합성젤 없는 조건에서 스팀을 이용하여 한 축 방향이 모두 수직으로 정렬된 제올라이트 필름 생성법
    61.
    发明申请
    합성젤 없는 조건에서 스팀을 이용하여 한 축 방향이 모두 수직으로 정렬된 제올라이트 필름 생성법 审中-公开
    一个轴上完全垂直方向的沸石膜的生产方法,在合成无凝胶条件下使用蒸汽

    公开(公告)号:WO2013100734A1

    公开(公告)日:2013-07-04

    申请号:PCT/KR2012/011807

    申请日:2012-12-28

    Abstract: 실리콘을 공급할 수 있는 다공성 기재를 제공하는 제1단계; 상기 다공성 기재 표면 상에 제올라이트 종자 결정들(seed crystals)을 적용하는 제2단계; 종자 결정들이 적용된 다공성 기재를 구조 유도제(Structure directing agent) 함유 수용액으로 코팅하는 제3단계; 및 제3단계에서 준비된 종자 결정들이 적용된 다공성 기재 내 수분이 증기(steam)를 형성할 수 있는 온도 이상에서 2차 성장법을 이용하여 상기 종자 결정들로부터 막을 형성 및 성장시키는 제4단계를 포함하여, 박막 또는 후막을 제조하는 방법; 및 상기 방법에 의해 제조된 막을 제공한다. 본 발명에 따른 막 제조 방법은 간단한 제조공정으로 이루어져 있어서, 높은 재현성을 가지며 높은 생산성(throughput)을 갖는다. 합성 젤을 사용하지 않고 용액을 사용함으로써 불필요한 원료들 소모를 줄일 수 있고 환경오염을 줄이고 합성젤이 낭비되지 아니하며, 막을 건조 및 세척할 필요가 없다.

    Abstract translation: 提供一种制备薄膜或厚膜的方法,包括:提供能够供应硅的多孔基材的第一步骤; 将沸石晶种施加到多孔基材的表面上的第二步骤; 第三步,用含有结构导向剂的水溶液涂覆施加了晶种的多孔基材; 以及在第三步骤中制备的晶种施加的多孔基材内的水分可以形成蒸汽的温度以上的二次生长方法从晶种形成和生长膜的第四步骤,以及通过该方法制备的膜。 根据本发明,膜的制备方法包括简单的制造工艺,因此具有高再现性和高生产率。 由于不使用合成凝胶并且使用溶液,可以减少不必要的材料消耗,降低环境污染,不会浪费合成凝胶,并且不需要干燥和洗涤膜。

    18F-표지 PET 방사성의약품의 전구체 및 그 제조방법
    64.
    发明申请
    18F-표지 PET 방사성의약품의 전구체 및 그 제조방법 审中-公开
    标志着先锋18-F,用于发射断层扫描医学用途层析成像法制备放射性物质

    公开(公告)号:WO2012157900A2

    公开(公告)日:2012-11-22

    申请号:PCT/KR2012/003713

    申请日:2012-05-11

    Abstract: 본 발명은 양전자방출 단층촬영술(PET)용 방사성의약품의 전구체, 그 제조방법과 응용에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 4가 유기염의 이탈기를 갖는 전구체, 그 제조방법 및 이를 이용하여 단일 단계로 18 F를 도입함으로써 짧은 제조시간 내에 원하는 PET 방사성의약품을 높은 방사화학적 수율로 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 4가 유기염 이탈기를 포함하는 전구체는 기존의 다단계의 복잡한 방사성의약품 제조를 단일 단계로 단순화시킬 수 있으며, 과량의 상전이 촉매가 필요 없어 생산 비용을 절감할 수 있고, 반응 후 화합물 분리가 용이하고, 반응속도가 빠른 장점이 있다. 이러한 특징은 자동화 합성 시스템에 의한 PET 방사성의약품 대량생산에 적합하다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于在正电子发射断层摄影术,及其制备方法和相关联的应用使用的医疗用放射性物质的前体。 本发明涉及,更精确地说,其具有用于其制备的有机盐四价过程的离去基团和用于在正电子发射断层摄影术中使用寻求医疗使用放射性物质的制备方法的前体,所述具有良好方法 放射化学产率,揭示快速且其中引入18F的在一个步骤中完成。 具有根据本发明可以简化制备的已经公知的方法,这证明复杂和几个阶段,用于医疗用途的放射性物质可由此获得的有机四价盐的离去基团前体中的 一个单一的步骤之后,它也可以节省生产成本,因为,在本发明的上下文中,这是没有必要使用相转移催化剂的用量过多 反应后的化合物的分离更容易,反应本身快速转动。 这些特性是适合于大规模生产的放射性物质用于使用自动化合成系统在正电子正电子发射使用的医疗用途。

    합성영상을 생성하는 방법 및 이를 이용한 초음파 영상 장치
    67.
    发明申请
    합성영상을 생성하는 방법 및 이를 이용한 초음파 영상 장치 审中-公开
    合成图像和超声波成像装置的生成方法

