中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

370 records (took 0.021 seconds)

    VACUUM DIP COATING APPARATUS
    62.
    发明申请
    VACUUM DIP COATING APPARATUS 审中-公开
    真空DIP涂装装置

    公开(公告)号：WO2014107320A1

    公开(公告)日：2014-07-10

    申请号：PCT/US2013/076443

    申请日：2013-12-19

    Applicant: GENERAL ELECTRIC COMPANY

    Inventor： BARBER, John, H. ,  YANG, Hai ,  WANG, Chen ,  LIU, Zhixun

    IPC: B05C3/109

    CPC classification number: B05C3/02 ,  B05C3/09 ,  B05C3/10 ,  B05C3/109 ,  B05C9/08 ,  B05C13/00 ,  B05D1/18

    Abstract: A dip coating apparatus includes a sealed case assembly for containing at least one workpiece to be coated; an air pump communicated with the sealed case assembly, for pumping air from the sealed case assembly and injecting air into the sealed case assembly; and a coating solution container containing a coating solution and communicated with the sealed case assembly, for injecting the coating solution to the sealed case assembly and retrieving the coating solution from the sealed case assembly.

    Abstract translation: 浸涂装置包括用于容纳至少一个待涂覆的工件的密封壳体组件; 与密封的壳体组件连通的空气泵，用于从密封的壳体组件泵送空气并将空气注入到密封的壳体组件中; 以及包含涂料溶液并与密封的壳体组件连通的涂布溶液容器，用于将涂布溶液注入到密封的壳体组件中并从密封的壳体组件中回收涂布溶液。

    PROCESS FOR IMPROVING SURFACE PROPERTIES OF MATERIAL AND SURFACE-TREATING APPARATUS THEREFOR
    63.
    发明申请
    PROCESS FOR IMPROVING SURFACE PROPERTIES OF MATERIAL AND SURFACE-TREATING APPARATUS THEREFOR 审中-公开
    改善材料和表面处理装置的表面特性的方法

    公开(公告)号：WO1989010208A1

    公开(公告)日：1989-11-02

    申请号：PCT/JP1989000432

    申请日：1989-04-25

    Applicant: ISI LTD. CO. ,  TOMIO KEISHA CO., Ltd. ,  TAKEDA, Atsushi ,  YAMAZAKI, Kenji

    Inventor： ISI LTD. CO. ,  TOMIO KEISHA CO., Ltd.

    IPC: B05C09/10

    CPC classification number: B05D3/063 ,  B01J19/123 ,  B05C9/08 ,  B05D3/064 ,  B05D2201/00

    Abstract: A process for improving surface properties of a material comprises irradiating the material with ultraviolet rays in vacuo or in an inert gas atmosphere to destroy atom-to-atom bonds of predetermined surface groups and remove specific atoms, and reacting the activated surface with radicals of a reactive gas or coating agent activated by irradiation with ultraviolet rays or laser beams to thereby produce new surface groups and modify the surface properties according to a particular purpose. An apparatus for conducting this process comprises a closed vessel (1) having an ultraviolet ray discharge tube (2) provided therein and an inert gas feed pipe (6), a reactive gas feed pipe (7) and a degassing apparatus (F) connected thereto to make the inside selectively vacuum or an atmosphere of inert gas or reactive gas.

    Abstract translation: 用于改善材料的表面性质的方法包括在真空中或在惰性气体气氛中用紫外线照射材料以破坏预定表面基团的原子 - 原子键并除去特定原子，并使活化的表面与 活性气体或涂层剂通过用紫外线或激光束照射而活化，从而产生新的表面组，并根据特定目的改变表面性质。 用于进行该方法的装置包括：具有设置在其中的紫外线放电管（2）的封闭容器（1）和连接有惰性气体供给管（6），反应气体供给管（7）和脱气装置（F） 使内部选择性地真空或惰性气体或反应性气体的气氛。

    METHOD AND INSTALLATION FOR THE PROCESSING OF THE UPPER SIDE OF A FLAT PART BY MEANS OF A LIQUID
    64.
    发明申请
    METHOD AND INSTALLATION FOR THE PROCESSING OF THE UPPER SIDE OF A FLAT PART BY MEANS OF A LIQUID 审中-公开
    通过液体加工平板部分上方的方法和安装

    公开(公告)号：WO1982001482A1

    公开(公告)日：1982-05-13

    申请号：PCT/CH1981000123

    申请日：1981-11-06

    Applicant: CENSOR PATENT VERSUCH

    Inventor： CENSOR PATENT VERSUCH ,  MAYER HERBERT E ,  SAWATZKI HARRY

    IPC: B05D01/00

    CPC classification number: H01L21/67023 ,  B05C9/08 ,  B05C11/08 ,  B05D1/30 ,  B25B11/005 ,  G03F7/162

    Abstract: The lower side of the part to be processed is secured on a frame (14) by suction. This suction is obtained by means of a gaz flowing through at least a Venturi nozzle (22) of the frame (14). The gaz flowing through the nozzle or nozzles (22) impinges on the lower side of the part (10) and is deviated therefrom towards the periphery (32). The flow draws externally the processing liquid droplets remaining on the periphery (32) of the part (10). The installation according to the invention thereby serves a double function: on the one hand it keeps the part (10) on the frame (14) by suction, and on the other hand it removes the residual droplets flowing from the upper side of part (10) towards the lower side.

