具有無溶劑紋理層的消費性擦洗物品及其製造方法
    81.
    发明专利
    具有無溶劑紋理層的消費性擦洗物品及其製造方法 审中-公开
    具有无溶剂纹理层的消费性擦洗物品及其制造方法

    公开(公告)号:TW201804951A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:TW106106572

    申请日:2017-02-24

    Abstract: 一種擦洗物品,其包括基材及紋理層。該紋理層係形成在該基材的至少一表面上,而且是無溶劑紋理層。該紋理層可以包括塑料溶膠油墨或熱熔黏著劑,而且可以進一步包括複數個陶瓷微球。亦提供製造方法,其中將無溶劑紋理層組成物施加至基材然後固體化以形成紋理層。在一些非限制性實施例中,該紋理層組成物包括熱熔黏著劑並且係施加至處於潤濕纖維素海綿之形式的基材。

    Abstract in simplified Chinese: 一种擦洗物品,其包括基材及纹理层。该纹理层系形成在该基材的至少一表面上,而且是无溶剂纹理层。该纹理层可以包括塑料溶胶油墨或热熔黏着剂,而且可以进一步包括复数个陶瓷微球。亦提供制造方法,其中将无溶剂纹理层组成物施加至基材然后固体化以形成纹理层。在一些非限制性实施例中,该纹理层组成物包括热熔黏着剂并且系施加至处于润湿纤维素海绵之形式的基材。

    含有至金屬互連之增強黏著性之奈米線接觸墊
    83.
    发明专利
    含有至金屬互連之增強黏著性之奈米線接觸墊 审中-公开
    含有至金属互连之增强黏着性之奈米线接触垫

    公开(公告)号:TW201804302A

    公开(公告)日:2018-02-01

    申请号:TW106111282

    申请日:2017-03-31

    CPC classification number: G06F3/044 G06F2203/04112

    Abstract: 本發明揭示一種電容式觸敏設備,其包括一觸敏式觀看區域,該觸敏式觀看區域經組態以藉由偵測一耦合電容中的一變化來偵測施加至該觸敏式觀看區域的一觸碰之一位置。一邊框區域環繞該觸敏式觀看區域。一電傳導第一電極包括:一主動部分,其設置在該觸敏式觀看區域中且延伸橫跨該觸敏式觀看區域;及一末端部分,其在該第一電極之一末端處、設置在該邊框區域中以供連接至一控制器。該第一電極之該主動部分具有橫跨該觀看區域的一實質上均勻第一片電阻。依一電傳導網形式圖案化的該第一電極之該末端部分包括複數個互連傳導跡線,該複數個互連傳導跡線於其等之間界定複數個格隙,該等跡線具有實質上該第一片電阻,且該等格隙具有一較高第二片電阻。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种电容式触敏设备,其包括一触敏式观看区域,该触敏式观看区域经组态以借由侦测一耦合电容中的一变化来侦测施加至该触敏式观看区域的一触碰之一位置。一边框区域环绕该触敏式观看区域。一电传导第一电极包括:一主动部分,其设置在该触敏式观看区域中且延伸横跨该触敏式观看区域;及一末端部分,其在该第一电极之一末端处、设置在该边框区域中以供连接至一控制器。该第一电极之该主动部分具有横跨该观看区域的一实质上均匀第一片电阻。依一电传导网形式图案化的该第一电极之该末端部分包括复数个互连传导迹线,该复数个互连传导迹线于其等之间界定复数个格隙,该等迹线具有实质上该第一片电阻,且该等格隙具有一较高第二片电阻。

    拋光系統及其製造與使用方法
    88.
    发明专利
    拋光系統及其製造與使用方法 审中-公开
    抛光系统及其制造与使用方法

    公开(公告)号:TW201742136A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:TW106104914

    申请日:2017-02-15

    CPC classification number: C09G1/00

    Abstract: 一種拋光系統包括一待拋光基材及一拋光墊。該拋光墊包括一基底層及一耐磨層。該系統進一步包括一拋光溶液,該拋光溶液係設置在該拋光墊與該基材之間。該拋光溶液包括一流體組分及複數個陶瓷研磨複合物。該等陶瓷研磨複合物包括均勻分散在一多孔陶瓷基質之各處中的個別磨粒。該多孔陶瓷基質之至少一部分包括玻璃陶瓷材料。該等陶瓷研磨複合物係分散在該流體組分中。

    Abstract in simplified Chinese: 一种抛光系统包括一待抛光基材及一抛光垫。该抛光垫包括一基底层及一耐磨层。该系统进一步包括一抛光溶液,该抛光溶液系设置在该抛光垫与该基材之间。该抛光溶液包括一流体组分及复数个陶瓷研磨复合物。该等陶瓷研磨复合物包括均匀分散在一多孔陶瓷基质之各处中的个别磨粒。该多孔陶瓷基质之至少一部分包括玻璃陶瓷材料。该等陶瓷研磨复合物系分散在该流体组分中。

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