天线和窗玻璃
    61.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110073547A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201880004992.1

    申请日:2018-02-27

    Abstract: 本发明提供设于车辆的窗玻璃的天线,其具有芯线侧供电部、接地侧供电部、从所述芯线侧供电部延伸的第1元件以及以与所述第1元件成大致90度的角度从所述芯线侧供电部延伸的第2元件,在将接收频率的波长设为λ、将玻璃的波长缩短率设为α、将元件的偏移长度设为δ的情况下,所述第1元件设为3αλ/4+δ的长度,所述第2元件设为αλ/4-δ的长度,或者所述第1元件设为3αλ/4-δ的长度,所述第2元件设为αλ/4+δ的长度。

    干式蚀刻剂组合物及干式蚀刻方法

    公开(公告)号:CN110036460A

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201780073050.4

    申请日:2017-10-23

    Abstract: 本发明公开一种干式蚀刻剂组合物、及使用其的发明,该干式蚀刻剂组合物含有1,3,3,3-四氟丙烯、与CHxClyFz(x、y、z为1以上的整数,且x+y+z=4)所表示的氢氯氟烃,且相对于1,3,3,3-四氟丙烯的上述氢氯氟烃的浓度为3体积ppm以上且不足10000体积ppm。本发明的目的在于:于半导体制造工艺中,在无损HFO-1234ze的良好的蚀刻特性的情况下提高HFO-1234ze的保存稳定性,抑制酸性物质的产生,而防止保存容器或配管、蚀刻腔室的腐蚀。

    日照遮蔽构件
    64.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109716180A

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201780056455.7

    申请日:2017-07-24

    Abstract: 得到一种日照遮蔽构件,其不会损害日照透过率、具有良好的可见光线透过率、从正面观察时及从斜向观察时不会呈现红色感。一种日照遮蔽构件,在透明基材上层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜及第4电介质膜,该第1电介质膜由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成,该第1电介质膜整体的折射率在1.8~2.0的范围内,该第2电介质膜的光学膜厚为165~201nm,该第3电介质膜的光学膜厚为147~182nm,该第4电介质膜的光学膜厚为75~120nm,该第1金属膜、第2金属膜及第3金属膜的几何学膜厚合计为30~40nm,该第2金属膜的几何学膜厚相对于该第1金属膜及该第3金属膜各自的几何学膜厚在1.01~1.55的范围内。

    二氟磷酸锂的制造方法
    68.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108147385A

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201711248792.4

    申请日:2017-12-01

    Abstract: 本发明涉及二氟磷酸锂的制造方法。目的在于提供:减少杂质的混入、且工业上制造对提高非水电解液电池的性能有效的添加剂即二氟磷酸锂的方法。使用二氟磷酸锂的制造方法,其特征在于,所述制造方法具备:反应工序,使LiPF6与水与以下通式(1)所示卤化物在非水溶剂中反应;添加工序,在反应工序后的溶液中添加氟化氢;和,脱气工序,对添加工序后的溶液进行脱气处理。RpSiXq(1)(通式(1)中,R分别独立地为碳数1~10的任选具有杂原子、卤素原子的烃基(碳数为3以上时,也能使用支链或环状结构的烃基)。X分别独立地为选自由Cl、Br和I组成的组中的任意1种。p表示1~3的整数、q表示1~3的整数,p+q=4)。

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