公开(公告)号：WO2018119157A1

公开(公告)日：2018-06-28

申请号：PCT/US2017/067746

申请日：2017-12-20

Applicant: ARIZONA BOARD OF REGENTS ON BEHALF OF ARIZONA STATE UNIVERSITY

Inventor： DAI, Lenore ,  CHATTOPADHYAY, Aditi ,  NOFEN, Elizabeth ,  ZOU, Jin ,  KOO, Bonsung

IPC: C08F236/10 ,  C08F8/42 ,  C08F2/38 ,  C08F2/44 ,  C08K5/09 ,  C08F4/48

CPC classification number: G01L1/241 ,  C08F2/38 ,  C08F2/44 ,  C08G59/00 ,  C08G59/1477 ,  C08G59/5006 ,  C08K5/09 ,  C08K5/20 ,  C08L63/00

Abstract: Compositions including a thermosetting polymer network and a mechanophore covalently bonded to the thermosetting polymer network are provided. Substrates including the compositions are provided. In addition, methods of making the compositions and methods of monitoring stress on a substrate comprising the compositions are provided.

公开(公告)号：WO2017034773A1

公开(公告)日：2017-03-02

申请号：PCT/US2016/045463

申请日：2016-08-04

Applicant: AEROJET ROCKETDYNE, INC.

Inventor： KRUESI, August Hugo

IPC: G01N3/00 ,  G01M5/00 ,  G01N33/22 ,  G01N3/08 ,  G01B11/16 ,  G01N33/00

CPC classification number: G01B11/16 ,  G01B11/165 ,  G01L1/241 ,  G01M5/00 ,  G01N3/00 ,  G01N3/02 ,  G01N33/222 ,  G01N2033/0078 ,  G01N2203/0003 ,  G01N2203/0647 ,  G01N2203/0652 ,  G01N2203/0682

Abstract: A process for non-destructive testing includes applying a photo-curable dye to a surface of an article, selectively curing an array of dots of the photo-curable dye on the surface, removing the photo-curable dye that has not been selectively cured, mechanically testing the article, and direct strain imaging the article during the mechanical testing based on the array of dots.

Abstract translation: 一种非破坏性测试方法包括将光固化染料施用于制品的表面，选择性地固化表面上可光固化染料的点阵列，除去未被选择性固化的光固化染料， 机械测试物品，并在基于点阵列的机械测试期间对物品进行直接应变成像。

公开(公告)号：WO2015116153A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/US2014/014101

申请日：2014-01-31

Applicant: HALLIBURTON ENERGY SERVICES, INC.

Inventor： JAMISON, Dale E. ,  MCDANIEL, Cato Russell

IPC: G01B11/16

CPC classification number: G01B11/16 ,  G01L1/241 ,  G01L1/25

Abstract: Mechanical quantities associated with a deformation force impacting a structure may be determined using one or more integrated computational elements. Methods for determining a mechanical quantity may comprise: optically interacting electromagnetic radiation with one or more integrated computational elements and a target area of a structure, the structure comprising a deformable material in an initial amount and a reference material in an initial amount within the target area; exposing the structure to a deformation force; determining a change in amount of the deformable material or the reference material within the target area, using the one or more integrated computational elements; and correlating the change in amount of the deformable material or the reference material within the target area to a mechanical quantity associated with the deformation force.

Abstract translation: 与影响结构的变形力相关联的机械量可以使用一个或多个集成的计算元件来确定。 用于确定机械量的方法可以包括：将电磁辐射与一个或多个集成的计算元件和结构的目标区域光学相互作用，所述结构包括初始量的可变形材料和在目标区域内初始量的参考材料 ; 将结构暴露于变形力; 使用所述一个或多个集成的计算元件确定所述目标区域内的可变形材料或参考材料的量的变化; 并将目标区域内的可变形材料或参考材料的量的变化与与变形力相关联的机械量相关联。

公开(公告)号：WO2013160105A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：PCT/EP2013/057469

申请日：2013-04-10

Applicant: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE

Inventor： SCHULZ, Valentin ,  HERMANNS, Lutz ,  PAPE, Lars ,  KREMERS, Stephan

IPC: G01N21/896 ,  G01N21/958 ,  G01L1/24

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01L1/241 ,  G01N21/896 ,  G01N21/958 ,  G01N33/386 ,  G01N2021/8848

