公开(公告)号：JP5690268B2

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：JP2011524443

申请日：2009-08-25

Applicant: ザ ユニバーシティー コート オブザ ユニバーシティー オブ グラスゴー ,  ザ ユニバーシティー コート オブ ザ ユニバーシティー オブ グラスゴー

Inventor： ジョナサン・マーク・ラルフ・ウィーバー ,  フィリップ・スティーブン・ドブソン ,  デイビッド・ポール・バート ,  スティーブン・トムス ,  ケビン・エドワード・ドチャーティ ,  チャン・ユアン

IPC: G01B11/00 ,  G01N21/45

CPC classification number: G01D5/266 ,  G01D5/38 ,  G01D11/00 ,  G01J9/0246 ,  G01J2009/0234 ,  G01N21/45 ,  G03H1/0005

公开(公告)号：JP2012500989A

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：JP2011524443

申请日：2009-08-25

Applicant: ザ ユニバーシティー コート オブ ザ ユニバーシティー オブ グラスゴー

Inventor： ケビン・エドワード・ドチャーティ ,  ジョナサン・マーク・ラルフ・ウィーバー ,  スティーブン・トムス ,  チャン・ユアン ,  デイビッド・ポール・バート ,  フィリップ・スティーブン・ドブソン

IPC: G01B11/00 ,  G01N21/45

CPC classification number: G01D5/266 ,  G01D5/38 ,  G01D11/00 ,  G01J9/0246 ,  G01J2009/0234 ,  G01N21/45 ,  G03H1/0005

Abstract: 可視光干渉パターンの様々な使用が提供される。 適した干渉パターンは、絞りのパターンからの回折により形成されるパターンである。 本明細書中で開示される典型的な使用は、並進及び／又は角度位置決定システムなどの空間計測学に関連する。 更なる使用は、光自体の特性の解析（例えば、電磁放射線の波長の決定）を含む。 更なる他の使用は、光が通過する物質の１つ以上の特性（例えば屈折率）の解析を含む。 干渉パターンの一部がＣＣＤチップなどの画素化された検出器で捕らえられ、捕らえられたパターンが計算されたパターンと比較される。 最大値間の間隔の非常に正確な測定が可能であり、したがって、干渉パターン中における検出器の位置の非常に正確な測定を行なうことができる。

公开(公告)号：JP4522724B2

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：JP2004074409

申请日：2004-03-16

Applicant: 株式会社トプコン

Inventor： キンプイ チャン ,  央 塚田 ,  浩之 大塚 ,  康文 福間 ,  正博 秋葉

IPC: G01N21/17 ,  A61B10/00 ,  G01B9/02 ,  G01B11/24 ,  G01J9/02 ,  G01J9/04

CPC classification number: G01B9/02007 ,  G01B9/02003 ,  G01B9/02041 ,  G01B9/02069 ,  G01B2290/45 ,  G01J2009/0234

公开(公告)号：JP2007305732A

公开(公告)日：2007-11-22

申请号：JP2006131490

申请日：2006-05-10

Applicant: Sony Corp ,  ソニー株式会社

Inventor： TANAKA FUJI ,  SAKO KAGEYASU ,  KASEGAWA AKIRA ,  YAMADA SHINJI ,  AZUMA KATSUHIRO

IPC: H01S5/0687 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/125

CPC classification number: G01J9/00 ,  G01J9/0246 ,  G01J2009/0234 ,  H01S5/0014 ,  H01S5/0071 ,  H01S5/0612 ,  H01S5/0654 ,  H01S5/141 ,  H01S5/143

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser device capable of changing a laser wavelength over a wide range. SOLUTION: Light beams are emitted from a laser diode 11 having characteristics oscillating a multi-mode and changing the wavelength of an oscillation in response to a temperature, and light beams are reflected from a grating 13. The wavelength of light beams from the laser diode 11 is used as a specified wavelength in response to the positional relationship of the laser diode 11 and the grating 13. The variable range of the wavelength of light beams from the laser diode 11 is extended by cooling or heating the laser diode 11 by a Peltier element 35, and the range of the wavelength is extended in light beams 25 used for electronic equipment. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够在宽范围内改变激光波长的激光装置。 解决方案：光束从具有振荡多模的特性的激光二极管11发射并且响应于温度改变振荡的波长，并且光束从光栅13反射。来自 激光二极管11响应于激光二极管11和光栅13的位置关系而被用作指定波长。激光二极管11的光束的波长的可变范围通过冷却或加热激光二极管11来延长 通过珀尔帖元件35，并且波长的范围在用于电子设备的光束25中延伸。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

