公开(公告)号：CN109046869A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201811002283.8

申请日：2018-08-30

Applicant: 芜湖聚鑫涂装有限公司

Inventor： 王继革 ,  王继民 ,  王继平

IPC: B05C3/08 ,  B05C3/109 ,  B05C11/08 ,  B05C13/00 ,  B65G49/02

CPC classification number: B05C3/08 ,  B05C3/109 ,  B05C11/08 ,  B05C13/00 ,  B65G49/025

Abstract: 本发明公开一种具有上料装置的浸涂离心设备，一种具有上料装置的浸涂离心设备，包括第一框体、第二框体、储液盒、储料盒、离心机构和升降机构，所述储料盒成网状结构，所述储液盒与升降机构相连接，所述储料盒与离心机构相连接，所述储液盒布置在第一框体的内部，所述储料盒布置在储液盒的内部，所述离心机构布置在第二框体的内部，所述第一框体焊接在第二框体的顶部，所述第一框体的侧面还设有上料机构。本发明通过升降机构和离心机构的设计，可在工件浸涂完成后，将达克罗涂液与工件分离，通过离心机构对工件进行离心处理。本发明省去工件转移步骤，提高了工作效率，通过上料机构将工件运送到储料框中，降低了员工的劳动强度。

公开(公告)号：CN103975276B

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201280060328.1

申请日：2012-10-03

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 耸嘛玩 ,  原史朗

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1005 ,  G03F7/3021

Abstract: 形成于半英寸尺寸的晶圆上的抗蚀剂的最佳的显影方法及装置。是在制作极小单位数的半导体器件的晶圆尺寸的晶圆上形成的抗蚀剂的旋转显影方法及其装置，所述旋转显影方法包括：第1步骤，在停止着的晶圆上滴下显影液直到显影液的厚度达到最大；第2步骤，一边使晶圆旋转一边进行显影；第3步骤，使晶圆的旋转停止向晶圆上供给约第1步骤中的显影液量的一半的显影液；第4步骤，一边使晶圆旋转一边以比第2步骤长的显影时间进行显影。

公开(公告)号：CN108957782A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201811039281.6

申请日：2018-09-06

Applicant: 深圳捷牛科技有限公司

Inventor： 罗健峰 ,  陈洪霖 ,  谢开才

IPC: G02B27/62 ,  F16B11/00 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02

CPC classification number: G02B27/62 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02 ,  F16B11/006

Abstract: 本申请公开了胶合镜片一体组装设备，包括主体机架、设于所述主体机架上侧且可绕所述主体机架竖向方向旋转的工位转盘，以及依次设置于所述工位转盘周侧的下镜片输出装置、点胶装置、上料机械手、上镜片输出装置、压合装置、揉胶装置、定心装置、上下料机械手。本申请通过各机构的协同运作，实现了自动流水线组装镜头，不但减少了组装工序，也降低了人体的劳动强度，且还大幅度的提高了组装效率，同时还能避免组装时污染了镜片，或损伤了镜片，进而不仅能够最大限度降低企业的生产成本，且还能稳定运行以提高生产企业的市场竞争力。

公开(公告)号：CN108198748A

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：CN201810131309.2

申请日：2015-02-26

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 吉原直彦 ,  小林健司 ,  奥谷学

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/68764 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够一边对基板进行加热一边使基板的上表面相对于水平面倾斜，并且，从基板的上方顺利且完全地排除有机溶剂等的处理液的液膜。基板处理装置具有一边对基板进行支撑一边对基板从下方进行加热的基板加热单元和使基板加热单元的姿势在水平姿势和倾斜姿势之间变更的姿势变更单元。在紧接着对基板加热的基板高温化工序执行的有机溶剂排除工序中，通过使基板加热单元的姿势变更为倾斜姿势，来使基板的上表面相对于水平面倾斜。

公开(公告)号：CN104934307B

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201510115608.3

申请日：2015-03-17

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 小林健司 ,  奥谷学

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B05B1/24 ,  B05B15/60 ,  B05C11/08 ,  B05D1/02 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，能够在药液供给工序中确实地避免药液降落到加热板的上表面，由此，防止因在加热板上干燥药液引起的颗粒的产生。基板处理方法在基板处理装置中执行，该基板处理装置具有用于保持基板的基板保持单元和用于对基板从下方进行加热的加热板，包括：处理液供给工序，在所述加热板配置在从所述基板保持单元向下方退避的退避位置的状态下，向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面供给处理液；保护液液膜形成工序，与所述处理液供给工序并行地在所述加热板的上表面形成覆盖该上表面的保护液的液膜；基板加热工序，一边使所述加热板与所述基板的下表面接近或接触，一边通过该加热板对所述基板进行加热。