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Messung von Blasstrukturen einer vorgespannten Scheibe (1), wobei zumindest (a) mindestens ein Analysebereich (4) der Scheibe (1) mit linear polarisiertem Licht (5) einer Strahlungsquelle (2) unter einem Einfallswinkel (θ E ) bestrahlt wird und mit mindestens einem Detektor (3) ein Bild (6) zumindest des Analysebereichs (4) unter einem Beobachtungswinkel (θ A ) aufgenommen wird, (b) das Bild (6) einer Auswertungseinheit (7) zugeführt wird, und (c) mittels der Auswertungseinheit (7) (c1) ein Helligkeitsverlauf (8) entlang einer Analyselinie (9) auf dem Bild (6) ausgelesen wird, (c2) die lokalen Maxima (15) und die lokalen Minima (16) des Helligkeitsverlaufs (8) bestimmt werden und (c3) ein Intensitätsindex (I BS ) durch die Differenz zwischen einem Helligkeitsmittelwert (M max ) der lokalen Maxima und einem Helligkeitsmittelwert (M min ) der lokalen Minima bestimmt wird.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于测量Blasstrukturen预应力窗格（1）的方法，其中，至少（a）至少一个分析区域（4）的圆盘（1）用直线偏振光（5）的辐射源（2）以一个入射角（thetaE ）照射和（具有至少一个检测器3）的图像（6）接收到至少所述分析区域（4）的观察角（thetaA），（b）该图像（6）的评价单元（7）被提供，和（c ）（由评估单元7）（C1）的装置亮度曲线（8）沿一分析管线（9）中的图像（6）上被读出，（c2）的局部极大值（15）和亮度曲线的局部最小值（16）（8 确定）和（C3），强度指数IBS）（由局部最大值的亮度平均值M最大）和局部最小值的亮度平均值（M分钟）之间的差被确定（。

公开(公告)号：WO2011130239A3

公开(公告)日：2012-04-05

申请号：PCT/US2011032074

申请日：2011-04-12

Applicant: BAKER HUGHES INC ,  CSUTAK SEBASTIAN

Inventor： CSUTAK SEBASTIAN

IPC: G01V3/26 ,  G01N27/72 ,  G01R29/08

CPC classification number: G01J4/00 ,  G01D5/268 ,  G01D5/344 ,  G01D5/345 ,  G01J9/00 ,  G01L1/241 ,  G01N21/23 ,  G01P15/093 ,  G01V11/00

Abstract: A apparatus for use in a borehole in an earth formation. The apparatus may include: an electromagnetic source; an anisotropic permittivity material, either natural or manufactured, receiving electromagnetic radiation from the electromagnetic source; and a detector for estimating the electromagnetic radiation transmitted through the anisotropic permittivity material as an indication of a parameter of interest. Also, a method of estimating a parameter of interest using the aforementioned apparatus.

Abstract translation: 一种用于地层钻孔的装置。 该装置可以包括：电磁源; 自然或制造的各向异性介电常数材料接收来自电磁源的电磁辐射; 以及用于估计通过各向异性介电常数材料传输的电磁辐射作为感兴趣参数的指示的检测器。 此外，使用上述装置估计感兴趣的参数的方法。

公开(公告)号：WO2011152441A1

公开(公告)日：2011-12-08

申请号：PCT/JP2011/062565

申请日：2011-06-01

Applicant: 国立大学法人 熊本大学 ,  シグマ光機株式会社 ,  高島 和希 ,  大津 雅亮 ,  松田 光弘 ,  倉原 宏明 ,  前田 英孝 ,  米倉 忠弘

Inventor： 高島　和希 ,  大津　雅亮 ,  松田　光弘 ,  倉原　宏明 ,  前田　英孝 ,  米倉　忠弘

IPC: G01N3/08 ,  G01N3/00

CPC classification number: G01L1/241 ,  G01B11/162 ,  G01N3/068 ,  G01N3/08 ,  G01N2203/0286 ,  G01N2203/0647

