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公开(公告)号：KR102200515B1
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：KR1020180125216
申请日：2018-10-19
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: B23B27/14 , B23B51/02 , B23K1/005 , B21D28/34 , B23K101/20
Abstract: 본발명은내구성이현저하게상승될 수있으며, 절삭공구및 절삭층의뒤틀림이나파손없이브레이징할 수있고, 전자빔을이용한절삭공구의브레이징방법에관한것으로서, 본발명에따르면, 캐소드와애노드를포함하는전자빔방출장치, 상기전자빔방출장치에서방출되는전자빔이조사되며, 상호브레이징접합되는생크층과두께 1mm이하의세라믹재질의절삭층이위치되는챔버, 상기챔버에구비되며, 상기생크층과접합계면층및 절삭층이적층된상태의피가공물이위치되며, 전도성재질로형성되고접지가이루어진지그, 상기지그를냉각시키는냉각부및 상기전자빔방출장치및 냉각부를제어하는제어부를포함하는전자빔브레이징장치가개시된다.
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公开(公告)号：KR101883268B1
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：KR1020160166714
申请日：2016-12-08
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: H05K3/00 , H05K3/40 , B23K15/08 , B23K101/42
Abstract: 본발명에따른기화성기재를포함하는마이크로드릴링장치는, 전자빔장치를통해조사되는전자빔을이용하여대상모재에마이크로드릴링을수행하는마이크로드릴링장치에있어서, 상기전자빔이조사되는상기대상모재의조사면반대측에접촉되도록구비되며, 상기전자빔이접촉될경우기화되어상기대상모재에형성된마이크로홀내부의용융물과함께상기대상모재의외부로배출되는기화성기재및 상기전자빔장치를통해조사되는전자빔을편향시켜상기대상모재에도달하도록하는편향기를포함한다.
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公开(公告)号：KR101862558B1
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：KR1020150190601
申请日：2015-12-31
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: B23Q17/22 , G05B19/401
CPC classification number: B23Q17/22 , G05B19/401
Abstract: 본발명은미세가공을위한정밀공구팁을가공대상물에접촉시키는컨텍모듈에관한것으로, 상기가공대상물이안착되는제1스테이지및 상기제1스테이지와마주보도록배치되며상기제1스테이지방향으로돌출된상기정밀공구팁이구비된제2스테이지를포함하는스테이지유닛, 상기정밀공구팁상에도포되는제1도전층을포함하는코팅유닛, 적어도일부가도전성물질로구성되어상기제2스테이지상에서상기제1스테이지방향으로돌출되며상기정밀공구팁과이격배치된제1컨텍부및 적어도일부가도전성물질로구성되어상기가공대상물과이격되며상기제1스테이지상에서상기제2스테이지방향으로돌출형성된제2컨텍부를포함하는컨텍유닛, 상기제1도전층과상기제1컨텍부에연결되어전기적신호가흐를수 있도록하는제1도전라인및 상기제2컨텍부에연결되어전기적신호가흐를수 있도록하는제2도전라인을포함하며, 어느하나에전기적신호를전달하고감지되는변화를통해상호접촉여부를감지하는감지유닛및 상기제2컨텍부에상기제1컨텍부와상기정밀공구팁이연속적으로접촉하여이를통해상기제1컨텍부와상기정밀공구팁의상대위치를도출하고, 상기가공대상물에상기제1컨텍부의접촉후 상기정밀공구팁을상기상대위치만큼이동시켜접촉시키는제어유닛을포함하는컨텍모듈이개시된다.
