公开(公告)号：EP0283020B1

公开(公告)日：1991-06-05

申请号：EP88104277.4

申请日：1988-03-17

Applicant: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

Inventor： Aramaki, Yoshimitsu

IPC: H01J29/38 ,  H01J1/34 ,  H01J9/12

CPC classification number: H01J29/385 ,  H01J9/12 ,  H01J2201/3425 ,  H01J2201/3426

公开(公告)号：EP0348611A3

公开(公告)日：1990-10-31

申请号：EP89106438.8

申请日：1989-04-11

Applicant: International Business Machines Corporation

Inventor： Halbout, Jean-Marc ,  May, Paul G.

IPC: H01J1/34 ,  H01J37/073

CPC classification number: G02B6/3624 ,  G02B6/3644 ,  G02B6/4203 ,  G02B6/4296 ,  H01J1/34 ,  H01J37/073 ,  H01J2201/3423 ,  H01J2201/3425

Abstract: A fibre optic photocathode is provided that is useful in achieving the strict dimensional constraints of instrumentation and array use, in which the output (6) of a high intensity light source, such as a laser, is transmitted in the core (2) of a clad optical fibre (1) to the cathode location, where a conducting cathode material (4), having a work function cor­responding to the frequency of the light source in which the photon energy of the light (6), being slightly above the work function of the material (4), is positioned essentially in contact with the core (2) of the optical fibre (1). The photocathode (4) may be coated directly on the optical fibre (1). The end of the fibre core (2) may further be shaped to increase the extraction field so as to provide an intense optical emission spot. The optical fibre cladding may provide precision advantage in shaping. Electrical connection to the cathode material (4) may be facilitated by connection to a metal coating over the optical fibre cladding (3) or extending the cathode material (4) to an adjacent support.

公开(公告)号：EP0387615A1

公开(公告)日：1990-09-19

申请号：EP90103966.9

申请日：1990-03-01

Applicant: ASULAB S.A.

Inventor： Ruedin, Yves ,  Sallin, Michel ,  Saurer, Eric ,  Busca, Giovanni ,  Schweda, Hartmut

IPC: H01J43/10 ,  H01J1/32 ,  H01J9/12

CPC classification number: H01J1/32 ,  H01J9/12 ,  H01J2201/32 ,  H01J2201/3425

Abstract: Le procédé consiste à déposer sur un substrat (2), éventuellement poli, une première couche (44) d'Au ou Pt sous une épaisseur d'environ 200 nm ou plus par pulvérisation cathodique, puis une seconde couche (16) de MgO sous une épaisseur de 2 à 10 nm également par pulvérisation cathodi­que, le substrat étant constamment maintenu sous atmosphère contrô­lée pendant les deux dépôts, ainsi qu'entre ceux-ci.

Abstract translation: 该方法包括通过阴极溅射在可能抛光的衬底（2）上沉积约200nm或更大厚度的Au或Pt的第一层（44），然后沉积MgO的第二层（16） 也可以通过阴极溅射形成2〜10nm的厚度。 在两次沉积期间和它们之间，基板保持恒定在受控的气氛下。

公开(公告)号：EP0283773A3

公开(公告)日：1990-02-07

申请号：EP88103116.5

申请日：1988-03-02

Applicant: KERNFORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH

Inventor： Ehrfeld, Wolfgang, Dr. ,  Moser, Herbert, Dr. ,  Münchmeyer, Dietrich, Dr.

IPC: H01J43/10 ,  H01J9/12 ,  H01J43/22

CPC classification number: H01J43/06 ,  H01J9/12 ,  H01J2201/32 ,  H01J2201/3425

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Sekundärelektronenvervielfacher mit diskreten Dynoden. Der Erfindung liegt die Aufgabe zu­grunde, gegenüber dem aufgezeigten Stand der Technik einen Mikro-Sekundärelektronenvervielfacher und Arrays davon zu schaffen die einen äußerst geringen Platzbedarf, eine hohe Zeitauflösung, eine große Empfindlichkeit und eine hohe Flexibilität bei der Formgebung aufweisen. Die Aufgabe wir dadurch gelöst, daß die Dynoden mikrostrukturiert und auf einer isolierenden Substratplatte, die mit elektrischen Leiterbahnen zum Anschluß der Dynoden versehen ist, angebracht ist.

公开(公告)号：EP0348611A2

公开(公告)日：1990-01-03

申请号：EP89106438.8

申请日：1989-04-11

Applicant: International Business Machines Corporation

Inventor： Halbout, Jean-Marc ,  May, Paul G.

IPC: H01J1/34 ,  H01J37/073

CPC classification number: G02B6/3624 ,  G02B6/3644 ,  G02B6/4203 ,  G02B6/4296 ,  H01J1/34 ,  H01J37/073 ,  H01J2201/3423 ,  H01J2201/3425

Abstract: A fibre optic photocathode is provided that is useful in achieving the strict dimensional constraints of instrumentation and array use, in which the output (6) of a high intensity light source, such as a laser, is transmitted in the core (2) of a clad optical fibre (1) to the cathode location, where a conducting cathode material (4), having a work function cor­responding to the frequency of the light source in which the photon energy of the light (6), being slightly above the work function of the material (4), is positioned essentially in contact with the core (2) of the optical fibre (1). The photocathode (4) may be coated directly on the optical fibre (1). The end of the fibre core (2) may further be shaped to increase the extraction field so as to provide an intense optical emission spot. The optical fibre cladding may provide precision advantage in shaping. Electrical connection to the cathode material (4) may be facilitated by connection to a metal coating over the optical fibre cladding (3) or extending the cathode material (4) to an adjacent support.