公开(公告)号：KR101879549B1

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：KR1020170121858

申请日：2017-09-21

Applicant: 캐논 가부시끼가이샤

Inventor： 사토히로시

IPC: B29C59/02 ,  G03F7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G01J2009/0234 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065

Abstract: 본발명은, 기판상의임프린트재료그리고몰드의패턴을서로접촉시킴으로써임프린트재료에패턴을형성하도록구성되는임프린트장치에있어서, 임프린트재료와몰드의패턴의일부를접촉시키고그 다음에몰드의패턴과임프린트재료사이의접촉표면적이증가되도록임프린트재료와패턴을접촉시키는구동유닛과; 몰드의패턴으로부터의반사광 그리고기판으로부터의반사광에의해발생되는간섭프린지를검출하는간섭프린지검출유닛과; 간섭프린지를기초로하여몰드의패턴과임프린트재료사이의접촉상태를검출하는상태검출유닛을포함하는임프린트장치를제공한다.

公开(公告)号：KR1020150031202A

公开(公告)日：2015-03-23

申请号：KR1020140120855

申请日：2014-09-12

Applicant: 캐논 가부시끼가이샤

Inventor： 사토히로시

IPC: B29C59/02 ,  G03F7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G01J2009/0234 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  B29C59/02 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 본 발명은, 기판 상의 임프린트 재료 그리고 몰드의 패턴을 서로 접촉시킴으로써 임프린트 재료에 패턴을 형성하도록 구성되는 임프린트 장치에 있어서, 임프린트 재료와 몰드의 패턴의 일부를 접촉시키고 그 다음에 몰드의 패턴과 임프린트 재료 사이의 접촉 표면적이 증가되도록 임프린트 재료와 패턴을 접촉시키는 구동 유닛과; 몰드의 패턴으로부터의 반사 광 그리고 기판으로부터의 반사 광에 의해 발생되는 간섭 프린지를 검출하는 간섭 프린지 검출 유닛과; 간섭 프린지를 기초로 하여 몰드의 패턴과 임프린트 재료 사이의 접촉 상태를 검출하는 상태 검출 유닛을 포함하는 임프린트 장치를 제공한다.

Abstract translation: 压印装置技术领域本发明涉及一种压印装置，其通过与基板上的压印材料和模具的图案接触而在压印材料上形成图案。 提供的压印装置包括：驱动单元，与压印材料的一部分和图案接触，并使压印材料和图案接触，使得模具图案和压印材料之间的接触表面积增加; 干涉条纹检测单元，检测由来自模具的图案的反射光和来自基板的反射光产生的干涉条纹; 以及检测单元，其基于干涉条纹检测模具的图案和压印材料之间的接触状态。

公开(公告)号：KR1020090094768A

公开(公告)日：2009-09-08

申请号：KR1020090017683

申请日：2009-03-02

Applicant: 캐논 가부시끼가이샤

Inventor： 가꾸찌오사무

IPC: G01B11/03 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01M11/0271 ,  G01J2009/0234 ,  G03B27/00 ,  G03F7/706 ,  G01B9/02041

Abstract: An evaluation method, an evaluation apparatus, and an exposure apparatus are provided to evaluate the optical property of an optical system to be evaluated by calculating the optical property of a projection optical system using determined pupil barycentric coordinates. A method for evaluating the optical property of an optical system using an interferometer comprises following steps. A first interference pattern is obtained by a interferometer when the arrangement of the moving element of the interferometer in the optical axis of an optical system(4) is the first arrangement. When the arrangement of the moving element is the second arrangement, a second interference pattern formed owing to the interferometer is obtained. The pupil barycentric coordinates of the optical system is determined based on the obtained first interference pattern and the obtained second interference pattern. By using the determined pupil barycentric coordinates, the optical property of the optical system is calculated.

