公开(公告)号：KR100238387B1

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019980000641

申请日：1998-01-13

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 박달근 ,  이중기 ,  우주만

IPC: B01D53/34

Abstract: 화학 증착 시스템에서 배출되는 미반응 유독가스의 정화 장치에 있어서, 유기 화합물의 연소를 위한 니크롬선이 내장된 열분해 시스템과, 용해성 가스를 제거할 수 있는 향류 접촉식 물세척 시스템으로 이루어지며, 상기 열분해 시스템과 상기 물세척 시스템은 상호 연결되어 있는, 소형 화학 증착 시스템의 배기가스 처리에 적합한 다단식 배기가스 정화 장치, 및 이러한 장치를 사용한 배기가스 정화 방법이 개시되어 있다. 본 발명에 따라 특별한 구동 장치 없이도 복합 성분으로 이루어진 유기 화합물을 고효율로 처리하는 것이 가능하며, 열분해 시스템의 구성이 극히 간단하여 스위치의 개폐에 의해서도 장치의 작동이 가능하고, 장치가 소형이고 간단하므로 유지비가 저렴하다.

公开(公告)号：KR1019990073768A

公开(公告)日：1999-10-05

申请号：KR1019980006879

申请日：1998-03-03

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 박달근 ,  이중기 ,  우주만

IPC: B01J8/18

Abstract: 본 발명은 유류 등으로 오염된 토양을 유동상을 이용 열 탈착하여 정화 처리하는 데 있어서 탈착 가스를 주기적으로 공급하여 토양에 흡착되어 있는 유류를 탈착하는 데 필요한 가스의 총량을 저감시키고, 반응기 자체의 탈착 효율을 처리 가스 연속 공급시와 거의 같게 할 수 있는 열 탈착 처리 장치를 제공하는 것으로서, 별도의 구동 장치를 요하지 않으면서도 연소열이 고효율로 탈착기에 전달되며, 유동상 처리 장치는 주기적으로 조작되므로 폐가스의 발생량을 원천적으로 억제할 수 있다.

公开(公告)号：KR100120018B1

公开(公告)日：1997-10-27

申请号：KR1019940017484

申请日：1994-07-20

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 임태훈 ,  이중기 ,  홍성안 ,  오인환 ,  남석우 ,  우주만

IPC: C01B31/04

Abstract: Process for coating nitride or silicone oxide on a graphite laboratory vessel for a high temperature by a chemical vapor deposition is described. Thus, the process is composed of i)building a graphite in a shape they want, ii)coating the formed graphite by using SiH4/H2 gas at 250-400 deg.C at 1-10 Torr in a low pressure chemical vapor deposition reactor to give silicon oxide film or by using SiH4/H2/NH3 gas at 300-400 deg.C in 0.1-0.5 Torr at 50-100 W of electric power in a plasma enhanced chemical vapor deposition reactor to give silicon nitride film, iii)heat processing in nitrogen or oxygen atmosphere at 600-900 deg.C for 1 hr.

Abstract translation: 描述了通过化学气相沉积在石墨实验室容器上涂覆高温的氮化物或氧化硅的方法。 因此，该方法由以下组成：i）以所需形状构造石墨，ii）在低压化学气相沉积反应器中在1-10托的250-400℃下使用SiH4 / H2气体涂覆形成的石墨 在等离子体增强化学气相沉积反应器中，在50〜100W的功率下，在0.3-4.0摄氏度下使用SiH4 / H2 / NH3气体，在0.1-0.5乇下，得到氮化硅膜，iii） 在氮气或氧气氛中在600-900℃下加热处理1小时。

公开(公告)号：KR1019970020138A

公开(公告)日：1997-05-28

申请号：KR1019950035388

申请日：1995-10-13

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 박달근 ,  이중기 ,  우주만

IPC: B01J8/24

Abstract: 본 발명은 기체-고체 접촉장치에 관한 것이다. 종래에도 다양한 종류의 기체-고체 접촉장치가 안출되어 있으나, 이들은 기체-고체 접촉효율이 저하되거나 압력강하가 발생되고, 고체입자의 제류량분포의 제어가 어렵고, 고체입자의 크기 및 입자강도의 범위에 한계가 있었다. 본 발명은 수직으로 설치되는 통형의 접촉장치 본체에 상부로부터 고체입자를 투입하여 낙하시키면서 기체를 하부측에서 상부로 상향 유통시킴과 아울러 본체 내부에는 다단의 제어밸브를 설치하여 이 제어밸브의 상,하부측 압력을 측정하여 그 차압에 따라 제어밸브의 개폐정도를 제어함으로써 기체-고체의 접촉효율이 향상되고 압력의 강하가 배제되며 고체입자의 크기와 입자 강도의 범위에 한계가 없게 되며 고체입자의 체류량을 최적한 상태로 제어할 수 있도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR102198785B1

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：KR1020190065378

申请日：2019-06-03

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이중기 ,  우주만 ,  김지영 ,  리안다엥가르아누그라아르디 ,  유현진 ,  민후안트란

IPC: H01M4/36 ,  H01M4/38 ,  H01M4/48 ,  H01M4/62 ,  H01M4/1395 ,  H01M4/04 ,  H01M10/052 ,  C23C16/505 ,  C23C16/18 ,  C01B32/156

Abstract: 본발명은주석-풀러렌복합체(Sn-PC60; SPC)를포함하는리튬이차전지용음극활물질, 이를포함하는리튬이차전지용음극, 리튬이차전지및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의주석-풀러렌복합체(Sn-PC60; SPC)는나노사이즈의주석입자가균일하게분포되어싸이클에따른전극열화가방지(전극부피팽창에대한자가완화효과)되며, 주석-산화주석-플라즈마중합풀러렌의계층구조를형성하여율특성이향상(리튬이온확산속도가속화효과)된다.