Abstract: 　微小材料に対して非接触でありながら引張応力または圧縮応力に対するひずみを正確に計測可能となる。計測部１５０に、計測対象領域１０８からの測定光と参照鏡１６６Ｄからの参照光とによって形成される干渉光を検出するＣＣＤカメラ１７０と、参照鏡１６６Ｄを備える第１対物レンズ１６６と、干渉光のコントラストが最大となる第１対物レンズ１６６の位置から計測対象領域１０８の３次元形状を測定するとともに、３次元形状に基づく２つの標点間の距離を計測する画像処理装置と、を備え、且つ、ひずみ発生部１３０に、引張応力を計測するロードセル１４６と、ひずみを発生させる微動Ｘステージ１４０と、を備え、ひずみを微小材料１０２に発生させた際には、計測された引張応力と、ひずみで変化した２つの標点間の距離とに基づいて、引張応力に対するひずみが計測される。

Abstract translation: 公开了一种用于测量微材料中的应变的装置，其使得当材料经受拉伸应力或压缩应力时能够以非接触方式精确测量微材料的应变。 该装置具有测量部分（150）和应变发生部分（130）。 测量部分（150）包括用于感测来自测量区域（108）的测量光束和来自参考反射镜（166D）的参考光束形成的干涉光束的CCD照相机（170）。 包括所述参考镜（166D）的第一物镜（166）; 以及图像处理器，用于从所述第一物镜（166）的位置测量所述测量区域（108）的三维形状，在所述位置处所述干涉光束具有最大对比度并且测量所述第一物镜上的两个参考点之间的距离 立体形状的基础。 应变发生部（130）包括用于测量拉伸应力的测力传感器（146）和用于产生应变的微动X级（140），其中当在微材料（102）上产生应变时，确定拉伸应变 基于测量的拉伸应力和由于应变而改变的两个参考点之间的距离的应力。

公开(公告)号：WO2008069272A1

公开(公告)日：2008-06-12

申请号：PCT/JP2007/073592

申请日：2007-12-06

Applicant: 学校法人慶應義塾 ,  東レエンジニアリング株式会社 ,  三井 隆久 ,  工藤 重樹 ,  鈴木 一嘉 ,  松村 淳一 ,  木谷 吉孝

Inventor： 三井 隆久 ,  工藤 重樹 ,  鈴木 一嘉 ,  松村 淳一 ,  木谷 吉孝

IPC: G01L1/24

CPC classification number: G01L1/241

Abstract: 　測定対象物Ｗに向けて照射されて反射して戻る反射光をＢＤＰ１２に透過させ、ガラス基板Ｗ１，Ｗ２に作用している応力によって偏光状態が複屈折により変化した第２偏光Ｂと初期の光路に戻る第１偏光Ａに分離する。この第２偏光Ｂを、さらにピンホール１５に通過させて、所定の焦点面から反射して戻る第２偏光Ｂのみを第２フォトダイオード９ｂで受光する。さらに光学系ユニット５を光軸回りに回転させ、所定の回転角ごと同じ処理を行こない、取得した第２偏光の一群の光強度値から所定のガラス基板に作用している主応力の差とその方向を演算処理部２４が求める。

Abstract translation: 向测量对象（W）发射并向其反射的反射光通过BDP（12）透射，从而被分离成由于双折射而具有偏振态改变的第二偏振光（B） 通过作用在玻璃基板（W1和W2）上的应力和第一偏振光（A）返回到初始光路。 第二偏振光（B）被引导以通过针孔（15），使得只有从预定焦平面反射的第二偏振光（B）被第二光电二极管（9b）接收。 此外，光学系统单元（5）在光轴上旋转，并且以每个预定旋转角度进行相同的操作，使得操作处理单元（24）确定作用在预定的角度上的主应力的差异和方向 玻璃基板，从获得的第二偏振光的一组光强度值。

公开(公告)号：WO2007105539A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：PCT/JP2007/054310

申请日：2007-03-06

Applicant: 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  徐 超男 ,  寺崎 正 ,  今井 祐介 ,  山田 浩志