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公开(公告)号：KR101775601B1
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：KR1020150064652
申请日：2015-05-08
Applicant: 한국생산기술연구원
Abstract: 본발명의일측면에따르면, 전자빔이가속되는공간을형성하고, 타측에가속된전자빔이방출되는방출구가형성된본체, 상기본체내 일측에배치되며, 전자를방출하는캐소드, 상기본체내에서상기캐소드로부터타측으로이격되어위치되며, 상기캐소드로부터방출된전자를가속하는애노드및 상기본체로부터방출되는전자빔의이동경로상에구비되어, 방출된전자빔에의해녹여진대상물을적층시키는적층모듈을포함하는대기용전자빔 3차원적층장치가개시된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101762255B1
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：KR1020150064654
申请日：2015-05-08
Applicant: 한국생산기술연구원
Abstract: 본발명의일측면에따르면, 전자빔을방출하는캐소드, 상기캐소드로부터타측으로이격되어위치되며, 상기캐소드로부터방출된전자빔를가속하는애노드, 대기압보다낮고일정한압력이인가되며가스가내부에투입되어플라즈마환경이형성되고, 상기캐소드와상기애노드가내부에구비되어전자빔이가속되는공간을형성하는저압하우징, 상기저압하우징과연통되고상기저압하우징에인가된압력보다높고일정한압력이인가되며, 전자빔이대기로방출되는방출구가형성된고압하우징및 상기저압하우징및 상기고압하우징이일측에장착되고이동가능한이동모듈을포함하며, 상기이동모듈에의해상기저압하우징및 상기고압하우징이이동함에따라, 방출되는전자빔이피처리물의외면을표면처리하는대기용전자빔표면처리장치가개시된다.
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公开(公告)号：KR1020170080904A
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：KR1020150190601
申请日：2015-12-31
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: B23Q17/22 , G05B19/401
CPC classification number: B23Q17/22 , G05B19/401
Abstract: 본발명은미세가공을위한정밀공구팁을가공대상물에접촉시키는컨텍모듈에관한것으로, 상기가공대상물이안착되는제1스테이지및 상기제1스테이지와마주보도록배치되며상기제1스테이지방향으로돌출된상기정밀공구팁이구비된제2스테이지를포함하는스테이지유닛, 상기정밀공구팁상에도포되는제1도전층을포함하는코팅유닛, 적어도일부가도전성물질로구성되어상기제2스테이지상에서상기제1스테이지방향으로돌출되며상기정밀공구팁과이격배치된제1컨텍부및 적어도일부가도전성물질로구성되어상기가공대상물과이격되며상기제1스테이지상에서상기제2스테이지방향으로돌출형성된제2컨텍부를포함하는컨텍유닛, 상기제1도전층과상기제1컨텍부에연결되어전기적신호가흐를수 있도록하는제1도전라인및 상기제2컨텍부에연결되어전기적신호가흐를수 있도록하는제2도전라인을포함하며, 어느하나에전기적신호를전달하고감지되는변화를통해상호접촉여부를감지하는감지유닛및 상기제2컨텍부에상기제1컨텍부와상기정밀공구팁이연속적으로접촉하여이를통해상기제1컨텍부와상기정밀공구팁의상대위치를도출하고, 상기가공대상물에상기제1컨텍부의접촉후 상기정밀공구팁을상기상대위치만큼이동시켜접촉시키는제어유닛을포함하는컨텍모듈이개시된다.
Abstract translation: 本发明涉及用于精细处理的精密刀具尖端到物体接触的接触器模块进行处理，其面对的第一阶段和在其上进行处理在第一级取向安装的突出物的第一阶段设置 包括适用于精密刀具尖端的第一导电层的涂覆单元包括：包括所述阶段单元，所述精密工具tipsang，至少一部分是由导电材料制成的第一阶段的方向上的第二阶段的第二阶段 突出并上下文包括精密工具尖端与第一接触部分和至少间隔开的部分由导电性材料制成，并且从物体间隔开，以被处理突出到第二级取向在第一级的第二接触部 第一导线连接到第一导电层和第一接触部分以允许电信号流动，第二导线连接到第二导电部分， 其中，第一接触部分和精密工具尖端在第二接触部分中以连续的方式彼此连接， 第一接触部接触所述导出所述第一接触部分和所述精密刀尖通过它的相对位置，并包括后接触到对象将被处理的控制单元的精度刀尖接触是由相对位置移动 联系人模块已启动。
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公开(公告)号：KR1020160053187A
公开(公告)日：2016-05-13
申请号：KR1020140150268
申请日：2014-10-31
Applicant: 한국생산기술연구원
CPC classification number: H01J29/02 , H01J29/04 , H01J29/90 , H01J37/06 , H01J2229/0069
Abstract: 본출원은전자빔방출장치의냉각수가누출되어도피가공물로낙하되는것이방지되는누수방지구조가적용된전자빔방출장치전자빔방출장치에관한것으로서, 본출원의일 실시예에따르면, 전자빔이가속되는공간을형성하는하우징, 상기하우징내 일측에배치되며, 전자를방출하는캐소드, 상기하우징내에서상기캐소드로부터타측으로이격되어위치되며, 상기캐소드로부터방출된전자를가속하는애노드, 상기애노드에의해가속된전자가하우징외부로방출되는방출구가중앙에형성되며, 내부에냉각수유로가형성된냉각플레이트및 상기하우징의내측면과이격되고, 상기냉각플레이트의방출구둘레로부터상기캐소드측을향하여연장되며, 상기냉각플레이트와수밀을이루도록구비되는차수부를포함하는냉각수누수방지구조가적용된전자빔방출장치가개시된다.
