公开(公告)号：JP2011033844A

公开(公告)日：2011-02-17

申请号：JP2009180212

申请日：2009-07-31

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： YAMAGUCHI SHUHEI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same. SOLUTION: The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a compound which generates an acid upon exposure with actinic rays or radiation, (B) a resin whose dissolution rate in an alkali developer increases by the action of an acid, and (C) a compound having a radical trapping group. The pattern forming method using the same is also provided. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 解决的问题：为了解决用于提高使用远紫外光，EUV，电子束等的特别是ArF准分子激光的微成像原始性能的技术的问题。 提供优异的光化射线或辐射敏感性树脂组合物，其通过液浸曝光以及通过正常曝光进行图案化，抑制显影缺陷，可以减少线边缘粗糙度，并确保宽曝光宽容度; 并提供使用该图案形成方法的图案形成方法。 光解射线或辐射敏感性树脂组合物包含（A）在用光化射线或辐射暴露时产生酸的化合物，（B）其中在碱显影剂中的溶解速率通过 酸，和（C）具有自由基捕获基团的化合物。 还提供了使用该图案形成方法的图案形成方法。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010256842A

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：JP2009205362

申请日：2009-09-04

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TANGO NAOHIRO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FUJITA MITSUHIRO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  KATAOKA SHOHEI

IPC: G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/42 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/22

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect in the improvement of tapered profile of a resist pattern and enabling formation of a pattern with good LER performance, and a pattern forming method using the composition. SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin capable of increasing a solubility of the resin in an alkali developer by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein the compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is contained in an amount of 10 to 30 mass% based on the entire solid content of the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition. The pattern forming method uses the composition. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有改善抗蚀剂图案的锥形轮廓并且能够形成具有良好LER性能的图案的效果的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，以及图案形成方法 使用组合。 光敏性或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加树脂在碱性显影剂中的溶解度的树脂; 和（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，其中当以光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物的含量为10-30质量％ 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物的全部固体含量。 图案形成方法使用该组合物。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010197615A

公开(公告)日：2010-09-09

申请号：JP2009041352

申请日：2009-02-24

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： SHIBUYA AKINORI ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  YOSHIDA YUKO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active light sensitive or a radiation sensitive resin composition which provides a fine pattern superior in exposure latitude and a pattern form, and to provide a pattern forming method using the same.
SOLUTION: The active light sensitive or the radiation sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit including structure represented by general formula (1) and a repeating unit including structure represented by general formula (I) and increases solubility in an alkali developing solution by the action of an acid, and (B) a compound that produces an acid by active light or radiation irradiation. Wherein, codes in formulas (1) and (I) represent differential meanings.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 解决的问题：提供一种提供曝光宽容度和图案形式优异的精细图案的活性光敏感或辐射敏感性树脂组合物，并提供使用其的图案形成方法。 解决方案：活性光敏性或辐射敏感性树脂组合物含有（A）具有包含通式（1）表示的结构的重复单元的树脂和包括由通式（I）表示的结构的重复单元并增加 通过酸的作用在碱性显影液中的溶解度，（B）通过活性光或辐射照射产生酸的化合物。 其中，式（1）和（I）中的代码表示差异含义。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2015179256A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2015023657

申请日：2015-02-09

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： FURUYA SO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  GOTO AKIYOSHI ,  KOJIMA MASASHI

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 【課題】現像時間のパターン形成性に対する影響が抑制され、かつ、現像液を所定期間保管した後でも保管前と同様のパターン形成性を示すパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する樹脂を少なくとも含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を形成する工程(1)と、膜を露光する工程(2)と、露光された膜を実質的に溶解させずに、露光された膜中に生じる極性基とイオン結合、水素結合、化学結合および双極子相互作用のうちのいずれかの相互作用をする成分と、露光された膜とを接触させる工程(3)と、露光された膜を有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、膜中の露光量の少ない領域を除去して、パターンを形成する工程(4)と、をこの順で有する、パターン形成方法。【選択図】なし

公开(公告)号：JP2014219487A

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：JP2013097185

申请日：2013-05-02

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

Inventor： KOJIMA MASASHI ,  GOTO AKIYOSHI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FURUYA SO ,  SHIBUYA AKINORI

IPC: G03F7/32 ,  C08F20/18 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/2053