Abstract translation: 提供评估方法，评估装置和曝光装置，以通过使用确定的瞳孔重心坐标计算投影光学系统的光学特性来评估要评估的光学系统的光学特性。 使用干涉仪的光学系统的光学特性的评价方法包括以下步骤。 当干涉仪的移动元件在光学系统（4）的光轴上的布置是第一布置时，通过干涉仪获得第一干涉图案。 当移动元件的布置是第二布置时，获得由干涉仪形成的第二干涉图案。 基于获得的第一干涉图案和获得的第二干涉图案来确定光学系统的瞳孔重心坐标。 通过使用确定的瞳孔重心坐标，计算光学系统的光学性质。

公开(公告)号：TW200951414A

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：TW098105667

申请日：2009-02-23

Applicant: 佳能股份有限公司

Inventor： 此內修

IPC: G01J ,  G03F

CPC classification number: G01M11/0271 ,  G01J2009/0234 ,  G03B27/00 ,  G03F7/706

Abstract: 一種評估方法，使用干涉儀來評估要被評估的光學系統的光學特徵，方法包括：第一擷取步驟，當在光學系統的光軸方向上干涉儀的可移動元件的位置為第一地點時，擷取由干涉儀所形成的第一干涉條紋；第二擷取步驟，當在光軸方向上的可移動元件的位置為不同於第一地點之第二地點時，擷取由干涉儀所形成的第二桿涉條紋；決定步驟，根據取得的第一干涉條紋及取得的第二干涉儀條紋，以決定光學系統的光瞳中心座標；以及，計算步驟，使用決定步驟中所決定的光瞳中心座標，以計算光學系統的光學特徵。

Abstract in simplified Chinese: 一种评估方法，使用干涉仪来评估要被评估的光学系统的光学特征，方法包括：第一截取步骤，当在光学系统的光轴方向上干涉仪的可移动组件的位置为第一地点时，截取由干涉仪所形成的第一干涉条纹；第二截取步骤，当在光轴方向上的可移动组件的位置为不同于第一地点之第二地点时，截取由干涉仪所形成的第二杆涉条纹；决定步骤，根据取得的第一干涉条纹及取得的第二干涉仪条纹，以决定光学系统的光瞳中心座标；以及，计算步骤，使用决定步骤中所决定的光瞳中心座标，以计算光学系统的光学特征。

公开(公告)号：TW201518068A

公开(公告)日：2015-05-16

申请号：TW103129554

申请日：2014-08-27

Applicant: 佳能股份有限公司 ,  CANON KABUSHIKI KAISHA

Inventor： 佐藤浩司 ,  SATO, HIROSHI

IPC: B29C59/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G01J2009/0234 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065

Abstract: 本發明提供一種壓印設備，其係配置成藉由使在基板上的壓印材料與模具的圖案相互接觸來以壓印材料形成圖案，壓印設備包括驅動單元、干涉條紋偵測單元以及狀態偵測單元，驅動單元係使模具的圖案的部分與壓印材料接觸，且使圖案與壓印材料接觸，使模具的圖案與壓印材料之間的接觸表面區域增加，干涉條紋偵測單元係偵測由來自模具的圖案之反射光和來自基板的反射光所產生的干涉條紋，狀態偵測單元係在干涉條紋的基礎上去偵測模具的圖案及壓印材料之間的接觸狀態。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种压印设备，其系配置成借由使在基板上的压印材料与模具的图案相互接触来以压印材料形成图案，压印设备包括驱动单元、干涉条纹侦测单元以及状态侦测单元，驱动单元系使模具的图案的部分与压印材料接触，且使图案与压印材料接触，使模具的图案与压印材料之间的接触表面区域增加，干涉条纹侦测单元系侦测由来自模具的图案之反射光和来自基板的反射光所产生的干涉条纹，状态侦测单元系在干涉条纹的基础上去侦测模具的图案及压印材料之间的接触状态。