    发明公开
    결합 손실 온도 의존성을 억제한 실리카/폴리머하이브리드 광도파로를 이용한 광소자 失效
    采用二氧化硅的光学器件»聚合物混合光波导与耦合损失的抑制温度依赖性

    公开(公告)号:KR1020050036403A

    公开(公告)日:2005-04-20

    申请号:KR1020030072090

    申请日:2003-10-16

    Abstract: 본 발명은 실리카/폴리머 하이브리드 광소자 제작시 광섬유와의 결합 손실 온도 의존성을 억제하고, AWG 소자에서 추가로 발생하는 온도 의존성을 줄일 수 있는 실리카/폴리머 하이브리드 광도파로를 이용한 광소자를 제공하기 위한 것으로, 이를 위해 본 발명은, 양의 열광학 계수를 갖는 제1실리카층; 상기 제1실리카층 상에 배치되며 양의 열광학 계수를 갖는 실리카 코어; 상기 실리카 코어 상에서 외부와 결합되는 일측단으로부터 소정의 길이 만큼 연장된 타측단을 가지며, 상기 일측단으로부터 그 폭이 단조 감소하여 상기 타측단에서 적어도 상기 실리카 코어의 폭을 갖도록 배치되며 양의 열광학 계수를 갖는 제2실리카층; 및 상기 제2실리카층 상에 배치되며 음의 열광학 계수를 갖는 폴리머층을 포함하는 실리카/폴리머 하이브리드 광도파로를 이용한 광소자를 제공한다.

    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법
    56.
    发明授权
    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법 失效
    광도파로플랫폼및그제조방법

    公开(公告)号:KR100456672B1

    公开(公告)日:2004-11-10

    申请号:KR1020020017599

    申请日:2002-03-30

    CPC classification number: G02B6/12004 G02B6/136 G02B6/42

    Abstract: An optical waveguide platform and a manufacturing method thereof are provided. In the provided optical waveguide platform, a terrace on which an optical device is mounted is formed by using an etch stopper pattern formed on a lower clad layer. Therefore, the optical device is mounted without processing a silicon substrate. In addition, in the provided optical waveguide platform, the etch stopper pattern is formed on the lower clad layer to prevent defocus in a photolithography process due to an etch step, so as not to damage a fine waveguide pattern. Moreover, an optical waveguide is formed on the terrace in manufacturing the optical waveguide platform to examine the characteristics of the optical waveguide device before etching a trench.

    Abstract translation: 提供了一种光波导平台及其制造方法。 在所提供的光波导平台中,通过使用形成在下包层上的蚀刻阻挡图案来形成其上安装有光学器件的平台。 因此,光学器件被安装而不处理硅衬底。 另外,在所提供的光波导平台中,在下包层上形成蚀刻阻止图案以防止由于蚀刻步骤而在光刻工艺中散焦,从而不损伤精细的波导图案。 而且,在制造光波导平台时在平台上形成光波导,以在蚀刻沟槽之前检查光波导装置的特性。

    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법
    57.
    发明公开
    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법 失效
    光波导平台及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020040013694A

    公开(公告)日:2004-02-14

    申请号:KR1020020046732

    申请日:2002-08-08

    Abstract: PURPOSE: An optical waveguide platform and a method for manufacturing the same are provided to solve the limitation of substrate directionality due to the anisotropic etching of the substrate by allowing the semiconductor device to mount on the silicon substrate without the fabrication step of the silicon substrate. CONSTITUTION: An optical waveguide platform includes a substrate(301), an optical waveguide, a terrace(308), a metal and solder(309,310) and an optical device(311). The optical waveguide is provided with a bottom clad layer(302) formed on a portion of the substrate(301), a central core layer(303) and a top clad layer(304) patterned thereon the waveguide. The terrace(308) is formed another portion of the substrate(301) by patterning the bottom clad layer(302). The metal and solder(309,310) are formed on the top of the terrace(308) and the optical device(311) is mounted on the top of the terrace(308).

    Abstract translation: 目的:提供一种光波导平台及其制造方法,用于通过允许半导体器件安装在硅衬底上而不需要硅衬底的制造步骤来解决由于衬底的各向异性蚀刻引起的衬底方向性的限制。 构成:光波导平台包括基板(301),光波导,平台(308),金属和焊料(309,310)和光学装置(311)。 光波导设置有形成在基板(301)的一部分上的底部覆盖层(302),在波导上图案化的中心芯层(303)和顶部覆盖层(304)。 通过图案化底部包层(302),露台(308)由衬底(301)的另一部分形成。 金属和焊料(309,310)形成在露台(308)的顶部上,并且光学装置(311)安装在露台(308)的顶部上。