Abstract translation: 提供了一种有助于实现仪器和阵列使用的严格尺寸约束的光纤光电阴极，其中高强度光源（例如激光）的输出（6）在核心（2）中传输 包覆光纤（1）到阴极位置，其中具有对应于光源的光源的频率的功函数的导电阴极材料（4），其中光（6）的光子能量略高于功函数 的材料（4）基本上与光纤（1）的芯（2）接触。 光电阴极（4）可以直接涂覆在光纤（1）上。 纤维芯（2）的端部可以进一步成形以增加提取场，从而提供强烈的光发射点。 光纤包层可以在成形中提供精确的优点。 通过连接到光纤包层（3）上的金属涂层或将阴极材料（4）延伸到相邻的支撑件，可以促进与阴极材料（4）的电连接。

公开(公告)号：EP0321147A2

公开(公告)日：1989-06-21

申请号：EP88311624.6

申请日：1988-12-08

Applicant: FUJITSU LIMITED

Inventor： Sakamoto, Kiichi ,  Yasuda, Hiroshi ,  Yamada, Akio ,  Kudou, Jinko

IPC: H01J1/34 ,  H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J1/34 ,  H01J37/3175 ,  H01J2201/3425 ,  H01J2237/31779

Abstract: A photoelectron mask for photo cathode image projection includes a transparent substrate (11), a pattern (12) formed on a main surface of the transparent substrate. The pattern includes a non-transparent material. The mask also includes a photoelectron emission film (13) formed so as to cover the main surface of the transparent substrate on which the pattern are formed. The photoelectron emission film includes a material selected from the group consisting of pure platinum, a platinum-rich material containing platinum as the major component, and a platinum compound.

Abstract translation: 用于照片阴极图像投影甲光电子掩模包括透明基板（11），形成于该透明基板的主表面上的图案（12）。 该图案包括不透明材料。 因此，该掩模包括形成以覆盖在其上的图案形成在透明基板的主面的光电子发射电影（13）。 光电子射出电影包括选自纯铂，一个富铂材料含铂作为主要成分，和铂化合物的选择的材料。

公开(公告)号：EP0283020A2

公开(公告)日：1988-09-21

申请号：EP88104277.4

申请日：1988-03-17

Applicant: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

Inventor： Aramaki, Yoshimitsu

IPC: H01J29/38 ,  H01J1/34 ,  H01J9/12

CPC classification number: H01J29/385 ,  H01J9/12 ,  H01J2201/3425 ,  H01J2201/3426

Abstract: The present invention provides a photocathode which is formed on a substrate (15) consisting of one or a plurality of members having surfaces with a large number of fine spaces or pores, and which mainly consists of a semimetal and one or a plurality of alkaline metals, characterized in that the photocathode (13) is formed on an alkaline metal oxide layer (14) formed on the substrate, and a composition ratio of the semimetal and the one or a plurality of alkaline metals is stoichi­metric or mostly stoichiometric. The photocathode of the present invention has high sensitivity and can stably maintain the sensitivity for a long period of time.

Abstract translation: 本发明提供一种光电阴极，其形成在由具有大量微小空间或孔的表面的一个或多个构件构成的基板（15）上，主要由半金属和一种或多种碱金属 其特征在于，所述光电阴极（13）形成在形成于所述基板上的碱金属氧化物层（14）上，所述半金属与所述一种或多种碱金属的组成比为重量比或大部分为化学计量比。 本发明的光电阴极具有高灵敏度，能够长时间稳定地保持灵敏度。

公开(公告)号：EP0230694A1

公开(公告)日：1987-08-05

申请号：EP86202323.1

申请日：1986-12-18

Applicant: PHILIPS COMPOSANTS ,  Philips Electronics N.V.

Inventor： Eschard, Gilbert

IPC: H01J43/22 ,  H01J9/12

CPC classification number: H01J43/22 ,  H01J9/12 ,  H01J2201/32 ,  H01J2201/3425

Abstract: Multiplication électronique par émission secondaire.
Elément multiplicateur (10) d'électrons à émission secondaire composé, d'une part, d'une première plaque métallique (11) percée d'au moins un trou (12) multiplicateur, présentant une ouverture (13) d'entrée et une ouverture (14) de sortie, et, d'autre part, une deuxième plaque métallique (16), parallèle à la première (11), percée d'au moins un trou (17) auxilliaire disposé en regard de l'ouverture (14) de sortie du trou multiplicateur (12), la deuxième plaque (16) étant portée à un potentiel électrique (VI), supérieur au potentiel électrique (VO) de ladite première plaque. Les ouvertures (13, 14) sont telles que la projection droite (18) de l'ouverture (14) de sortie du trou multiplicateur (12) sur un plan parallèle à la première plaque métallique (11) est au moins partiellement située à l'extérieur de la projection correspondante (19) de l'ouverture (13) d'entrée.
Application aux tubes photomultiplicateurs.