公开(公告)号：KR102171532B1

公开(公告)日：2020-10-29

申请号：KR1020180121839

申请日：2018-10-12

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이중기 ,  우주만 ,  유계성 ,  김지영 ,  엥가르 ,  민후안트란 ,  유현진

IPC: H01M12/08 ,  H01M12/06 ,  H01M4/134 ,  H01M4/06 ,  H01M10/0565 ,  H01M4/96 ,  H01M4/38 ,  H01M4/92

公开(公告)号：KR101833401B1

公开(公告)日：2018-04-13

申请号：KR1020160073923

申请日：2016-06-14

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 최원창 ,  정경윤 ,  이중기 ,  장원영 ,  정훈기 ,  우주만 ,  이용호 ,  노한아 ,  김형우 ,  이으뜸 ,  마틴할림

IPC: H01M4/36 ,  H01M4/38 ,  H01M4/134 ,  H01M10/054

Abstract: 본발명은실리콘옥시카바이드복합체, 이의제조방법및 이를포함하는나트륨이차전지용음극소재에관한것으로, 보다상세하게는안티몬, 게르마늄, 셀레늄및 갈륨중에서선택되는 1종이상의나노입자가실리콘옥시카바이드에담지된실리콘옥시카바이드복합체를제조하고, 이를이용함으로써충/방전시발생하는부피팽창억제및 우수한전기화학적특성을나타내는이차전지용음극소재로응용할수 있다.

公开(公告)号：KR101840339B1

公开(公告)日：2018-03-20

申请号：KR1020150171698

申请日：2015-12-03

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  (주)아이엠

Inventor： 이중기 ,  최원창 ,  정훈기 ,  우주만 ,  박지훈 ,  김의중 ,  송호섭 ,  김아영 ,  김민규 ,  후다야차이룰 ,  할림마틴

IPC: H05B3/84 ,  H05B3/12 ,  H01B1/02 ,  H01B1/08

Abstract: 본발명은분산형금속나노점계면을갖는투명발열막에관한것으로서, 더욱구체적으로는폴리에틸렌테레프탈레이트(PET); PET 필름상에형성된은 나노와이어층; 낮은저항계면특성을위하여은 나노와이어층상에형성된분산형금속나노점들(nanodots); 및상기은 나노와이어층및 나노점상에형성된투명전도성산화막(TCO)을포함함으로써, 증착된분산형금속나노점에의해은 나노와이어층에낮은저항계면특성이부여되고, 저전압하의발열성능이종래에비해크게향상된투명발열막에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020170109938A

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：KR1020160034183

申请日：2016-03-22

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이중기 ,  최원창 ,  정훈기 ,  후다야차이룰 ,  우재영 ,  김지영 ,  우주만 ,  김아영

IPC: C01B31/04 ,  C23C14/18 ,  C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  C23C14/24 ,  C23C28/00 ,  C23C14/58

CPC classification number: C01B32/184 ,  C01B2204/04 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/18 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C14/5806 ,  C23C28/32 ,  C23C28/341 ,  C23C28/345

Abstract: 본발명은플러렌(C)을전구체로이용하는대면적그래핀의제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는실리콘기판표면의이산화실리콘막상에스퍼터법으로금속촉매인니켈박막을적층하는단계; 플러렌을전구체로사용하여진공열증착법으로상기니켈박막상에분해된플러렌의박막을적층하는단계; 및상기적층된구조체를어닐링하여다층의시트형그래핀을얻는단계;를포함함으로써, 종래의식각공정및 전이공정을거치지않으므로공정이단순하고친환경적이며, 조각형태의그래핀이아닌대면적시트형그래핀을효과적으로제조할수 있는장점이있다.

Abstract translation: 本发明包括：沉积镍金属催化剂的薄膜的步骤，涉及使用富勒烯（C）作为前体产生的区域的石墨烯haneundae的方法，并且更具体地，涉及在硅衬底表面上形成二氧化硅膜的溅射方法; 使用富勒烯作为前体，通过真空热蒸镀在镍薄膜上沉积分解的富勒烯薄膜; 并获得通过退火多层的片状石墨烯，所述堆叠结构;通过包括，并且因此通过常规蚀刻工艺和过渡过程去，这个过程是简单的和环境友好的，在是的非针大型片状石墨的形式的片 可以有效地制造。

公开(公告)号：KR1020160113811A

公开(公告)日：2016-10-04

申请号：KR1020150039947

申请日：2015-03-23

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 정훈기 ,  오인환 ,  이중기 ,  최원창 ,  우주만 ,  정민기 ,  두호앙롱 ,  모비눌

IPC: H01M4/36 ,  H01M4/485 ,  H01M4/587 ,  H01M4/131 ,  H01M10/0525 ,  H01G11/22 ,  H01G11/06

Abstract: 본발명은리튬티타늄산화물및 지방족아민을혼합하여 80 내지 120 ℃에서환류시켜리튬티타늄산화물표면에지방족아민을코팅시키는단계; 상기혼합물을원심분리하여고형분을얻는단계; 상기고형분을건조시키는단계; 및상기건조된고형분을탄화시키는단계;를포함하는리튬티타늄산화물(LiTiO) 표면에지방족아민유래의탄소코팅층및 질소도핑층을함유하는리튬티타늄산화물-탄소-질소복합소재의제조방법및 상기방법으로제조된복합소재에관한것이다.