Abstract: 【課題】本発明は、微細かつ高アスペクト比のパターンを形成した際にもパターンの倒れが抑制されたパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を形成する工程と、膜を露光する工程と、露光された膜を、有機溶剤を含む現像液で現像して、ネガ型パターンを形成する工程とを備え、現像液が、オニウム塩、オニウム塩を有するポリマー、窒素原子を3つ以上含む含窒素化合物、塩基性ポリマー、及び、リン系化合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物Aを含む、パターン形成方法。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，即使在形成细长和高纵横比图案时也能抑制图案的塌陷。解决方案：图案形成方法包括：在基板上形成膜的步骤，使用 至少含有树脂的主动射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其极性由于酸的作用而增加，并且其对包含有机溶剂的显影剂的溶解性降低;以及当用活性射线或辐射照射时产生酸的化合物 ; 揭露电影的一个步骤; 以及通过使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光膜来形成负型图案的步骤。 显影剂包括至少一种选自由鎓盐，含有鎓盐的聚合物，含有三个以上氮原子的含氮化合物组成的组中的化合物A，碱性聚合物和磷化合物。

公开(公告)号：JP2013097003A

公开(公告)日：2013-05-20

申请号：JP2011236456

申请日：2011-10-27

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： KATO KEITA ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  OTANI TADAHIRO ,  NAKAMURA ATSUSHI ,  TAKAHASHI HIDETOMO ,  IWATO KAORU

IPC: G03F7/095 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/094 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a pattern for reducing a residue on a substrate and obtaining a favorable cross-sectional shape.SOLUTION: The method for forming a pattern includes steps of: (a) forming an antireflection film on a substrate by using a first resin composition (I); (b) forming a resist film on the antireflection film by using a second resin composition (II); (c) exposing a laminate film to light; and (d) forming a negative pattern by developing the exposed laminate film by using a developing solution containing an organic solvent. The first resin composition (I) contains a first resin having polarity that is increased by the action of acid to decrease solubility with the developing solution containing an organic solvent. The second resin composition (II) contains a second resin having polarity that is increased by the action of acid to decrease solubility with the developing solution containing an organic solvent. At least one of (I) and (II) contains a compound that generates acid by irradiation with actinic rays or radiation.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于形成用于减少基板上残留物的图案的方法，并获得良好的横截面形状。 解决方案：形成图案的方法包括以下步骤：（a）通过使用第一树脂组合物（I）在基材上形成抗反射膜; （b）通过使用第二树脂组合物（II）在抗反射膜上形成抗蚀剂膜; （c）将层压薄膜曝光; 和（d）通过使用含有有机溶剂的显影液显影曝光的层压膜形成负图案。 第一树脂组合物（I）含有具有通过酸作用而增加的极性的第一树脂，以降低与含有机溶剂的显影液的溶解度。 第二树脂组合物（II）含有具有通过酸作用而增加的极性的第二树脂，以降低与含有机溶剂的显影液的溶解度。 （I）和（II）中的至少一种含有通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013097002A

公开(公告)日：2013-05-20

申请号：JP2011236455

申请日：2011-10-27

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  KATO KEITA ,  OTANI TADAHIRO ,  NAKAMURA ATSUSHI ,  TAKAHASHI HIDETOMO ,  IWATO KAORU

IPC: G03F7/095 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/095 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0271

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a pattern for preventing pattern collapse in a process of forming a negative pattern by organic solvent development, and to provide a laminate resist pattern formed by the method, a laminate film for organic solvent development suitably used for the pattern forming method, a resist composition suitably used for the pattern forming method, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: The method for forming a pattern includes steps of: (a) forming a first film on a substrate by using a first resin composition (I) containing a resin, in which the content of a repeating unit having a group that is decomposed by the action of acid to produce a polar group is 20 mol% or less with respect to the whole repeating units of the resin; (b) forming a second film on the first film by using a second resin composition (II), which is different from the first resin composition (I) and which contains a resin having a group that is decomposed by the action of acid to produce a polar group, and a compound that generates acid by irradiation with actinic rays or radiation; (c) exposing the laminate film having the first film and the second film to light; and (d) forming a negative pattern by developing the first film and the second film in the exposed laminate film by using a developing solution containing an organic solvent.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过有机溶剂显影在形成负型图案的过程中形成用于防止图案塌陷的图案的方法，并且提供通过该方法形成的层压抗蚀剂图案，用于有机的层压膜 适合用于图案形成方法的溶剂显影，适用于图案形成方法的抗蚀剂组合物，电子器件的制造方法和电子器件。 解决方案：形成图案的方法包括以下步骤：（a）通过使用含有树脂的第一树脂组合物（I）在基材上形成第一膜，其中具有以下基团的重复单元的含量： 相对于树脂的整个重复单元，通过酸的作用分解以产生极性基团为20摩尔％以下; （b）通过使用与第一树脂组合物（I）不同的第二树脂组合物（II）在第一膜上形成第二膜，并且含有具有通过酸作用分解的基团的树脂以产生 极性基团和通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物; （c）使具有第一膜和第二膜的层压膜曝光; 和（d）通过使用含有有机溶剂的显影液在显影的层叠膜中显影第一膜和第二膜来形成负图案。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013068775A