Inventor： 徐 超男 ,  寺崎 正 ,  今井 祐介 ,  山田 浩志

IPC: G01L1/24

CPC classification number: G01L1/241

Abstract: 　機械的な外力に応じて発光する応力発光材料を含む発光手段と、該発光手段からの発光によって生じた光反応の履歴を記録する記録手段とを備えている、応力履歴を記録するための応力履歴記録システムを提供する。これにより、応力発光材料を用いた、応力履歴を記録する技術を実現する。

Abstract translation: 用于记录应力历史的应力历史记录系统设置有发光装置，该发光装置包括发射对应于机械外力的光的应力发光材料，以及用于记录由于发光而产生的光学反应历史的记录装置 从发光装置。 因此，提供了通过使用应力发光材料记录应力历史的技术。

公开(公告)号：WO99006841A1

公开(公告)日：1999-02-11

申请号：PCT/US1998/013742

申请日：1998-07-02

IPC: G01L1/24 ,  G01P3/36

CPC classification number: G01L1/241

Abstract: A method and optical system is disclosed for measuring an amount of stress in a film layer disposed over a substrate. The method includes steps of: (A) applying a sequence of optical pump pulses (P1) to the film layer, individual ones of said optical pump pulses inducing a propagating strain pulse in the film layer, and for each of the optical pump pulses (P1), applying at least one optical probe pulse (P2), the optical probe pulses (P2) being applied with different time delays after the application of the corresponding optical probe pulses (P2); (B) detecting variations in an intensity of a reflection of portions of the optical probe pulses (P2), the variations being due at least in part to the propagation of the strain pulse in the film layer; (C) determining, from the detected intensity variations, a sound velocity in the film layer; and (D) calculating, using the determined sound velocity, the amount of stress in the film layer. In one embodiment of this invention the step of detecting measures a period of an oscillation in the intensity of the reflection of portions of the optical probe pulses (P2), while in another embodiment the step of detecting measures a change in intensity of the reflection of portions of the optical probe pulses (P2) and determines a time at which the propagating strain pulse (S1) reflects from a boundary of the film layer.

Abstract translation: 公开了一种用于测量在衬底上设置的膜层中的应力量的方法和光学系统。 该方法包括以下步骤：（A）将光泵浦脉冲序列（P1）施加到膜层，各个所述光泵浦脉冲中的各个脉冲在膜层中引起传播的应变脉冲，并且对于每个光泵浦脉冲（ P1），施加至少一个光探针脉冲（P2），在施加相应的光探测脉冲（P2）之后，施加不同时间延迟的光探针脉冲（P2）; （B）检测光探针脉冲（P2）的部分的反射强度的变化，所述变化至少部分地由于膜层中的应变脉冲的传播而引起; （C）根据检测到的强度变化确定膜层中的声速; 和（D）使用确定的声速计算膜层中的应力量。 在本发明的一个实施例中，检测测量光探针脉冲（P2）的部分的反射强度的振荡周期的步骤，而在另一个实施例中，检测步骤测量反射强度的变化 光探针脉冲（P2）的一部分并且确定传播的应变脉冲（S1）从膜层的边界反射的时间。

公开(公告)号：WO1997014942A1

公开(公告)日：1997-04-24

申请号：PCT/US1996016749

申请日：1996-10-18

Applicant: ALLIEDSIGNAL INC.

Inventor： ALLIEDSIGNAL INC. ,  GUALTIERI, Devlin, M. ,  HOU, Janpu ,  RAPOPORT, William, R. ,  VAN DE VAART, Herman

IPC: G01L01/24

CPC classification number: G01L1/241

Abstract: A birefringent bias is provided to an optical sensor by the addition of one or more single birefringent elements where the total birefringence-length product remains within the accepted tolerances of current devices. The bias provided by two or more elements is such that where each element has a birefringence, a dB/dT and a coefficient of thermal expansion term, the elements are arranged in tamdem so that the combined birefringence terms equal the required birefringence bias and the dB/dT and coefficient of thermal expansion terms effectively cancel.

Abstract translation: 通过添加一个或多个单双折射元件向光学传感器提供双折射偏置，其中总双折射长度乘积保持在当前器件的公认误差范围内。 由两个或更多个元件提供的偏压使得当每个元件具有双折射，dB / dT和热膨胀项的系数时，元件被布置在tamdem中，使得组合双折射项等于所需的双折射偏差和dB / dT和热膨胀系数有效地消除。