公开(公告)号：CN107159527A

公开(公告)日：2017-09-15

申请号：CN201710560133.8

申请日：2017-07-11

Applicant: 南通大学

Inventor： 花国然 ,  陈浩天 ,  曹宇鹏

IPC: B05C11/08 ,  B05C13/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明公开了一种匀胶机，包括工作箱，工作箱的一侧设有控制面板，工作箱的顶部设有放置箱，工作箱的内底部设有电机，电机的输出端连接有转轴，转轴远离电机的一端依次贯穿工作箱和放置箱的侧壁，且固定连接有转盘，转盘的顶部设有滑口，滑口内设有第一滑块，所述转轴上设有与滑口连通的第一安装槽。本发明结构简单，将基片置于两个第二滑块之间，按动第二压块，使第一压块上的第一卡齿与第二卡齿分离，然后向下滑动滑动环，通过连接线带动第一滑块滑动，将基片固定，采用机械夹持来替代吸力固定基片，避免多余的胶液吸入气孔，堵塞气孔，减少设备的故障率，并且机械式固定基片的方式使用也较为便捷。

公开(公告)号：CN107138354A

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：CN201710369815.0

申请日：2017-05-23

Applicant: 东莞天衣无缝汽车科技有限公司

Inventor： 韩昌军 ,  马孝义 ,  漆雪娇

IPC: B05C7/02 ,  B05C9/14 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02

CPC classification number: B05C7/02 ,  B05C9/14 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05C11/1042 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明涉及轮胎生产领域，特别是涉及一种轮胎内腔喷胶机,包括箱体，箱体内部设有输料腔、喷料腔，输料腔与喷料腔之间用输料通孔连通，输料腔内设有输料结构，喷料腔内设有喷淋辅助结构，输料结构包括有滑动装置、承载台、加热桶、熔料桶、过滤器、增压泵、出料管、搅拌轮、搅拌电机、增压电机。喷淋辅助结构包括有滚动结构、定位结构、升降台、第一导杆、第二导杆。第一导杆上设有第一气缸，第二导杆上设有第二气缸。本发明具有喷料均匀，自动化程度高等特点，大大提高了轮胎的质量，提高工作效率以及工作人员工作的安全性。

公开(公告)号：CN106971941A

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201610849869.2

申请日：2016-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 桥本祐作 ,  下青木刚 ,  福田昌弘 ,  田中公一朗

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/67

CPC classification number: G03F7/3021 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/027 ,  H01L2221/67

Abstract: 本发明提供一种能够更切实地抑制显影的进行量由于基板上的位置的不同而产生偏差的基板处理方法和基板处理装置。基板处理方法包括：在使晶圆以第一转速旋转、使接液面与晶圆的表面相对的状态下，从喷出口向晶圆的表面供给显影液，一边使接液面与显影液接触一边使喷嘴移动，从而在晶圆的表面上形成显影液的液膜；在液膜形成在晶圆的表面上之后，在来自喷出口的显影液的供给停止了的状态下，以比第一转速低的第二转速使晶圆旋转；在以第二转速使晶圆旋转之后，以比第一转速高的第三转速使晶圆旋转；在以第三转速使晶圆旋转之后，使晶圆的转速为第二转速以下，从而在晶圆的表面上保持液膜。

公开(公告)号：CN106862017A

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201710071280.9

申请日：2017-02-09

Applicant: 宁夏百辰工业产品设计有限公司

Inventor： 杨叶

IPC: B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  G01D21/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05C11/1007 ,  G01D21/02

Abstract: 一种涂装生产设备作业粘度协调倾斜辅助装置，包括一个机体(1)，在机体(1)上设置粘度感应模块(2)、平面示意模块(3)、倾斜调整模块(4)、管理模块(5)，运行时，粘度感应模块(2)设置在涂装部件上，平面示意模块(3)设置在机身外侧，倾斜调整模块(4)设置在机身与平面接触处，管理模块(5)处理综合信息；在粘度感应模块(2)上设置传感计量模块(6)；在倾斜调整模块(4)上设置角度传感模块(7)；在管理模块(5)上设置提示模块(8)；通过感应作业涂料的粘稠度，调整机身作业平面与操作物料接触倾斜度情况，使得涂料作业顺利，提高运行效率、减少物料浪费。

公开(公告)号：CN106622852A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201710032361.8

申请日：2017-01-16

Applicant: 广西科技大学鹿山学院

Inventor： 黄艳 ,  胡义华 ,  张树林 ,  林祖正 ,  林伟健 ,  钟礼君 ,  杨灵敏

IPC: B05C3/109 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05C11/11 ,  B05D3/00 ,  B05C11/08

CPC classification number: B05C3/109 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05C11/11 ,  B05C13/02 ,  B05D3/007

Abstract: 一种产品自动涂层装置，涉及一种自动化涂覆装置，包括进给传动机构、主体支撑结构、旋转涂层与甩干机构、自动泵浆料与回流机构，进给传动机构安装在主体支撑结构上，自动泵浆料与回流机构包括浆料桶，浆料桶固定在进给传动机构上；旋转涂层与甩干机构包括旋转电机、电机支撑板、旋转主轴箱、零件箱固定座、零件箱；旋转电机通过电机支撑板固定在旋转主轴箱上，旋转主轴箱内安装有主轴，主轴的上端伸出旋转主轴箱外与旋转电机的输出轴连接，主轴的下端伸出旋转主轴箱外且通过零件箱固定座与零件箱固定连接，零件箱位于浆料桶内。本发明可让操作者最大限度地远离化学浆料，提高了工作效率，其结构简单，设备购买及维护成本低，易于推广使用。