    公开(公告)号:WO2012091280A1

    公开(公告)日:2012-07-05

    申请号:PCT/KR2011/008440

    申请日:2011-11-08

    Abstract: 본 발명은 합성영상을 생성하는 방법에 관한 것으로서, 수신 동적 빔집속 방법에 의해 영상 데이터를 생성하고, 합성구경 빔집속 방법에 의해 영상 데이터를 생성한 후, 수신 동적 빔집속 방법에 의해 생성한 영상 데이터와 합성구경 빔집속 방법에 의해 생성한 영상 데이터 각각에 초음파가 진행한 거리에 따른 가중치를 적용하여 합성하는 것을 특징으로 하며, 소정 깊이 이하의 초음파 영상 또는 가상 송신 음원 근방의 초음파 영상에는 수신 동적 빔집속 방법에 의해 영상 데이터를 주로 사용하고, 그 밖의 깊이의 초음파 영상에는 합성구경 빔집속 방법에 의해 얻어지는 영상 데이터를 주로 사용하는 영역 조합 방법을 이용하여 그레이팅 로브 및 영상 밝기의 왜곡을 없앨 수 있으며, 영상의 불균일성을 보상하고, 가상 송신 음원 근방에서도 균일한 에너지 분포를 가지도록 할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种生成合成图像的方法,包括以下步骤:通过接收动态波束成形方法生成图像数据; 通过合成孔径波束成形方法生成图像数据; 以及通过对通过接收动态波束成形方法生成的图像数据和通过合成孔径波束成形方法生成的图像数据应用加权值来合成通过接收动态波束成形方法生成的图像数据和通过合成孔径波束成形方法生成的图像数据 根据超声波的行驶距离。 用于生成合成图像的方法可以消除由光栅引起的失真和图像亮度,可以补偿图像的不均匀性,并且可以通过使用区域混合方法获得虚拟传输声源附近的均匀的能量分布 主要使用通过接收动态波束形成方法获得的图像数据在小于或等于预定深度的超声图像或虚拟传输声源附近的超声波图像中,并且主要使用通过合成孔径波束成形方法获得的图像数据在超声波 图像的附加深度。

    입자 및 그 제조방법
    68.
    发明申请
    입자 및 그 제조방법 审中-公开
    用于制造其的颗粒和方法

    公开(公告)号:WO2011099760A2

    公开(公告)日:2011-08-18

    申请号:PCT/KR2011/000848

    申请日:2011-02-09

    Abstract: 본원은 제 1 기재 상의 수용홈에 보조체를 삽입시켜, 상기 보조체의 제 1 표면은 상기 수용홈에 수용되고 상기 보조체의 제 2 표면은 외부로 노출시키는 단계; 상기 제 2 표면에 제 1 코팅층을 형성하는 단계; 상기 제 1 코팅층이 형성된 보조체와 제 2 기재를 부착하는 단계; 상기 제 2 기재에 부착된 상기 제 1 코팅층이 형성된 보조체를 상기 제 1 기재로부터 분리하여, 상기 제 1 코팅층이 형성된 보조체의 제 1 표면을 외부로 노출시키는 단계; 상기 제 1 표면 상에 제 2 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 코팅층과 상기 제 2 코팅층이 형성된 보조체를 상기 제 2 기재로부터 분리하는 단계: 를 포함하는, 입자의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 입자를 제공한다.

    Abstract translation: 本申请涉及一种制造颗粒的方法及其制造的颗粒,其制造方法包括以下步骤:将辅助体插入第一基板上的容纳槽中,该第一基板允许辅助体的第一表面被 所述接收槽和所述辅助体的第二表面暴露于外部; 在所述第二表面上形成第一涂层; 将第二基板附接到设置有所述第一涂层的所述辅助主体; 将第一基板与设置有第一涂层的辅助主体分离并附接到第二基板,并且向设置有第一涂层的辅助主体的第一表面暴露于外部; 在所述第一表面上形成第二涂层; 以及将第二基板与设置有第一涂层和第二涂层的辅助体分离。

    초저유전막의 제조방법, 이에 의한 초저유전막
    70.
    发明申请
    초저유전막의 제조방법, 이에 의한 초저유전막 审中-公开
    用于超低介电常数膜的生产方法和生产的超低电导率电容膜

    公开(公告)号:WO2010134684A2

    公开(公告)日:2010-11-25

    申请号:PCT/KR2010/001044

    申请日:2010-02-19

    Abstract: 본 발명은 화학식 1로 표시되는 기공형성제와 폴리 알킬실세스퀴옥산 공중합체를 매트릭스로하는 혼합용액의 비율을 최적화하고, 여기에 열처리 중에 자외선 경화를 하는 초저유전막의 제조방법 및 이에 의한 초저유전막에 관한 것이다. 본 발명에 의한 초저유전막은 1~3nm의 기공이 10~30%로 균일하게 분포되고, 2.12~2.4의 낮은 유전율에 10.5~19GPa의 매우 높은 기계적 탄성율을 달성하므로 현재 사용되는 SiO2 유전막을 대체하여 차세대 반도체의 층간절연막으로 사용할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种超低介电常数膜的制造方法,其中在由聚(烷基倍半硅氧烷)共聚物和由化学式1表示的致孔剂组成的基质的混合溶液中优化比例, 其中该混合溶液在热处理期间经受紫外线固化。 本发明的超低介电常数膜可以用作下一代半导体的中间绝缘膜,代替目前使用的SiO 2绝缘膜,因为1〜3nm的孔均匀分布在10〜30nm 在2.12〜2.4的低介电常数下实现了10.5〜19GPa的非常高的机械弹性。

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