    Abstract translation: 要处理的部件的下侧通过抽吸固定在框架（14）上。 该抽吸通过流过框架（14）的至少文氏管喷嘴（22）的喷嘴获得。 流经喷嘴或喷嘴（22）的喷嘴撞击部件（10）的下侧并且朝向周边（32）偏离。 流动从外部抽出残留在部件（10）的周边（32）上的处理液滴。 因此，根据本发明的装置具有双重功能：一方面通过抽吸将部件（10）保持在框架（14）上，另一方面它除去从部件（10）的上侧流动的残余液滴 10）向下方。

    高分子薄膜におけるデジタル・マイクロスケール・パターンの連続的生産
    67.
    发明专利
    高分子薄膜におけるデジタル・マイクロスケール・パターンの連続的生産 有权
    连续生产微聚合薄膜上的数字微尺度图案

    公开(公告)号：JP2015020434A

    公开(公告)日：2015-02-02

    申请号：JP2014133380

    申请日：2014-06-27

    Applicant: パロ・アルト・リサーチ・センター・インコーポレーテッドPalo Alto Research Center Incorporated ,  Palo Alto Research Center Inc ,  パロ・アルト・リサーチ・センター・インコーポレーテッドPalo Alto Research Center Incorporated

    Inventor： DAVID MATHEW JOHNSON ,  ARMIN R VOLKEL ,  JOHN STEVEN PASCHKEWITZ

    IPC: B29C59/00 ,  B81C1/00

    CPC classification number: G03F7/70 ,  B05C5/005 ,  B05C5/007 ,  B05C9/08 ,  B05C9/12 ,  B41F16/00 ,  G03F7/0002 ,  G03G13/10 ,  G03G15/02

    Abstract: 【課題】工業的に適切な量で数μmから数cmにわたるスケールにおいて、μm単位の3次元のパターン形成を用いて高分子薄膜を生産するシステムの提供。【解決手段】コンベア110表面(例えば、ローラまたはベルト)111に液体(例えば、高分子)薄膜141を配置し、精密に制御されたギャップ(またはニップ)領域101内へ薄膜を運搬し、領域101内で電界を発生させて、同電界は電気流体力学(EHD)パターン形成型変形を同液体に受けさせ、それによって同液体はパターン状マイクロスケール機能143を形成し、硬化メカニズム(例えば、UVレーザ)は、ギャップ領域101の内部で又は領域101から抜け出た直後に、パターン状液体機能143を凝固(例えば、架橋)させるのに用いられ、それによってマイクロスケールのパターン状構造145を形成し、分割電極及びパターン状電荷が、デジタルパターン形成制御を提供するのに利用されるシステム。【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题：提供用于在工业上相关数量的几微米到几厘米范围内的尺寸范围内的三维微米图案化的薄聚合物膜的制造系统。解决方案：在一个系统中，设置液体（例如聚合物）薄膜141 在输送机110表面（例如，辊或带）111上，薄膜被输送到精确控制的间隙（或辊隙）区域101中，在区域101中产生电场，电场使液体受到电流动力学 EHD）图案化变形，从而液体形成图案化微尺度特征143.固化机构（例如，UV激光）用于在图案化液体特征143离开区域101之后或之后立即固化（例如，交联）图案化液体特征143， 从而形成微尺度图案化结构145.分段电极和图案化电荷用于提供数字图案化控制。

    真空ディップコーティング装置
    69.
    发明专利
    真空ディップコーティング装置 审中-公开
    真空浸渍涂布装置

    公开(公告)号：JP2016515913A

    公开(公告)日：2016-06-02

    申请号：JP2015551698

    申请日：2013-12-19

    Applicant: ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

    Inventor： バーバー，ジョン・エイチ ,  ヤン，ハイ ,  ワン，チェン ,  リウ，ジーシュイン

    IPC: B05C3/109 ,  B05C9/08 ,  B05D1/18 ,  B05D7/00

    CPC classification number: B05C3/02 ,  B05C3/09 ,  B05C3/10 ,  B05C3/109 ,  B05C9/08 ,  B05C13/00 ,  B05D1/18

    Abstract: ディップコーティング装置は、1以上のコーティングすべき被加工物を収容するための封止ケース組立体と、封止ケース組立体から空気を吸引し、封止ケース組立体に空気を注入するための、封止ケース組立体と連通する空気ポンプと、コーティング溶液を収容し、封止ケース組立体と連通するコーティング溶液の容器であって、コーティング溶液を封止ケース組立体に注入し、コーティング溶液を封止ケース組立体から取り出すための容器とを含む。【選択図】図1

    Abstract translation: 熔融金属电镀装置，用于容纳密封壳组件的工件是一个或多个涂层，从抽吸所述密封壳组件的空气，用于将空气注入到密封的箱体组件， 密封的空气泵，用于密封壳体组件和通信时，含有该涂布液中的，密封壳体组件和用于通信的涂布液的容器，所述涂层溶液倒入密封箱组件，以及涂层溶液 和用于从停止壳组件移除的容器。 点域1

Patent Agency Ranking