    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법
    58.
    发明公开
    광도파로 플랫폼 및 그 제조 방법 失效
    光波导平台及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020030078516A

    公开(公告)日:2003-10-08

    申请号:KR1020020017599

    申请日:2002-03-30

    CPC classification number: G02B6/12004 G02B6/136 G02B6/42

    Abstract: PURPOSE: An optical waveguide platform is provided, which is fabricated with a simple process without an etching process of a silicon substrate or a polishing process of a silica film. CONSTITUTION: The optical waveguide platform includes a substrate(100), and a bottom clad layer(102) which is formed on the substrate and has a terrace(114). An etch stop pattern(104) is formed on the terrace. A height adjustment layer(106) is formed on the bottom clad layer of a part where the terrace and the etch stop pattern are not formed, and align an optical device and an optical waveguide accurately by thickness control. An optical waveguide core layer(108) and a top clad layer(110) are formed on the height adjustment layer in sequence. And a metallic film(116) is formed on a bottom of the terrace.

    Abstract translation: 目的:提供一种光波导平台,其采用简单的工艺制造,无需硅衬底的蚀刻工艺或二氧化硅膜的抛光工艺。 构成:光波导平台包括衬底(100)和形成在衬底上并具有露台(114)的底部覆层(102)。 在露台上形成蚀刻停止图案(104)。 在没有形成露台和蚀刻停止图案的部分的底部包层上形成高度调节层(106),并通过厚度控制精确地对准光学装置和光波导。 依次在高度调节层上形成光波导芯层(108)和顶部覆盖层(110)。 并且在露台的底部上形成金属膜(116)。

    음각 식각을 이용한 평판형 광 도파로 제조 방법
    59.
    发明授权
    음각 식각을 이용한 평판형 광 도파로 제조 방법 失效
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    公开(公告)号:KR100367087B1

    公开(公告)日:2003-01-09

    申请号:KR1020000077634

    申请日:2000-12-18

    Abstract: PURPOSE: A fabrication method of a plate-type optical waveguide is provided to select any amorphous material as a material for a core of waveguide by using an engraving etching. CONSTITUTION: After forming a metal mask on a silica glass substrate(210) by a thermal deposition or a sputtering, a waveguide pattern is formed through a lithography processing. At this time, the waveguide pattern has a groove on a defined core region. A groove corresponding to the core of the waveguide is formed by etching the silica glass substrate(210). Then, an amorphous metal oxidation material(221) is filled into the groove formed on the silica glass substrate(210) by performing a sol-gel processing. An amorphous layer(250) having a similar refractive index with the silica glass substrate(210) is deposited on the entire surface of the resultant structure.

    Abstract translation: 目的:提供平板型光波导的制造方法,以通过使用雕刻蚀刻选择任何非晶材料作为用于波导芯的材料。 构成:通过热沉积或溅射在石英玻璃基板(210)上形成金属掩模之后,通过光刻工艺形成波导图案。 此时,波导图案在限定的核心区域上具有凹槽。 通过蚀刻石英玻璃基板(210)形成对应于波导芯的凹槽。 然后,通过进行溶胶 - 凝胶处理,将非晶态金属氧化材料(221)填充到在石英玻璃基板(210)上形成的沟槽中。 在所得结构的整个表面上沉积与石英玻璃基板(210)具有相似折射率的非晶层(250)。

    이종 접합 평면 도파로형 광증폭기 및 그 제조 방법
    60.
    发明授权
    이종 접합 평면 도파로형 광증폭기 및 그 제조 방법 失效
    异质结平面波导型光放大器及其制造方法

    公开(公告)号:KR100363887B1

    公开(公告)日:2002-12-11

    申请号:KR1020000004123

    申请日:2000-01-28

    Abstract: 본 발명은 이종 접합 평면 도파로형 광증폭기 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 개별 제조되는 신호광 및 펌핑광이 입사되는 저손실 광 도파로 소자와 Er, Nd 등 희토류 금속 이온이 함유된 증폭용 광 도파로 소자를 결합시킨 구조의 평면 도파로형 광증폭기와 그 제조 방법을 제공한다.
    또한 본 발명은 이러한 구조를 갖는 증폭기를 이용하여 분배기, 파장다중화기 등의 PLC(Planar Lightwave Circuit)소자와 결합시켜 소자에서 발생되는 신호 감쇄를 보상시킨 광증폭 응용 소자 제조를 제공한다.
    본 발명에 따르면 저손실 도파로는 각종 기능성 소자의 집적이 가능하고, 광증폭용 도파로는 증폭 특성만 최적화하여, 개별 제조된 두 도파로 소자를 결합시켜 광증폭기를 제조하는 것이 가능하므로 본 발명의 증폭기의 경우 증폭 효과와 소자의 기능을 모두 최대화 할 수 있다.

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