公开(公告)号：JP5405453B2

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：JP2010511421

申请日：2008-06-09

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： クルカーニ・アショック ,  ダフィー・ブライアン ,  マーヤー・カイス ,  ラウス・ゴードン ,  シフリン・ユージン

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G06F17/5045 ,  G06T7/0006 ,  G06T7/33 ,  G06T2207/30148 ,  H01L21/67005

公开(公告)号：JP2013242595A

公开(公告)日：2013-12-05

申请号：JP2013156941

申请日：2013-07-29

Applicant: Kla-Tencor Corp ,  ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： HWANG SHIOW-HWEI ,  GREGORY L KIRK ,  HWAN J JEONG ,  DAVID SHAFER ,  RUSSELL HUDYMA

IPC: G02B17/08 ,  G01N21/956 ,  G02B13/18

CPC classification number: G02B17/0808 ,  G02B17/0652 ,  G02B17/084 ,  G02B21/04

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a broadband objective optical system and a broadband optical imaging system with two imaging paths or more that allow a use of a much shorter wavelength to improve resolving power as to an imaging optical device for sample inspection and avoid a risk of contaminant diffusion on a wafer.SOLUTION: An optical system includes an objective optical system with at least four mirrors and a focus adjustment optical system, and the mirrors include an outermost mirror with an aspect ratio equal to or less than 20:1. The focus adjustment optical system includes a refractive optical element. The objective optical system is configured to provide imaging at a numerical aperture equal to or greater than 0.7 and with central obscuration as low as 35%. The objective optical system may include two mirrors or more and one of the two or more mirrors contains a refractive module that seals off a central opening of the outermost mirror. The broadband imaging system may include one objective optical system and two or more imaging paths and the imaging paths are configured to provide imaging at the numeral aperture equal to or more than 0.7 and a field of view equal to or more than 0.8 mm.

Abstract translation: 要解决的问题：提供宽带物镜光学系统和宽带光学成像系统，其具有两个成像路径或更多，允许使用更短的波长来提高用于样本检查的成像光学装置的分辨率，并避免风险 污染物扩散在晶片上。解决方案：光学系统包括具有至少四个反射镜和焦点调节光学系统的物镜光学系统，并且反射镜包括具有等于或小于20:1的纵横比的最外镜。 聚焦调整光学系统包括折射光学元件。 物镜光学系统被配置为提供等于或大于0.7的数值孔径并且具有低至35％的中心遮蔽的成像。 物镜光学系统可以包括两个反射镜或多于一个，并且两个或更多个反射镜中的一个包含折射模块，该折射模块密封最外侧镜的中心开口。 宽带成像系统可以包括一个物镜光学系统和两个或更多个成像路径，并且成像路径被配置为提供等于或大于0.7的数值孔径和等于或大于0.8mm的视场的成像。

公开(公告)号：JP5249485B2

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：JP2002502809

申请日：2001-06-07

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： リー・シング・エム．

IPC: G01B15/02 ,  G01N23/22 ,  G01N23/225 ,  H01J37/244 ,  H01J37/252 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01B15/02 ,  G01N23/22 ,  H01J37/252 ,  H01J2237/24415 ,  H01J2237/2814

公开(公告)号：JP5225297B2

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：JP2009552906

申请日：2008-03-07

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： チェン・チエン−フエイ（アダム） ,  グプタ・アジェイ ,  ワリングフォード・リチャード ,  ナムジョシ・カウストゥブ ,  バン・リート・マイク ,  クック・マイケル

IPC: G01B11/00 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66

CPC classification number: G06T7/001 ,  G06T2207/30148

公开(公告)号：JP2013511152A

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：JP2012538879

申请日：2010-11-09

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： ビアフォア・ジョン・ジェイ ,  スミス・マーク・ディー ,  グレーブス・ジョン・エス ,  ブランケンシップ・デビッド

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/26

CPC classification number: G06F19/702 ,  G03F7/0045

Abstract: 【解決手段】フォトレジスト体積内における酸発生剤およびクエンチャの個数を判定するステップと、フォトレジスト体積により吸収された光子の個数を判定するステップと、酸に変換された酸発生剤の個数を判定するステップと、フォトレジスト体積内における酸とクエンチャとの反応の回数を判定するステップと、フォトレジスト体積の現像を計算するステップと、フォトレジスト体積の現像およびフォトレジストプロファイルの寸法特性の計測により形成された３次元的にシミュレーションされた走査型電子顕微鏡画像をプロセッサを用いて生成するステップとによる、フォトレジストプロファイルの寸法特性を計測するための、プロセッサに基づく方法が提供される。
【選択図】図４

Abstract translation: 一种用于测量光致抗蚀剂轮廓的尺寸特性的基于处理器的方法。 确定光致抗蚀剂体积内的酸产生剂和猝灭剂。 确定由光致抗蚀剂体积吸收的许多光子。 确定了转化为酸的多种酸产生剂。 确定光致抗蚀剂体积内的许多酸和猝灭剂反应。 计算光刻胶体积的发展。 处理器用于产生通过光刻胶体积的发展产生的光致抗蚀剂轮廓的三维模拟扫描电子显微镜图像。 测量光致抗蚀剂轮廓的尺寸特性。

公开(公告)号：JP2013504063A

公开(公告)日：2013-02-04

申请号：JP2012528011

申请日：2010-09-01

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： カンデル・ダニエル ,  レビンスキ・ブラディミル ,  スヴィツァー・アレクサンダー ,  セリグソン・ジョエル ,  ヒル・アンドリュー ,  バカー・オハド ,  マナッセン・アムノン ,  チャン・ユン−ホ・アレックス ,  セラー・イラン ,  マーコウィッツ・モシェ ,  ネグリ・ダリア ,  ロテム・エフライム

IPC: G01B11/02 ,  G01B11/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3065

CPC classification number: G01N21/47 ,  G01B11/02 ,  G01B11/0641 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/211 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/4792 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/105 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

Abstract: 様々な計測システムおよび計測方法が提供される。
【選択図】図１

公开(公告)号：JP2013012184A

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：JP2012119119

申请日：2012-05-25

Applicant: Kla-Tencor Corp ,  ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： HARISCH P HILIANNIER ,  DONALD WALKER

IPC: G06F17/18 ,  G06T7/60

CPC classification number: G06F17/18

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To determine a peak value in a histogram or sample data stream for data with a lot of noise.SOLUTION: An embodiment includes: fitting a curve modeled based on an orthonormal expansion to a data sequence; acquiring a derivative curve representing change in gradients in the curve fitted to the data sequence; finding at least one root of the derivative curve; calculating a corresponding value on the curve fitted to the data sequence for each of the one root of the derivative curve; and determining a peak value in the data sequence based on the maximum value of the corresponding values calculated for the one root of the derivative curve.

Abstract translation: 要解决的问题：确定具有大量噪声的数据的直方图或采样数据流中的峰值。 解决方案：一个实施例包括：将基于正交扩展建模的曲线拟合到数据序列; 获取表示拟合到数据序列的曲线中的梯度变化的导数曲线; 找到导数曲线的至少一个根; 计算拟合到导数曲线的每个根的数据序列的曲线上的相应值; 并且基于针对所述导数曲线的一根计算出的对应值的最大值来确定所述数据序列中的峰值。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012533884A

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：JP2012520698

申请日：2010-07-12

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： パーク・アレン ,  チャン・エリス ,  正身 青木 ,  ヤング・クリス・チー−チェン ,  プリハル・マーティン ,  バン・リート・マイケル・ジョン

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L22/12 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/7065

Abstract: 設計データおよび欠陥データを使用して複数のスキャナを適合化させるシステムおよび方法が説明される。 黄金ウェハは、黄金ツールを使用して処理される。 第２のウェハは、第２のツールを使用して処理される。 両方のツールとも、焦点／露光の調節を提供する。 両方のウェハのための重大な構造体のウェハレベル空間シグナチャは、スキャナの挙動を評価するために比較できる。 重大な構造体は、類似するパターンを有する黄金ウェハ上の欠陥をビニングすることによって識別できる。 一実施形態では、シグナチャは特定の割合の中で一致しなければならないか、または第２のツールが「不一致」として特徴付けられる。 レチクルは同様に比較することができ、黄金ウェハおよび第２のウェハが、それぞれ黄金レチクルおよび第２のレチクルを使用して処理される。
【選択図】図１