公开(公告)日：2013-04-18

申请号：JP2011207015

申请日：2011-09-22

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： YOSHINO FUMIHIRO ,  TAKAHASHI HIDETOMO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  KATAOKA SHOHEI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  SAITO SHOICHI

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition having an ultrafine pore diameter (for instance, 60 nm or smaller), and capable of forming a hole pattern excellent in circularity with excellent dependence on development time, and to provide a resist film, a pattern forming method, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device using the same.SOLUTION: There is provided an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition including: (P) a resin having a repeating unit (a) represented by the following general formula (I); and (B) a compound that generates an organic acid by irradiation with an actinic ray or radiation. A content of the compound (B) is 8.0 mass% or more based on the total solid content of the actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition. A resist film, a pattern forming method, a method for manufacturing an electronic device and an electronic device using the same are also provided. In the general formula (I), Rrepresents a hydrogen atom or a methyl group.

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有超细孔径（例如，60nm以下）的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，能够形成圆形性优异的孔图案，并且对显影时间具有优异的依赖性 ，并提供抗蚀剂膜，图案形成方法，电子器件的制造方法和使用该抗蚀剂膜的电子器件。 提供一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（P）具有由以下通式（I）表示的重复单元（a）的树脂; 和（B）通过用光化射线或辐射照射产生有机酸的化合物。 化合物（B）的含量相对于光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物的总固体成分为8.0质量％以上。 还提供了抗蚀剂膜，图案形成方法，电子器件的制造方法和使用其的电子器件。 在通式（I）中，R 0 表示氢原子或甲基。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012181289A

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：JP2011043398

申请日：2011-02-28

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： KATAOKA SHOHEI ,  TAKAHASHI HIDETOMO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  SAITO SHOICHI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  YOSHINO FUMIHIRO

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.SOLUTION: A negative pattern formation method comprises: (A) a step of forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including a resin containing repeating units consisting of 65 mol% or more repeating units including a group that is decomposed by the action of acid to generate a polar group, with respect to the repeating units in the resin as a whole, and expressed by a following general formula (I); (B) a step of exposing the film; and (C) a step of developing an image using a developing solution including an organic solvent to form a negative pattern.

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供允许优异的粗糙度性能如线宽粗糙度，曝光宽容度和耐干蚀刻性的负型图案形成方法，以及光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜 用于相同。 解决方案：负图案形成方法包括：（A）使用光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤，所述树脂组合物包含含有由65重量％以上的重复单元构成的重复单元的树脂，所述重复单元包括 相对于树脂中的重复单元整体由酸的作用分解以产生极性基团的基团，并由下列通式（I）表示; （B）曝光胶片的步骤; 和（C）使用包含有机溶剂的显影溶液显影图像以形成负图案的步骤。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012181287A

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：JP2011043393

申请日：2011-02-28

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： KATAOKA SHOHEI ,  TAKAHASHI HIDETOMO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  SAITO SHOICHI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  YOSHINO FUMIHIRO

IPC: G03F7/32 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.SOLUTION: A pattern formation method comprises: (A) a step of forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including a resin containing repeating units consisting of 65 mol% or more repeating units including a group that is decomposed by the action of acid to generate a polar group, with respect to the repeating units in the resin as a whole, and expressed by a following general formula (I) or (II); (B) a step of exposing the film; and (C) a step of developing an image using a developing solution including an organic solvent.

Abstract translation: 要解决的问题：提供允许优异的粗糙度性能如线宽粗糙度和曝光宽容度的图案形成方法以及用于其的光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜。 解决方案：图案形成方法包括：（A）使用光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤，所述树脂组合物包含含有由65重量％以上的重复单元构成的树脂，所述重复单元包括基团 相对于树脂中的重复单元，通过酸的作用分解产生极性基团，并由以下通式（I）或（II）表示： （B）曝光胶片的步骤; 和（C）使用包含有机溶剂的显影溶液显影图像的步骤。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT