公开(公告)号：KR1020170008572A

公开(公告)日：2017-01-24

申请号：KR1020150099917

申请日：2015-07-14

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 박찬형 ,  민진혁 ,  장성호 ,  박진우 ,  김기환 ,  이일하

IPC: G06F3/041

CPC classification number: G06F3/0412 ,  G06F3/041

Abstract: 본명세서는전도성구조체, 이의제조방법, 이를포함하는터치패널및 이를포함하는디스플레이장치에관한것이다.

Abstract translation: 本发明提供一种导电结构，包括：金属层，设置在基底上并包含铜; 设置在金属层上并包含铜和镍的防污层; 以及设置在防损层上并包含氧化铜，氮化铜，氧氮化铜，氧化铝，氮化铝和氮氧化铝中的至少一种的光反射降低层，其中防着色层的镍含量为50 ％至80％（含）。 本发明可以保持优良的导电性并有效地防止金属层的眩光。

公开(公告)号：KR1020160142703A

公开(公告)日：2016-12-13

申请号：KR1020150078785

申请日：2015-06-03

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 이일하 ,  김기환 ,  장성호 ,  박진우 ,  박찬형

IPC: G06F3/041 ,  G06F3/044

CPC classification number: G06F3/041 ,  G06F3/044

Abstract: 본명세서는전도성구조체및 이의제조방법에관한것이다.

Abstract translation: 本说明书涉及导电结构及其制造方法。

公开(公告)号：KR1020160098090A

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：KR1020160015720

申请日：2016-02-11

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 임진형 ,  민진혁 ,  김기환 ,  박찬형 ,  이일하

IPC: G06F3/041

CPC classification number: H05K1/0213 ,  G06F3/041 ,  G06F2203/04103 ,  H05K1/0274 ,  H05K1/0306 ,  H05K3/14

Abstract: 본출원은전도성구조체및 이의제조방법에관한것이다. 본출원의일 실시상태에따른전도성구조체의제조방법은, 기재상에금속층을형성하는단계, 및상기금속층상에암색화층을형성하는단계를포함하고, 상기암색화층을형성하는단계는 CO를이용한반응성스퍼터링에의하여수행되는것을특징으로한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种导电结构及其制造方法。 根据本发明的一个实施例的制造导电结构的方法包括以下步骤：在基底上形成金属层; 以及在所述金属层上形成暗图案层，其中通过使用CO 2的反应溅射来进行形成所述暗图案层的步骤。