Abstract translation: 本申请涉及一种具有防漏结构的电子束发射装置，其即使当电子束发射装置的冷却剂泄漏时也能够防止冷却剂落在工件上。 根据本申请的实施例，具有防止冷却剂泄漏的结构的电子束发射装置包括：限定电子束加速的空间的壳体; 阴极，其设置在壳体的一侧并发射电子; 阳极，其从阴极朝向外壳中的另一侧间隔开，并加速从阴极发射的电子; 冷却板，其包括形成在其中心的发射口和形成在其中的冷却剂通道，所述发射端口被配置为将由所述阳极加速的电子发射到所述壳体的外部; 并且与所述壳体的内表面间隔开的防水部从所述冷却板的所述排出口的圆周朝向所述阴极延伸，并且从所述冷却板防水。
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公开(公告)号：KR101513230B1
公开(公告)日：2015-04-17
申请号：KR1020130122308
申请日：2013-10-15
Applicant: 한국생산기술연구원
CPC classification number: B23Q11/1076 , B05B9/03 , B05B12/00
Abstract: 본발명에따른복수의유로가형성된분사호스를포함하는유체분사장치는, 유체를분사하는유체분사장치에있어서, 액체질소가저장되는질소탱크, 절삭유가저장되는절삭유탱크및 상기절삭유가유동되는제1유로와, 상기액체질소가유동되며, 상기제1유로의둘레를감싸는형태로형성된제2유로를포함하고, 상기절삭유및 상기액체질소중 어느하나이상을선택적으로분사하도록형성된분사호스를포함한다.
Abstract translation: 一种具有多个流路的喷射软管的流体喷射装置包括：储存有液氮的氮气罐; 切割油储存在切割油箱中; 以及喷射软管，包括切割油流动的第一流动路径; 以及围绕液氮流动的第一流路的形状的第二流动路径，形成喷射软管以选择性地喷射切割油和液氮中的一种或多种。
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公开(公告)号：KR1020110125981A
公开(公告)日：2011-11-22
申请号：KR1020100045646
申请日：2010-05-14
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: H01J37/067
Abstract: PURPOSE: A miniature electron beam apparatus is provided to efficiently perform a processing by revising a condenser lens in the vacuum condition of an electron beam emission chamber and controlling the position of a condenser lens group. CONSTITUTION: An electron beam emission chamber(100) forms an outer shape. An electron emitter(110) is placed on the top part of the electron beam emission chamber. A condenser lens group is formed in the electron beam emission chamber. An aligning part(125) controls the position of the condenser lens group while being included in the electron beam emission chamber. A main chamber is included in the lower part of the electron beam emission chamber.
Abstract translation: 目的：提供一种微型电子束装置，用于通过在电子束发射室的真空条件下修正聚光透镜并控制聚光透镜组的位置来有效地进行处理。 构成：电子束发射室（100）形成外形。 电子发射器（110）放置在电子束发射室的顶部。 在电子束发射室中形成聚光透镜组。 对准部分（125）在被包括在电子束发射室中时控制聚光透镜组的位置。 电子束发射室的下部包括主室。
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