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公开(公告)号：JP2015168732A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014043353
申请日：2014-03-05
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L53/00 , C08F297/02 , H01L21/027 , C08L101/02
CPC classification number: G03F7/038 , G03F7/0002 , G03F7/0388
Abstract: 【課題】十分に微細かつ断面形状の矩形性に優れるパターンを形成することができるパターン形成用組成物及びパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、自己組織化により相分離構造を形成し得る1種又は複数種の重合体を含有するパターン形成用組成物であって、上記1又は複数種の重合体のうちの少なくとも1種が側鎖に架橋性基を有することを特徴とするパターン形成用組成物である。上記架橋性基が、オキシラニル基、オキセタニル基、テトラヒドロフルフリル基、ビニル基及びビニルエーテル基であるとよい。上記1種の重合体を含有し、その重合体がブロック共重合体であるとよい。上記ブロック共重合体がジブロック共重合体又はトリブロック共重合体であるとよい。上記架橋性基が上記ブロック共重合体中のいずれか1種のブロックのみに含まれるとよい。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于图案形成的组合物和能够形成足够细且具有优异的截面形状矩形性的图案的图案形成方法。解决方案：本发明提供了一种图案形成用组合物，其包含 能够通过自组装形成相分离结构的一种或多种聚合物，所述一种或多种聚合物中的至少一种在侧链中具有可交联基团。 优选地，可交联基团是环氧乙烷基，氧杂环丁烷基，四氢糠基，乙烯基和乙烯基醚基。 优选地，组合物包含一种聚合物，并且聚合物是嵌段共聚物。 优选地，嵌段共聚物是二嵌段共聚物或三嵌段共聚物。 优选地，可交联基团仅包含在一个嵌段共聚物嵌段中。
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公开(公告)号：JP2015149475A
公开(公告)日：2015-08-20
申请号：JP2014266641
申请日：2014-12-26
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: C23F1/02 , C08F297/02 , C09D153/00 , C23F1/12 , G03F7/0002 , H01L21/3081
Abstract: 【課題】より微細でかつ矩形性に優れる基板パターンを形成することができるパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、金属含有膜が上側に積層された基板を用い、この金属含有膜の上側に自己組織化膜を形成する工程、上記自己組織化膜の少なくとも一部の相を除去する工程及び上記除去後の自己組織化膜をマスクとして上記金属含有膜及び上記基板を順次エッチングする工程を備えるパターン形成方法である。上記金属含有膜は、加水分解性基を有する金属化合物、加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び加水分解性基を有する金属化合物の加水分解縮合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物、並びに第1有機溶媒を含有する金属含有膜形成用組成物を用いて形成されることが好ましい。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够形成更加精细且矩形性优异的基板图案的图案形成方法。解决方案：图案形成方法技术领域本发明涉及一种图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含金属膜的基板 并在该含金属膜上形成自组装膜; 去除所述自组装膜的至少一部分相; 并且在去除步骤之后使用自组装膜依次蚀刻含金属膜和基板作为掩模。 含金属膜优选使用形成含金属膜的组合物形成，所述组合物含有：至少一种选自具有可水解基团的金属化合物，具有可水解基团的金属化合物的水解产物， 和具有可水解基团的金属化合物的水解缩合产物; 和第一有机溶剂。
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公开(公告)号：JP2015139875A
公开(公告)日：2015-08-03
申请号：JP2014016231
申请日：2014-01-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/02 , B82Y30/00 , G03F7/40 , C08L33/10 , B82B1/00
Abstract: 【課題】アルコール系溶媒又はアルカリ水溶液を用いて現像することができ、かつ十分に微細なパターンを形成することができるパターン形成用自己組織化組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸性基を含む構造単位を有する第1重合体、及び上記第1重合体以外の第2重合体を含有するパターン形成用自己組織化組成物であって、上記第1重合体を構成する全構造単位に対する上記構造単位の含有割合が10モル%以上であり、上記第1重合体の23℃における2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が10nm/分以上であることを特徴とする。上記酸性基としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホンアミド基及びスルホ基からなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于图案形成的自组织组合物，其可以通过使用醇基溶剂或碱性水溶液进行显影，并且可以形成足够细的图案。解决方案：提供了一种自组织组合物， 图案形成，其包含具有含有酸性基团的结构单元的第一聚合物和除第一聚合物以外的第二聚合物的第一聚合物，其中结构单元的含量比基于第一聚合物的总结构单元为10摩尔％以上， 该第一聚合物在23℃下的溶解度为2.38质量％的四甲基氢氧化铵水溶液为10nm /分钟以上。 酸性基团优选为选自酚羟基，羧基，磺酰胺基和磺基中的至少一种。
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公开(公告)号：JP2015102820A
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：JP2013245499
申请日：2013-11-27
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/038 , H01L21/027 , C08F20/36 , G03F7/039
Abstract: 【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度及びMEEF性能に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】式(1)で表される基を含む第1構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。式(1)中、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜30の1価の有機基である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供具有优异的LWR性能，CDU性能，分辨率，截面形状的矩形度，焦深，曝光余量和MEEF性能的辐射敏感性树脂组合物。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含具有 包含由式（1）表示的基团的第一结构单元和辐射敏感的酸产生剂。 在式（1）中，Rand Reach独立地表示氢原子或1-30C一价有机基团。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6788198B2
公开(公告)日：2020-11-25
申请号：JP2017566910
申请日：2017-02-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/3205 , H01L21/3065 , H01L21/027 , H01L21/768
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公开(公告)号：JP6398695B2
公开(公告)日：2018-10-03
申请号：JP2014258126
申请日：2014-12-19
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , B82Y30/00 , B05D7/00 , H01L21/027
CPC classification number: C09D125/14 , C08F220/14 , C09D133/06 , C09D133/12 , G03F7/0002 , G03F7/0388 , G03F7/11 , C08F2220/325 , C08F212/08 , C08F2220/1841
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