公开(公告)号：JP2007212455A

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：JP2007020652

申请日：2007-01-31

Applicant: Carl Zeiss Smt Ag ,  カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

Inventor： MENGEL MARKUS ,  TOTZECK MICHAEL

IPC: G01J4/04 ,  G01B9/02 ,  G01J9/00 ,  G01N21/19 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01J9/02 ,  G01J9/0215 ,  G01J2009/0223 ,  G01M11/02 ,  G01N21/19 ,  G01N2021/216 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for approximating the influence of an optical system to the state of the polarization of optical radiation having low cost and improved accuracy.
SOLUTION: The method includes a step of supplying entering optical radiation related to the optical system, in a plurality of entering states of polarization including at least one entering state having a circular polarization radiation component; a step of directing the entering optical radiation toward the optical system; a step of measuring at least one characteristic, including phase distribution in the optical radiation, where the result generated from the optical system related to each of a state in which polarization enters, goes out; and a step of approximating the influence of the optical system with respect to the state of the polarization of the optical radiation, by evaluating the measured characteristics of optical radiation that goes out.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于近似光学系统对低成本且提高精度的光辐射的偏振状态的影响的方法。 解决方案：该方法包括以多个进入的偏振状态提供与光学系统相关的进入光辐射的步骤，其包括具有圆偏振辐射分量的至少一个进入状态; 将进入的光辐射引向光学系统的步骤; 测量至少一个特征的步骤，包括光学辐射中的相位分​​布，其中从与偏振光进入的状态中的每一个相关的光学系统产生的结果消失; 以及通过评估测量出的光辐射的特性来近似光学系统相对于光学辐射的偏振状态的影响的步骤。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：TW200700695A

公开(公告)日：2007-01-01

申请号：TW095112809

申请日：2006-04-11

Applicant: 捷特提克 協會 ZETETIC INSTITUTE

Inventor： 伊爾 亨利A. HILL, HENRY A.

IPC: G01B

CPC classification number: G01J9/02 ,  G01B9/02022 ,  G01B9/02024 ,  G01B9/02056 ,  G01B9/02057 ,  G01J2009/0223 ,  G03F7/706

Abstract: 一種點繞射干涉計,其用於測量空間脈衝響應函數的特性,干涉計包括:光源,其用於產生源光束;光學系統;光學元件,其包括位於光學系統之物體平面中之測試物體,測試物體包括用於自源光束產生穿過光學系統之測量光束之繞射點,其中光學元件亦自源光束產生與測量光束組合以在光學系統之影像平面中產生干涉圖案之參考光束,干涉圖案表示光學系統之空間脈衝響應函數。

Abstract in simplified Chinese: 一种点绕射干涉计,其用于测量空间脉冲响应函数的特性,干涉计包括:光源,其用于产生源光束;光学系统;光学组件,其包括位于光学系统之物体平面中之测试物体,测试物体包括用于自源光束产生穿过光学系统之测量光束之绕射点,其中光学组件亦自源光束产生与测量光束组合以在光学系统之影像平面中产生干涉图案之参考光束,干涉图案表示光学系统之空间脉冲响应函数。

公开(公告)号：TW201614217A

公开(公告)日：2016-04-16

申请号：TW104119408

申请日：2015-06-16

Applicant: 大塚電子股份有限公司 ,  OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD. ,  國立大學法人東京農工大學 ,  NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TECHNOLOGY

Inventor： 泉谷悠介 ,  IZUTANI, YUSUKE ,  岩井俊昭 ,  IWAI, TOSHIAKI

IPC: G01N21/49 ,  G01N21/45 ,  G01N15/02

CPC classification number: G01N21/51 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/18 ,  G01J3/4412 ,  G01J9/02 ,  G01J2009/0223 ,  G01N15/0211 ,  G01N21/0303 ,  G01N21/45 ,  G01N2015/0222 ,  G01N2021/0389 ,  G01N2021/4709 ,  G01N2201/062

Abstract: 提供一種不易受到振動等外來干擾的影響，且 不需要進行參照光和試料光的光路差調整的動態光散射測定裝置等。 動態光散射測定裝置(1)包含：照射 部：其係將來自低同調光源(10)的光照射到包含顆粒(42)的試料(40)；光譜強度取得部，其係將來自被配置在照射到試料(40)的光的光路上的參照面的反射光、和透射過參照面的來自試料(40)的散射光進行分光，取得反射光和散射光的干涉光的光譜強度；及測定部，其係根據所取得的光譜強度來測定試料(40)的動態光散射。

Abstract in simplified Chinese: 提供一种不易受到振动等外来干扰的影响，且 不需要进行参照光和试料光的光路差调整的动态光散射测定设备等。 动态光散射测定设备(1)包含：照射 部：其系将来自低同调光源(10)的光照射到包含颗粒(42)的试料(40)；光谱强度取得部，其系将来自被配置在照射到试料(40)的光的光路上的参照面的反射光、和透射过参照面的来自试料(40)的散射光进行分光，取得反射光和散射光的干涉光的光谱强度；及测定部，其系根据所取得的光谱强度来测定试料(40)的动态光散射。

公开(公告)号：TW200700940A

公开(公告)日：2007-01-01

申请号：TW095117263

申请日：2006-05-16

Applicant: 捷特提克 協會 ZETETIC INSTITUTE

Inventor： 伊爾 亨利A. HILL, HENRY A.

IPC: G03F ,  G01J ,  G02B

CPC classification number: G03F7/706 ,  G01J2009/0223 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70941

Abstract: 本發明提供用於臨場與離場測量由光學系統所產生之閃光的複振幅模數以及强度之空間分佈的裝置及其方法。臨場與離場測量包含干涉以及非干涉測量,測量使用同時位於光學系統之物面中的繞射點之陣列以增大共軛像平面中關於閃光的所測量之性質的訊號。繞射點產生具有隨機化相對相位之繞射光束。通常,干涉分佈測量使用相移點繞射干涉測量法以產生地形干擾訊號,且非干涉測量是基於閃光之除地形干擾訊號以外之相關訊號來進行。藉由偵測器產生地形干擾訊號以及閃光相關訊號以作為電干擾訊號或電閃光相關訊號或者作為記錄媒體中之相對應的曝光誘發變化。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供用于临场与离场测量由光学系统所产生之闪光的复振幅模数以及强度之空间分布的设备及其方法。临场与离场测量包含干涉以及非干涉测量,测量使用同时位于光学系统之物面中的绕射点之数组以增大共轭像平面中关于闪光的所测量之性质的信号。绕射点产生具有随机化相对相位之绕射光束。通常,干涉分布测量使用相移点绕射干涉测量法以产生地形干扰信号,且非干涉测量是基于闪光之除地形干扰信号以外之相关信号来进行。借由侦测器产生地形干扰信号以及闪光相关信号以作为电干扰信号或电闪光相关信号或者作为记录媒体中之相对应的曝光诱发变化。