公开(公告)号：JP2012248535A

公开(公告)日：2012-12-13

申请号：JP2012116119

申请日：2012-05-22

Applicant: Kla-Tencor Corp ,  ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： THOMAS PLETTNER ,  MEHRAN NACEL-GOSH ,  ROBERT HEINES ,  RUDY GARCIA

IPC: H01J37/20 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/743

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To electrically ground a substrate through an insulating layer on a surface of the substrate by nondestructive method.SOLUTION: It relates to a device for forming a conductive passage through an insulating layer on a surface of a substrate. A first radiation source is arranged so as to emit radiation to a first region of the insulating layer and a first electric contact is arranged so as to apply a first bias voltage to the first region. A second radiation source is arranged so as to emit radiation to a second region of the insulating layer and a second electric contact is arranged so as to apply a second bias voltage to the second region. Conductivity of the regions is increased by radiation such that a conduction passage is formed through the insulating layer in the regions. In an embodiment, the device can be used in an electron beam apparatus. Another embodiment relates to a method for forming the conductive passage through the insulating layer.

Abstract translation: 要解决的问题：通过非破坏性方法将衬底电绝缘在衬底表面上的绝缘层。 解决方案：涉及用于形成通过基板表面上的绝缘层的导电通路的装置。 第一辐射源被布置成向绝缘层的第一区域发射辐射，并且布置第一电触点以便向第一区域施加第一偏置电压。 第二辐射源被布置成将辐射发射到绝缘层的第二区域，并且布置第二电触点以便向第二区域施加第二偏置电压。 通过辐射增加区域的电导率，使得通过该区域中的绝缘层形成传导通道。 在一个实施例中，该装置可以用在电子束装置中。 另一实施例涉及一种用于形成穿过绝缘层的导电通路的方法。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012247811A

公开(公告)日：2012-12-13

申请号：JP2012207059

申请日：2012-09-20

Applicant: Kla-Tencor Corp ,  ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： SHAFER DAVID ROSS ,  CHUANG YUNG-HO ,  TSAI BIN-MING BENJAMIN

IPC: G01N21/33 ,  G02B17/08 ,  G02B13/14 ,  G02B15/14 ,  G02B15/15 ,  G02B15/16 ,  G02B21/00 ,  G02B21/02 ,  G02B21/04 ,  G02B21/16 ,  G03C5/16 ,  G03F1/84 ,  G03F3/00 ,  G03F7/20 ,  H04N5/225

CPC classification number: G03F7/70616 ,  G02B17/0808 ,  G02B17/0856 ,  G02B17/0892 ,  G02B21/16 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/7065

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultra-broadband ultraviolet (UV) catadioptric imaging microscope system with wide-range zoom capability.SOLUTION: The microscope system, which comprises a catadioptric lens group and a zooming tube lens group, has high optical resolution in the deep UV wavelengths, continuously adjustable magnification, and a high numerical aperture. The system integrates microscope modules such as objectives, tube lenses and zoom optics to reduce the number of components, and to simplify the system manufacturing process. The preferred embodiment offers excellent image quality across a very broad deep ultraviolet spectral range, combined with an all-refractive zooming tube lens. The zooming tube lens is modified to compensate for higher-order chromatic aberrations that normally limits performance.

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有宽范围变焦能力的超宽带紫外（UV）反折射成像显微镜系统。

解决方案：包括反折射透镜组和变焦管透镜组的显微镜系统在深UV波长，连续可调放大倍率和高数值孔径下具有高分辨率。 该系统集成了诸如目标，管镜和变焦光学的显微镜模块，以减少部件数量，并简化系统制造过程。 优选实施例在非常广泛的深紫外光谱范围内提供优异的图像质量，与全折射变焦管透镜组合。 变焦管镜头被修改以补偿通常限制性能的高阶色差。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT