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公开(公告)号：CN1312815A
公开(公告)日：2001-09-12
申请号：CN99809510.9
申请日：1999-08-05
Applicant: 大塚化学株式会社
IPC: C07F9/08 , C07F9/6581 , C08J5/00 , C08K5/5399 , C08L85/02 , C08L101/00 , C09K21/12 , C09K21/14
CPC classification number: C07F9/65815 , C07F9/65812 , C08G79/025 , C08K5/5399 , C09K21/14
Abstract: 本发明提供一种不含卤素的阻燃剂,该阻燃剂有利的是具有高的熔点和低的挥发性,并且不损害树脂的固有性质。本发明的阻燃剂是与交联基团如亚苯基交联的膦腈化合物,其中每个交联基团介于从膦腈化合物消去苯基后留下的二个氧基团之间;交联的苯氧基膦腈化合物不带有任何游离羟基(来源于交联基团);交联化合物中苯基的量为膦腈化合物中苯基的总数目的50－99.9%。
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公开(公告)号：CN1070857C
公开(公告)日：2001-09-12
申请号：CN98116395.5
申请日：1998-07-24
Applicant: 大塚化学株式会社
IPC: C07D295/28
CPC classification number: C07D207/50
Abstract: 本发明公开通过在甲醇中使水合肼与如下通式表示的化合物反应制得的1-氨基吡咯烷：X1-C4H8-X2(Ⅰ)式中X1和X2是相同或不同的，各表示离去基团；以及1-氨基吡咯烷的制备方法。该方法包括在甲醇中使水合肼与通式(Ⅰ)表示的化合物反应的步骤
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公开(公告)号：CN1280605A
公开(公告)日：2001-01-17
申请号：CN98810450.4
申请日：1998-07-10
Applicant: 大塚化学株式会社
Abstract: 提高一种固化性被显著抑制、长时间放置后仍保持良好流动性和在树脂中的分散性等的发泡剂及其制造方法。本发明的发泡剂是基本无水的发泡剂,通过用可除去发泡剂中的水分的表面处理剂对发泡剂进行处理并视需要在处理时或处理后进行加热而得到。
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公开(公告)号：CN1263530A
公开(公告)日：2000-08-16
申请号：CN99800517.7
申请日：1999-04-02
Applicant: 大塚化学株式会社
IPC: C07D499/10 , C07D501/04 , C07D499/865
CPC classification number: C07D499/00 , C07D501/00
Abstract: 一种卤化β－内酰胺类化合物的制造方法,其特征为:使通式(1)表示的β－内酰胺类氨基化合物,在卤分子存在、酸性条件下和亚硝酸或亚硝酸盐在水中通过淤浆分散状态反应,得到通式(4)表示的卤化β－内酰胺类化合物。n表示0—2的整数。A表示式(2)或(3)。R1、R2相同或不同,表示氢原子、卤原子、C1－C3的烷基、C2－C4的链烯基、C2－C4的炔基、亲核性基、或CH2R3,R3表示卤原子或亲核性基。式(4)中A与上述相同。X1表示氢原子或卤原子。X2表示卤原子。
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公开(公告)号：CN1252783A
公开(公告)日：2000-05-10
申请号：CN98804215.0
申请日：1998-12-10
Applicant: 大塚化学株式会社
IPC: C07B39/00 , C07C17/16 , C07C211/62 , C07D213/63 , C07D205/08
CPC classification number: C07C257/02 , C07B39/00 , C07C17/16
Abstract: 式(1)表示的卤化剂和羟基的卤化方法。(式中R1和R2相同或不同,表示乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基或烯丙基。X表示氯原子或溴原子。Y表示氯离子、溴离子、二氯代磷酸根离子、二溴代磷酸根离子、氯磺酸根离子、溴磺酸根离子、氯代草酸根离子或溴代草酸根离子。)
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1246118A
公开(公告)日：2000-03-01
申请号：CN98802112.9
申请日：1998-01-27
Applicant: 大塚化学株式会社
IPC: C07D405/04 , C07D409/04 , A01N43/82 , A61K31/41
CPC classification number: C07D405/04 , A01N43/653
Abstract: 本发明提供一种新的具有高效杀菌活性和高效除草活性的色酮衍生物。本发明的色酮衍生物由通式(1)表示，其中X,Y和Z相同或不同,并且各自代表氧或硫;R1代表氢或C1－6烷基等;R2代表氢或C1－6烷基;R3代表氢或卤素等;m为1—3的整数;R4代表氢等;和R5代表氢等。
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公开(公告)号：CN1236482A
公开(公告)日：1999-11-24
申请号：CN98801111.5
申请日：1998-08-04
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/31116 , C11D3/3784 , C11D7/16 , C11D7/32 , C11D7/3272 , C11D11/0023 , C11D11/0047 , G02F2001/133302 , H01L21/02063
Abstract: 本发明的清洁剂包含作为活性成分的由正磷酸和脲反应产生的多磷酸－脲缩合物或磷酸－脲聚合物。这种清洁剂用于半导体器件生产过程或液晶器件生产过程中至少一步中的金属表面和/或玻璃表面的清洁。根据本发明,可以在高的环境和工作安全性条件下,有效地清洁金属(包括半金属)和玻璃表面的蚀刻残余物及杂质,而且不会引起金属腐蚀的问题。
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公开(公告)号：CN1045085C
公开(公告)日：1999-09-15
申请号：CN94113746.5
申请日：1994-11-01
Applicant: 大塚化学株式会社
IPC: C07C245/04
CPC classification number: B01J2/00 , C09B67/0095
Abstract: 本发明提供一种用于制造水溶性偶氮化合物圆粒的方法，该方法包括将水溶性偶氮化合物分散在不溶于水的溶剂内，然后滴入水或能溶解水溶性偶氮化合物的亲水性溶剂，同时进行搅拌以使水溶性偶氮化合物在该溶液内成粒；此外还提供了圆粒状水溶性偶氮化合物。
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公开(公告)号：CN1125933A
公开(公告)日：1996-07-03
申请号：CN95190234.2
申请日：1995-02-10
Applicant: 日本工机株式会社 , 大世吕化学工业株式会社 , 大塚化学株式会社
Inventor： 吉田忠雄
Abstract: 本发明提供了能减小生成气体中的有害气体成分、特别是一氧化碳的浓度的气体发生剂组合物，另外，还提供了可以高效率地将其制成适当形状的制剂而不会发生爆炸或火灾等危险、并且可制成具有耐久性的坚固的气体发生剂组合物制剂的制造方法。本发明的气体发生剂组合物含有含氮有机化合物和含氧无机氧化剂作为必要成分，并且含有由元素周期表的第I族、第IV族、第V族、第VI族、第VII族和第VIII族中的至少两种成分构成的氧化物系催化剂。本发明的方法是具有下述特征的气体发生剂的制剂化方法：相对于以含氮有机化合物和卤氧酸盐作为必要成分并含有氧化物系催化剂的原料，添加5-20％(重量)的水后混合，得到湿态混合物，然后将所得湿态混合物造粒，形成湿颗粒，将该湿颗粒干燥后得到松散制剂，再将所得到的松散制剂压制成片。
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公开(公告)号：CN1120834A
公开(公告)日：1996-04-17
申请号：CN94191747.9
申请日：1994-12-26
Applicant: 大塚化学株式会社
IPC: C07B31/00
CPC classification number: C07D403/04 , C07B33/00 , C07B41/06 , C07C45/40 , C07C46/04 , C07C51/34 , C07C323/12 , C07C323/20 , C07C323/52 , C07C323/60 , C07D205/095 , C07D205/10 , C07D513/04 , C07J1/0011 , C07J13/007 , C07J71/0005 , C07C47/544 , C07C49/553 , C07C47/445 , C07C47/02 , C07C50/18
Abstract: 本发明提供了一种用于有机化合物臭氧分解的臭氧化物还原剂，该臭氧化物还原剂有广泛的用途，从商业角度看安全和价廉，而且容易作清除处理。本发明的臭氧化物还原剂是一种分子内硫的两端各有一个被极性官能基取代的烃基的化合物。
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